• “SMIC ทดสอบเครื่อง DUV ฝีมือจีนครั้งแรก — ความหวังใหม่สู่การผลิตชิป 5nm โดยไม่ต้องพึ่ง ASML”

    ในช่วงกลางเดือนกันยายน 2025 มีรายงานจาก Financial Times ว่า SMIC (Semiconductor Manufacturing International Corporation) ผู้ผลิตชิปรายใหญ่ของจีน กำลังทดสอบเครื่อง lithography แบบ DUV (Deep Ultraviolet) ที่ผลิตโดยบริษัทสตาร์ทอัพในประเทศชื่อ Yuliangsheng ซึ่งตั้งอยู่ในเซี่ยงไฮ้ นี่ถือเป็นครั้งแรกที่จีนสามารถผลิตเครื่อง DUV ได้เอง และอาจเป็นจุดเริ่มต้นของการพึ่งพาตนเองด้านอุปกรณ์ผลิตชิปขั้นสูง

    เดิมที SMIC ต้องพึ่งพาเครื่องจักรจาก ASML บริษัทเนเธอร์แลนด์ที่เป็นผู้นำด้านเทคโนโลยี lithography แต่เนื่องจากข้อจำกัดด้านการส่งออกจากสหรัฐฯ ทำให้จีนไม่สามารถเข้าถึงเครื่อง EUV (Extreme Ultraviolet) ได้ ซึ่งจำเป็นสำหรับการผลิตชิประดับ 5nm และต่ำกว่า

    แม้เครื่อง DUV ของ Yuliangsheng จะยังไม่สามารถเทียบเท่า EUV ได้ แต่มีการระบุว่าสามารถ “scale” การผลิตได้ถึงระดับ 5nm ด้วยเทคนิคการทำ pattern ซ้ำหลายชั้น (multi-patterning) อย่างไรก็ตาม วิธีนี้มีความเสี่ยงด้าน yield หรืออัตราการผลิตชิปที่ใช้งานได้จริง เนื่องจากการจัดตำแหน่งหลายชั้นอาจเกิดข้อผิดพลาดสะสม

    SMIC เคยใช้วิธีนี้ในการผลิตชิป 7nm มาก่อน และยอมรับ yield ที่ต่ำเพื่อให้สามารถผลิตได้ในปริมาณมาก ซึ่งอาจเป็นแนวทางเดียวกันสำหรับการผลิต 5nm ด้วยเครื่อง DUV ภายในประเทศ โดยเฉพาะเมื่อความต้องการชิป AI ในจีนเพิ่มขึ้นอย่างรวดเร็ว

    การพัฒนาเครื่อง DUV นี้ยังมีความท้าทาย เพราะแม้ส่วนใหญ่ของชิ้นส่วนจะผลิตในประเทศ แต่บางส่วนยังต้องนำเข้าจากต่างประเทศ อย่างไรก็ตาม Yuliangsheng กำลังพยายามพัฒนาให้ทุกชิ้นส่วนสามารถผลิตในจีนได้ในอนาคต

    ข้อมูลสำคัญจากข่าว
    SMIC กำลังทดสอบเครื่อง DUV ที่ผลิตโดยบริษัทจีน Yuliangsheng
    เป็นครั้งแรกที่จีนสามารถผลิตเครื่อง lithography แบบ DUV ได้เอง
    เครื่องนี้อาจสามารถ scale การผลิตชิปได้ถึงระดับ 5nm ด้วยเทคนิค multi-patterning
    SMIC เคยใช้วิธีนี้ในการผลิตชิป 7nm โดยยอมรับ yield ต่ำเพื่อให้ผลิตได้

    ความเคลื่อนไหวในอุตสาหกรรม
    ความต้องการชิป AI ในจีนเพิ่มขึ้นอย่างรวดเร็ว ทำให้ต้องเร่งพัฒนาอุปกรณ์ภายในประเทศ
    SMIC ไม่สามารถเข้าถึงเครื่อง EUV จาก ASML เนื่องจากข้อจำกัดด้านการส่งออก
    เครื่อง DUV ของ Yuliangsheng ใช้เทคโนโลยี immersion คล้ายกับของ ASML
    ส่วนประกอบบางส่วนยังนำเข้าจากต่างประเทศ แต่มีแผนพัฒนาให้ผลิตในจีนทั้งหมด

    ข้อมูลเสริมจากภายนอก
    SMIC เคยผลิตชิป 5nm โดยใช้เทคนิค SAQP (Self-Aligned Quadruple Patterning) บนเครื่อง DUV
    Huawei ใช้ชิปจาก SMIC ใน Ascend 920 ที่ผลิตบนกระบวนการ 6nm และให้ประสิทธิภาพสูงถึง 900 TFLOPS1
    บริษัทจีนอย่าง AMEC และ NAURA เริ่มแข่งขันกับ Lam Research และ TEL ในด้านอุปกรณ์ประกอบการผลิตชิป
    จีนตั้งเป้าเป็นผู้ผลิตชิปอันดับหนึ่งของโลกภายในปี 2030 โดยเน้นการพึ่งพาตนเองในทุกขั้นตอน

    https://wccftech.com/china-smic-reportedly-testing-nations-first-self-built-duv-machine/
    🔬 “SMIC ทดสอบเครื่อง DUV ฝีมือจีนครั้งแรก — ความหวังใหม่สู่การผลิตชิป 5nm โดยไม่ต้องพึ่ง ASML” ในช่วงกลางเดือนกันยายน 2025 มีรายงานจาก Financial Times ว่า SMIC (Semiconductor Manufacturing International Corporation) ผู้ผลิตชิปรายใหญ่ของจีน กำลังทดสอบเครื่อง lithography แบบ DUV (Deep Ultraviolet) ที่ผลิตโดยบริษัทสตาร์ทอัพในประเทศชื่อ Yuliangsheng ซึ่งตั้งอยู่ในเซี่ยงไฮ้ นี่ถือเป็นครั้งแรกที่จีนสามารถผลิตเครื่อง DUV ได้เอง และอาจเป็นจุดเริ่มต้นของการพึ่งพาตนเองด้านอุปกรณ์ผลิตชิปขั้นสูง เดิมที SMIC ต้องพึ่งพาเครื่องจักรจาก ASML บริษัทเนเธอร์แลนด์ที่เป็นผู้นำด้านเทคโนโลยี lithography แต่เนื่องจากข้อจำกัดด้านการส่งออกจากสหรัฐฯ ทำให้จีนไม่สามารถเข้าถึงเครื่อง EUV (Extreme Ultraviolet) ได้ ซึ่งจำเป็นสำหรับการผลิตชิประดับ 5nm และต่ำกว่า แม้เครื่อง DUV ของ Yuliangsheng จะยังไม่สามารถเทียบเท่า EUV ได้ แต่มีการระบุว่าสามารถ “scale” การผลิตได้ถึงระดับ 5nm ด้วยเทคนิคการทำ pattern ซ้ำหลายชั้น (multi-patterning) อย่างไรก็ตาม วิธีนี้มีความเสี่ยงด้าน yield หรืออัตราการผลิตชิปที่ใช้งานได้จริง เนื่องจากการจัดตำแหน่งหลายชั้นอาจเกิดข้อผิดพลาดสะสม SMIC เคยใช้วิธีนี้ในการผลิตชิป 7nm มาก่อน และยอมรับ yield ที่ต่ำเพื่อให้สามารถผลิตได้ในปริมาณมาก ซึ่งอาจเป็นแนวทางเดียวกันสำหรับการผลิต 5nm ด้วยเครื่อง DUV ภายในประเทศ โดยเฉพาะเมื่อความต้องการชิป AI ในจีนเพิ่มขึ้นอย่างรวดเร็ว การพัฒนาเครื่อง DUV นี้ยังมีความท้าทาย เพราะแม้ส่วนใหญ่ของชิ้นส่วนจะผลิตในประเทศ แต่บางส่วนยังต้องนำเข้าจากต่างประเทศ อย่างไรก็ตาม Yuliangsheng กำลังพยายามพัฒนาให้ทุกชิ้นส่วนสามารถผลิตในจีนได้ในอนาคต ✅ ข้อมูลสำคัญจากข่าว ➡️ SMIC กำลังทดสอบเครื่อง DUV ที่ผลิตโดยบริษัทจีน Yuliangsheng ➡️ เป็นครั้งแรกที่จีนสามารถผลิตเครื่อง lithography แบบ DUV ได้เอง ➡️ เครื่องนี้อาจสามารถ scale การผลิตชิปได้ถึงระดับ 5nm ด้วยเทคนิค multi-patterning ➡️ SMIC เคยใช้วิธีนี้ในการผลิตชิป 7nm โดยยอมรับ yield ต่ำเพื่อให้ผลิตได้ ✅ ความเคลื่อนไหวในอุตสาหกรรม ➡️ ความต้องการชิป AI ในจีนเพิ่มขึ้นอย่างรวดเร็ว ทำให้ต้องเร่งพัฒนาอุปกรณ์ภายในประเทศ ➡️ SMIC ไม่สามารถเข้าถึงเครื่อง EUV จาก ASML เนื่องจากข้อจำกัดด้านการส่งออก ➡️ เครื่อง DUV ของ Yuliangsheng ใช้เทคโนโลยี immersion คล้ายกับของ ASML ➡️ ส่วนประกอบบางส่วนยังนำเข้าจากต่างประเทศ แต่มีแผนพัฒนาให้ผลิตในจีนทั้งหมด ✅ ข้อมูลเสริมจากภายนอก ➡️ SMIC เคยผลิตชิป 5nm โดยใช้เทคนิค SAQP (Self-Aligned Quadruple Patterning) บนเครื่อง DUV ➡️ Huawei ใช้ชิปจาก SMIC ใน Ascend 920 ที่ผลิตบนกระบวนการ 6nm และให้ประสิทธิภาพสูงถึง 900 TFLOPS1 ➡️ บริษัทจีนอย่าง AMEC และ NAURA เริ่มแข่งขันกับ Lam Research และ TEL ในด้านอุปกรณ์ประกอบการผลิตชิป ➡️ จีนตั้งเป้าเป็นผู้ผลิตชิปอันดับหนึ่งของโลกภายในปี 2030 โดยเน้นการพึ่งพาตนเองในทุกขั้นตอน https://wccftech.com/china-smic-reportedly-testing-nations-first-self-built-duv-machine/
    WCCFTECH.COM
    China's SMIC Reportedly Testing Nation's First Self-Built DUV Machine in a Major Breakthrough That Could Scale Production to 5nm
    China's chip segment might have witnessed another breakthrough, as a new report claims that SMIC is trialing the first in-house DUV machine.
    0 ความคิดเห็น 0 การแบ่งปัน 70 มุมมอง 0 รีวิว
  • “Phoenix RowHammer โจมตีทะลุ DDR5 ภายใน 109 วินาที — ECC ก็เอาไม่อยู่ นักวิจัยเตือน DRAM ทั่วโลกยังเสี่ยง”

    ช่องโหว่ RowHammer กลับมาอีกครั้งในรูปแบบใหม่ชื่อว่า “Phoenix” (CVE-2025-6202) ซึ่งถูกค้นพบโดยทีมนักวิจัยจาก ETH Zürich และ Google โดยสามารถโจมตีหน่วยความจำ DDR5 ของ SK Hynix ได้สำเร็จภายในเวลาเพียง 109 วินาที บนเครื่องเดสก์ท็อปทั่วไปที่ใช้การตั้งค่ามาตรฐาน

    RowHammer คือเทคนิคที่ใช้การ “เคาะ” แถวหน่วยความจำซ้ำ ๆ เพื่อสร้างการรบกวนทางไฟฟ้าในแถวข้างเคียง ทำให้เกิดการเปลี่ยนแปลงบิตโดยไม่ได้เข้าถึงโดยตรง ซึ่งสามารถนำไปสู่การยกระดับสิทธิ์, ขโมยข้อมูล, หรือแม้แต่การเจาะระบบ VM ที่อยู่ใกล้กัน

    Phoenix ใช้การ reverse engineering เพื่อเจาะระบบป้องกัน TRR (Target Row Refresh) ที่มีอยู่ใน DRAM โดยพบว่าการรีเฟรชมีช่วง sampling ที่ซ้ำทุก 128 tREFI และมีจุดอ่อนในช่วงต้นของแต่ละรอบ นักวิจัยจึงออกแบบ pattern ใหม่ที่เรียกว่า 128-tREFI และ 2608-tREFI พร้อมระบบ “self-correcting refresh synchronization” ที่ช่วยให้การโจมตีแม่นยำแม้เกิดการรีเฟรชผิดพลาด

    จากการทดสอบบนโมดูล DDR5 ของ SK Hynix จำนวน 15 รุ่น พบว่าทุกตัวสามารถถูกโจมตีได้ และสามารถใช้เพื่อขโมยคีย์ RSA-2048 จาก VM ที่อยู่ใกล้กัน หรือยกระดับสิทธิ์ผ่านไฟล์ sudo ได้จริง

    นักวิจัยแนะนำให้เพิ่มอัตราการรีเฟรช DRAM เป็น 3 เท่า ซึ่งช่วยลดการโจมตีได้ แต่แลกกับประสิทธิภาพที่ลดลงถึง 8.4% บน SPEC CPU2017 และเตือนว่า DRAM ที่ใช้งานอยู่ไม่สามารถอัปเดตได้ ทำให้ช่องโหว่นี้จะยังคงอยู่ไปอีกหลายปี

    ข้อมูลสำคัญจากข่าว
    ช่องโหว่ “Phoenix” (CVE-2025-6202) เป็น RowHammer รุ่นใหม่ที่โจมตี DDR5 ได้
    ใช้เวลาโจมตีเพียง 109 วินาทีบนเครื่องเดสก์ท็อปทั่วไป
    ใช้ pattern 128-tREFI และ 2608-tREFI พร้อมระบบ sync อัตโนมัติ
    ทดสอบบน DDR5 ของ SK Hynix 15 รุ่น พบว่าทุกตัวมี bit flip

    ผลกระทบและการโจมตี
    สามารถขโมยคีย์ RSA-2048 จาก VM ที่อยู่ใกล้กัน
    ใช้ไฟล์ sudo เพื่อยกระดับสิทธิ์เป็น root ได้
    ECC แบบฝังในชิปไม่สามารถป้องกันการโจมตีได้
    TRR ที่ใช้ใน DRAM มีช่องโหว่ด้าน sampling ที่ถูกเจาะ

    ข้อมูลเสริมจากภายนอก
    RowHammer ถูกค้นพบครั้งแรกในปี 2014 และยังคงพัฒนาอย่างต่อเนื่อง
    ช่องโหว่คล้ายกันในอดีต ได้แก่ TRRespass, SMASH, Half-Double และ Blacksmith
    การเพิ่ม refresh rate เป็นวิธีแก้ชั่วคราวที่มีต้นทุนด้านประสิทธิภาพ
    โค้ดทดสอบ Phoenix ถูกเผยแพร่บน GitHub เพื่อใช้ตรวจสอบ DIMM

    https://www.techradar.com/pro/security/new-phoenix-rowhammer-attack-cracks-open-ddr5-memory-defenses-in-minutes
    ⚠️ “Phoenix RowHammer โจมตีทะลุ DDR5 ภายใน 109 วินาที — ECC ก็เอาไม่อยู่ นักวิจัยเตือน DRAM ทั่วโลกยังเสี่ยง” ช่องโหว่ RowHammer กลับมาอีกครั้งในรูปแบบใหม่ชื่อว่า “Phoenix” (CVE-2025-6202) ซึ่งถูกค้นพบโดยทีมนักวิจัยจาก ETH Zürich และ Google โดยสามารถโจมตีหน่วยความจำ DDR5 ของ SK Hynix ได้สำเร็จภายในเวลาเพียง 109 วินาที บนเครื่องเดสก์ท็อปทั่วไปที่ใช้การตั้งค่ามาตรฐาน RowHammer คือเทคนิคที่ใช้การ “เคาะ” แถวหน่วยความจำซ้ำ ๆ เพื่อสร้างการรบกวนทางไฟฟ้าในแถวข้างเคียง ทำให้เกิดการเปลี่ยนแปลงบิตโดยไม่ได้เข้าถึงโดยตรง ซึ่งสามารถนำไปสู่การยกระดับสิทธิ์, ขโมยข้อมูล, หรือแม้แต่การเจาะระบบ VM ที่อยู่ใกล้กัน Phoenix ใช้การ reverse engineering เพื่อเจาะระบบป้องกัน TRR (Target Row Refresh) ที่มีอยู่ใน DRAM โดยพบว่าการรีเฟรชมีช่วง sampling ที่ซ้ำทุก 128 tREFI และมีจุดอ่อนในช่วงต้นของแต่ละรอบ นักวิจัยจึงออกแบบ pattern ใหม่ที่เรียกว่า 128-tREFI และ 2608-tREFI พร้อมระบบ “self-correcting refresh synchronization” ที่ช่วยให้การโจมตีแม่นยำแม้เกิดการรีเฟรชผิดพลาด จากการทดสอบบนโมดูล DDR5 ของ SK Hynix จำนวน 15 รุ่น พบว่าทุกตัวสามารถถูกโจมตีได้ และสามารถใช้เพื่อขโมยคีย์ RSA-2048 จาก VM ที่อยู่ใกล้กัน หรือยกระดับสิทธิ์ผ่านไฟล์ sudo ได้จริง นักวิจัยแนะนำให้เพิ่มอัตราการรีเฟรช DRAM เป็น 3 เท่า ซึ่งช่วยลดการโจมตีได้ แต่แลกกับประสิทธิภาพที่ลดลงถึง 8.4% บน SPEC CPU2017 และเตือนว่า DRAM ที่ใช้งานอยู่ไม่สามารถอัปเดตได้ ทำให้ช่องโหว่นี้จะยังคงอยู่ไปอีกหลายปี ✅ ข้อมูลสำคัญจากข่าว ➡️ ช่องโหว่ “Phoenix” (CVE-2025-6202) เป็น RowHammer รุ่นใหม่ที่โจมตี DDR5 ได้ ➡️ ใช้เวลาโจมตีเพียง 109 วินาทีบนเครื่องเดสก์ท็อปทั่วไป ➡️ ใช้ pattern 128-tREFI และ 2608-tREFI พร้อมระบบ sync อัตโนมัติ ➡️ ทดสอบบน DDR5 ของ SK Hynix 15 รุ่น พบว่าทุกตัวมี bit flip ✅ ผลกระทบและการโจมตี ➡️ สามารถขโมยคีย์ RSA-2048 จาก VM ที่อยู่ใกล้กัน ➡️ ใช้ไฟล์ sudo เพื่อยกระดับสิทธิ์เป็น root ได้ ➡️ ECC แบบฝังในชิปไม่สามารถป้องกันการโจมตีได้ ➡️ TRR ที่ใช้ใน DRAM มีช่องโหว่ด้าน sampling ที่ถูกเจาะ ✅ ข้อมูลเสริมจากภายนอก ➡️ RowHammer ถูกค้นพบครั้งแรกในปี 2014 และยังคงพัฒนาอย่างต่อเนื่อง ➡️ ช่องโหว่คล้ายกันในอดีต ได้แก่ TRRespass, SMASH, Half-Double และ Blacksmith ➡️ การเพิ่ม refresh rate เป็นวิธีแก้ชั่วคราวที่มีต้นทุนด้านประสิทธิภาพ ➡️ โค้ดทดสอบ Phoenix ถูกเผยแพร่บน GitHub เพื่อใช้ตรวจสอบ DIMM https://www.techradar.com/pro/security/new-phoenix-rowhammer-attack-cracks-open-ddr5-memory-defenses-in-minutes
    WWW.TECHRADAR.COM
    New Phoenix RowHammer Threat Exposes DDR5 Memory to Rapid Attacks
    It took researchers less than two minutes to crack open a computer
    0 ความคิดเห็น 0 การแบ่งปัน 71 มุมมอง 0 รีวิว
  • “Phoenix Rowhammer โจมตีทะลุ ECC — ช่องโหว่ใหม่ใน DDR5 จาก SK Hynix ที่ใช้เวลาแค่ 109 วินาที!”

    ทีมนักวิจัยจาก ETH Zurich และ Google ได้เปิดเผยช่องโหว่ใหม่ในหน่วยความจำ DDR5 ของ SK Hynix ที่สามารถถูกโจมตีด้วยเทคนิค Rowhammer รุ่นใหม่ชื่อว่า “Phoenix” (CVE-2025-6202) ซึ่งสามารถทะลุการป้องกันแบบ ECC ที่ฝังอยู่ในชิปได้ภายในเวลาเพียง 109 วินาที ถือเป็นการโจมตีระดับ privilege escalation ที่เกิดขึ้นได้จริงบนเครื่องเดสก์ท็อปทั่วไป

    Phoenix ใช้เทคนิค reverse engineering เพื่อเจาะระบบป้องกัน TRR (Target Row Refresh) ที่มีอยู่ใน DRAM โดยพบว่าการรีเฟรชแถวหน่วยความจำมีช่วง sampling ที่ซ้ำทุก 128 tREFI และในช่วงต้นของแต่ละรอบมีการสุ่มตรวจสอบน้อย ทำให้สามารถออกแบบรูปแบบการโจมตีแบบใหม่ที่เรียกว่า 128-tREFI และ 2608-tREFI ซึ่งมีประสิทธิภาพสูงกว่ารุ่นก่อนถึง 2.6 เท่า

    นักวิจัยยังพัฒนาเทคนิค “self-correcting refresh synchronization” ที่ช่วยให้การโจมตีสามารถปรับตัวได้เมื่อเกิดการรีเฟรชผิดพลาด ทำให้สามารถรักษาความแม่นยำในการโจมตีได้แม้จะผ่านหลายพันรอบการรีเฟรช

    จากการทดสอบบนโมดูล DDR5 ของ SK Hynix จำนวน 15 รุ่นที่ผลิตระหว่างปี 2021–2024 พบว่าทุกตัวสามารถถูกโจมตีได้ โดยเกิดการเปลี่ยนแปลงบิตจำนวนมาก ซึ่งสามารถนำไปใช้สร้าง primitive สำหรับการอ่าน/เขียนข้อมูลโดยพลการ, ขโมยคีย์ RSA-2048 จาก VM ที่อยู่ใกล้กัน และยกระดับสิทธิ์โดยการแก้ไขไฟล์ sudo

    เพื่อเพิ่มโอกาสในการโจมตี นักวิจัยใช้เทคนิคการรัน pattern แบบเลื่อนตำแหน่งในแต่ละ bank พร้อมกัน ทำให้โอกาสโจมตีสำเร็จเพิ่มขึ้นจาก 1.56% เป็น 25% และเสนอวิธีแก้เบื้องต้นด้วยการเพิ่มอัตราการรีเฟรช DRAM 3 เท่า ซึ่งช่วยลดการโจมตีได้ แต่แลกกับประสิทธิภาพที่ลดลงถึง 8.4% บน SPEC CPU2017

    ข่าวดีคือทีมงานได้แจ้งช่องโหว่นี้อย่างเป็นทางการกับ SK Hynix, ผู้ผลิต CPU และผู้ให้บริการคลาวด์ ทำให้มีการออก BIOS patch สำหรับเครื่อง AMD บางรุ่นแล้ว และมีโค้ดทดสอบบน GitHub เพื่อให้ผู้ดูแลระบบสามารถตรวจสอบ DIMM ของตนเองได้

    ข้อมูลสำคัญจากข่าว
    ช่องโหว่ “Phoenix” (CVE-2025-6202) เป็น Rowhammer รุ่นใหม่ที่ทะลุ ECC ได้
    ใช้เวลาโจมตีเพียง 109 วินาทีบนเครื่องเดสก์ท็อปทั่วไป
    เทคนิคใหม่ใช้ pattern 128-tREFI และ 2608-tREFI พร้อมระบบ sync อัตโนมัติ
    ทดสอบบน DDR5 ของ SK Hynix 15 รุ่น พบว่าทุกตัวมี bit flip

    ผลกระทบและการโจมตี
    เกิดการเปลี่ยนบิตจำนวนมากในหน่วยความจำ
    สร้าง primitive สำหรับการอ่าน/เขียนข้อมูล, ขโมยคีย์ RSA, และยกระดับสิทธิ์
    เพิ่มโอกาสโจมตีจาก 1.56% เป็น 25% ด้วยการรัน pattern แบบเลื่อนตำแหน่ง
    BIOS patch สำหรับ AMD ถูกปล่อยออกมาแล้วในช่วง embargo

    ข้อมูลเสริมจากภายนอก
    Rowhammer เป็นช่องโหว่ที่พบครั้งแรกในปี 2014 และยังคงพัฒนาอย่างต่อเนื่อง
    ECC แบบ on-die ไม่สามารถป้องกัน Rowhammer ได้เท่ากับ ECC แบบ side-band
    การเพิ่ม refresh rate เป็นวิธีแก้ชั่วคราวที่มีต้นทุนด้านประสิทธิภาพ
    โค้ดทดสอบ Phoenix ถูกเผยแพร่บน GitHub เพื่อใช้ตรวจสอบ DIMM

    คำเตือนและข้อจำกัด
    ECC แบบฝังในชิป (on-die ECC) ไม่สามารถป้องกัน Phoenix ได้
    การเพิ่ม refresh rate 3 เท่าทำให้ประสิทธิภาพลดลงถึง 8.4%
    BIOS patch ยังไม่ครอบคลุมทุกระบบ และต้องอัปเดตด้วยตนเอง
    DIMM ที่ผลิตระหว่างปี 2021–2024 มีความเสี่ยงสูง
    โค้ดบน GitHub ใช้สำหรับการตรวจสอบเท่านั้น ไม่ใช่การป้องกันหรือโจมตี

    https://www.techpowerup.com/341059/sk-hynix-ddr5-dimms-vulnerable-to-phoenix-rowhammer-attack-ecc-dimms-exposed-too
    💥 “Phoenix Rowhammer โจมตีทะลุ ECC — ช่องโหว่ใหม่ใน DDR5 จาก SK Hynix ที่ใช้เวลาแค่ 109 วินาที!” ทีมนักวิจัยจาก ETH Zurich และ Google ได้เปิดเผยช่องโหว่ใหม่ในหน่วยความจำ DDR5 ของ SK Hynix ที่สามารถถูกโจมตีด้วยเทคนิค Rowhammer รุ่นใหม่ชื่อว่า “Phoenix” (CVE-2025-6202) ซึ่งสามารถทะลุการป้องกันแบบ ECC ที่ฝังอยู่ในชิปได้ภายในเวลาเพียง 109 วินาที ถือเป็นการโจมตีระดับ privilege escalation ที่เกิดขึ้นได้จริงบนเครื่องเดสก์ท็อปทั่วไป Phoenix ใช้เทคนิค reverse engineering เพื่อเจาะระบบป้องกัน TRR (Target Row Refresh) ที่มีอยู่ใน DRAM โดยพบว่าการรีเฟรชแถวหน่วยความจำมีช่วง sampling ที่ซ้ำทุก 128 tREFI และในช่วงต้นของแต่ละรอบมีการสุ่มตรวจสอบน้อย ทำให้สามารถออกแบบรูปแบบการโจมตีแบบใหม่ที่เรียกว่า 128-tREFI และ 2608-tREFI ซึ่งมีประสิทธิภาพสูงกว่ารุ่นก่อนถึง 2.6 เท่า นักวิจัยยังพัฒนาเทคนิค “self-correcting refresh synchronization” ที่ช่วยให้การโจมตีสามารถปรับตัวได้เมื่อเกิดการรีเฟรชผิดพลาด ทำให้สามารถรักษาความแม่นยำในการโจมตีได้แม้จะผ่านหลายพันรอบการรีเฟรช จากการทดสอบบนโมดูล DDR5 ของ SK Hynix จำนวน 15 รุ่นที่ผลิตระหว่างปี 2021–2024 พบว่าทุกตัวสามารถถูกโจมตีได้ โดยเกิดการเปลี่ยนแปลงบิตจำนวนมาก ซึ่งสามารถนำไปใช้สร้าง primitive สำหรับการอ่าน/เขียนข้อมูลโดยพลการ, ขโมยคีย์ RSA-2048 จาก VM ที่อยู่ใกล้กัน และยกระดับสิทธิ์โดยการแก้ไขไฟล์ sudo เพื่อเพิ่มโอกาสในการโจมตี นักวิจัยใช้เทคนิคการรัน pattern แบบเลื่อนตำแหน่งในแต่ละ bank พร้อมกัน ทำให้โอกาสโจมตีสำเร็จเพิ่มขึ้นจาก 1.56% เป็น 25% และเสนอวิธีแก้เบื้องต้นด้วยการเพิ่มอัตราการรีเฟรช DRAM 3 เท่า ซึ่งช่วยลดการโจมตีได้ แต่แลกกับประสิทธิภาพที่ลดลงถึง 8.4% บน SPEC CPU2017 ข่าวดีคือทีมงานได้แจ้งช่องโหว่นี้อย่างเป็นทางการกับ SK Hynix, ผู้ผลิต CPU และผู้ให้บริการคลาวด์ ทำให้มีการออก BIOS patch สำหรับเครื่อง AMD บางรุ่นแล้ว และมีโค้ดทดสอบบน GitHub เพื่อให้ผู้ดูแลระบบสามารถตรวจสอบ DIMM ของตนเองได้ ✅ ข้อมูลสำคัญจากข่าว ➡️ ช่องโหว่ “Phoenix” (CVE-2025-6202) เป็น Rowhammer รุ่นใหม่ที่ทะลุ ECC ได้ ➡️ ใช้เวลาโจมตีเพียง 109 วินาทีบนเครื่องเดสก์ท็อปทั่วไป ➡️ เทคนิคใหม่ใช้ pattern 128-tREFI และ 2608-tREFI พร้อมระบบ sync อัตโนมัติ ➡️ ทดสอบบน DDR5 ของ SK Hynix 15 รุ่น พบว่าทุกตัวมี bit flip ✅ ผลกระทบและการโจมตี ➡️ เกิดการเปลี่ยนบิตจำนวนมากในหน่วยความจำ ➡️ สร้าง primitive สำหรับการอ่าน/เขียนข้อมูล, ขโมยคีย์ RSA, และยกระดับสิทธิ์ ➡️ เพิ่มโอกาสโจมตีจาก 1.56% เป็น 25% ด้วยการรัน pattern แบบเลื่อนตำแหน่ง ➡️ BIOS patch สำหรับ AMD ถูกปล่อยออกมาแล้วในช่วง embargo ✅ ข้อมูลเสริมจากภายนอก ➡️ Rowhammer เป็นช่องโหว่ที่พบครั้งแรกในปี 2014 และยังคงพัฒนาอย่างต่อเนื่อง ➡️ ECC แบบ on-die ไม่สามารถป้องกัน Rowhammer ได้เท่ากับ ECC แบบ side-band ➡️ การเพิ่ม refresh rate เป็นวิธีแก้ชั่วคราวที่มีต้นทุนด้านประสิทธิภาพ ➡️ โค้ดทดสอบ Phoenix ถูกเผยแพร่บน GitHub เพื่อใช้ตรวจสอบ DIMM ‼️ คำเตือนและข้อจำกัด ⛔ ECC แบบฝังในชิป (on-die ECC) ไม่สามารถป้องกัน Phoenix ได้ ⛔ การเพิ่ม refresh rate 3 เท่าทำให้ประสิทธิภาพลดลงถึง 8.4% ⛔ BIOS patch ยังไม่ครอบคลุมทุกระบบ และต้องอัปเดตด้วยตนเอง ⛔ DIMM ที่ผลิตระหว่างปี 2021–2024 มีความเสี่ยงสูง ⛔ โค้ดบน GitHub ใช้สำหรับการตรวจสอบเท่านั้น ไม่ใช่การป้องกันหรือโจมตี https://www.techpowerup.com/341059/sk-hynix-ddr5-dimms-vulnerable-to-phoenix-rowhammer-attack-ecc-dimms-exposed-too
    WWW.TECHPOWERUP.COM
    SK Hynix DDR5 DIMMs Vulnerable to "Phoenix" Rowhammer Attack, ECC DIMMs Exposed Too
    Researchers from ETH Zurich and Google have shown that SK Hynix DDR5 modules remain vulnerable to a new Rowhammer variant they call Phoenix (CVE-2025-6202), even with on-die ECC memory modules. The attack can be executed in only 109 seconds, making it a very realistic threat. By reverse engineering ...
    0 ความคิดเห็น 0 การแบ่งปัน 72 มุมมอง 0 รีวิว
  • “Intel 14A: เทคโนโลยีสุดล้ำที่แรงกว่า 18A แต่แพงกว่า เพราะใช้เครื่องพิมพ์ชิประดับนาโนรุ่นใหม่จาก ASML!”

    ลองนึกภาพว่าคุณกำลังออกแบบชิปที่ต้องการประสิทธิภาพสูงสุดและประหยัดพลังงานที่สุดในโลก แล้ว Intel บอกว่า “เรามี 14A node ที่แรงกว่า 18A ถึง 20% และกินไฟน้อยลงถึง 35%” — ฟังดูน่าสนใจใช่ไหม? แต่เบื้องหลังนั้นคือค่าใช้จ่ายที่สูงลิ่ว เพราะต้องใช้เครื่องพิมพ์ชิปรุ่นใหม่ที่เรียกว่า High-NA EUV จาก ASML ซึ่งมีราคาสูงถึง $380 ล้านต่อเครื่อง!

    David Zinsner, CFO ของ Intel ยืนยันในงานประชุม Citi’s Global TMT ว่า 14A จะมีต้นทุนต่อแผ่นเวเฟอร์สูงกว่า 18A อย่างแน่นอน แม้จะไม่สูงมากในแง่การลงทุนรวม แต่เครื่องพิมพ์ Twinscan EXE:5200B ที่ใช้เลนส์ขนาด 0.55 NA (Numerical Aperture) ทำให้ต้นทุนการผลิตต่อหน่วยพุ่งขึ้น

    Intel 14A ยังมาพร้อมกับเทคโนโลยีใหม่หลายอย่าง เช่น RibbonFET 2 ที่เป็นโครงสร้างทรานซิสเตอร์แบบ gate-all-around รุ่นปรับปรุง และ PowerDirect ที่เป็นระบบส่งพลังงานจากด้านหลังของชิปโดยตรง ซึ่งช่วยลดความซับซ้อนของการเดินสายไฟและเพิ่มประสิทธิภาพ

    นอกจากนี้ยังมี Turbo Cells ที่ช่วยเพิ่มความเร็วของ CPU และ GPU โดยไม่ต้องเพิ่มพื้นที่หรือพลังงานมากนัก — ทั้งหมดนี้ทำให้ 14A เป็น node ที่ออกแบบมาเพื่อรองรับทั้งผลิตภัณฑ์ของ Intel และลูกค้าภายนอกในอนาคต

    แต่ปัญหาคือ หาก Intel ไม่สามารถหาลูกค้าภายนอกมาใช้ 14A ได้ ก็อาจไม่คุ้มค่าการลงทุน และอาจต้องชะลอหรือยกเลิก node นี้ไปเลย ซึ่งจะส่งผลต่อแผนการฟื้นตัวของ Intel Foundry ที่กำลังพยายามกลับมาเป็นผู้นำในตลาดโลก

    Intel 14A node คืออะไร
    เป็นกระบวนการผลิตชิประดับ 1.4nm ที่ออกแบบใหม่ทั้งหมด
    ใช้เทคโนโลยี RibbonFET 2 และ PowerDirect เพื่อเพิ่มประสิทธิภาพ
    มี Turbo Cells ที่ช่วยเพิ่มความเร็วโดยไม่เพิ่มพื้นที่หรือพลังงาน
    ให้ประสิทธิภาพต่อวัตต์ดีกว่า 18A ถึง 15–20% และลดการใช้พลังงานได้ 25–35%

    เครื่องมือที่ใช้ใน 14A
    ใช้เครื่องพิมพ์ชิป High-NA EUV จาก ASML รุ่น Twinscan EXE:5200B
    ความละเอียดสูงถึง 8nm ต่อการยิงแสงครั้งเดียว
    ลดความจำเป็นในการใช้ multi-patterning ซึ่งช่วยเพิ่ม yield
    เครื่องมีราคาสูงถึง $380 ล้านต่อเครื่อง เทียบกับ $235 ล้านของรุ่นเดิม

    บริบททางธุรกิจและการลงทุน
    Intel ต้องการลูกค้าภายนอกเพื่อให้คุ้มค่าการลงทุนใน 14A
    หากไม่มีลูกค้ารายใหญ่ อาจต้องชะลอหรือยกเลิก node นี้
    Intel Foundry ต้องรักษาสัดส่วนการถือหุ้น 51% ตามข้อตกลงกับรัฐบาลสหรัฐฯ
    การพัฒนา 14A ใช้งบวิจัยหลายพันล้านดอลลาร์

    ข้อมูลเสริมจากภายนอก
    14A-E เป็นเวอร์ชันปรับปรุงของ 14A ที่เพิ่มประสิทธิภาพอีก 5%
    Samsung และ TSMC กำลังพัฒนา 2nm node เพื่อแข่งขันกับ Intel
    Intel ได้รับสัญญาผลิตชิป 18A มูลค่า $15 พันล้านจาก Microsoft1
    High-NA EUV ยังมีข้อจำกัดด้านขนาด field ทำให้ต้องปรับการออกแบบชิปใหม่

    https://www.tomshardware.com/tech-industry/semiconductors/intel-cfo-confirms-that-14a-will-be-more-expensive-to-use-than-18a-intel-expects-14a-fabrication-process-to-offer-15-20-percent-better-performance-per-watt-or-25-35-percent-lower-power-consumption-compared-to-18a
    ⚙️ “Intel 14A: เทคโนโลยีสุดล้ำที่แรงกว่า 18A แต่แพงกว่า เพราะใช้เครื่องพิมพ์ชิประดับนาโนรุ่นใหม่จาก ASML!” ลองนึกภาพว่าคุณกำลังออกแบบชิปที่ต้องการประสิทธิภาพสูงสุดและประหยัดพลังงานที่สุดในโลก แล้ว Intel บอกว่า “เรามี 14A node ที่แรงกว่า 18A ถึง 20% และกินไฟน้อยลงถึง 35%” — ฟังดูน่าสนใจใช่ไหม? แต่เบื้องหลังนั้นคือค่าใช้จ่ายที่สูงลิ่ว เพราะต้องใช้เครื่องพิมพ์ชิปรุ่นใหม่ที่เรียกว่า High-NA EUV จาก ASML ซึ่งมีราคาสูงถึง $380 ล้านต่อเครื่อง! David Zinsner, CFO ของ Intel ยืนยันในงานประชุม Citi’s Global TMT ว่า 14A จะมีต้นทุนต่อแผ่นเวเฟอร์สูงกว่า 18A อย่างแน่นอน แม้จะไม่สูงมากในแง่การลงทุนรวม แต่เครื่องพิมพ์ Twinscan EXE:5200B ที่ใช้เลนส์ขนาด 0.55 NA (Numerical Aperture) ทำให้ต้นทุนการผลิตต่อหน่วยพุ่งขึ้น Intel 14A ยังมาพร้อมกับเทคโนโลยีใหม่หลายอย่าง เช่น RibbonFET 2 ที่เป็นโครงสร้างทรานซิสเตอร์แบบ gate-all-around รุ่นปรับปรุง และ PowerDirect ที่เป็นระบบส่งพลังงานจากด้านหลังของชิปโดยตรง ซึ่งช่วยลดความซับซ้อนของการเดินสายไฟและเพิ่มประสิทธิภาพ นอกจากนี้ยังมี Turbo Cells ที่ช่วยเพิ่มความเร็วของ CPU และ GPU โดยไม่ต้องเพิ่มพื้นที่หรือพลังงานมากนัก — ทั้งหมดนี้ทำให้ 14A เป็น node ที่ออกแบบมาเพื่อรองรับทั้งผลิตภัณฑ์ของ Intel และลูกค้าภายนอกในอนาคต แต่ปัญหาคือ หาก Intel ไม่สามารถหาลูกค้าภายนอกมาใช้ 14A ได้ ก็อาจไม่คุ้มค่าการลงทุน และอาจต้องชะลอหรือยกเลิก node นี้ไปเลย ซึ่งจะส่งผลต่อแผนการฟื้นตัวของ Intel Foundry ที่กำลังพยายามกลับมาเป็นผู้นำในตลาดโลก ✅ Intel 14A node คืออะไร ➡️ เป็นกระบวนการผลิตชิประดับ 1.4nm ที่ออกแบบใหม่ทั้งหมด ➡️ ใช้เทคโนโลยี RibbonFET 2 และ PowerDirect เพื่อเพิ่มประสิทธิภาพ ➡️ มี Turbo Cells ที่ช่วยเพิ่มความเร็วโดยไม่เพิ่มพื้นที่หรือพลังงาน ➡️ ให้ประสิทธิภาพต่อวัตต์ดีกว่า 18A ถึง 15–20% และลดการใช้พลังงานได้ 25–35% ✅ เครื่องมือที่ใช้ใน 14A ➡️ ใช้เครื่องพิมพ์ชิป High-NA EUV จาก ASML รุ่น Twinscan EXE:5200B ➡️ ความละเอียดสูงถึง 8nm ต่อการยิงแสงครั้งเดียว ➡️ ลดความจำเป็นในการใช้ multi-patterning ซึ่งช่วยเพิ่ม yield ➡️ เครื่องมีราคาสูงถึง $380 ล้านต่อเครื่อง เทียบกับ $235 ล้านของรุ่นเดิม ✅ บริบททางธุรกิจและการลงทุน ➡️ Intel ต้องการลูกค้าภายนอกเพื่อให้คุ้มค่าการลงทุนใน 14A ➡️ หากไม่มีลูกค้ารายใหญ่ อาจต้องชะลอหรือยกเลิก node นี้ ➡️ Intel Foundry ต้องรักษาสัดส่วนการถือหุ้น 51% ตามข้อตกลงกับรัฐบาลสหรัฐฯ ➡️ การพัฒนา 14A ใช้งบวิจัยหลายพันล้านดอลลาร์ ✅ ข้อมูลเสริมจากภายนอก ➡️ 14A-E เป็นเวอร์ชันปรับปรุงของ 14A ที่เพิ่มประสิทธิภาพอีก 5% ➡️ Samsung และ TSMC กำลังพัฒนา 2nm node เพื่อแข่งขันกับ Intel ➡️ Intel ได้รับสัญญาผลิตชิป 18A มูลค่า $15 พันล้านจาก Microsoft1 ➡️ High-NA EUV ยังมีข้อจำกัดด้านขนาด field ทำให้ต้องปรับการออกแบบชิปใหม่ https://www.tomshardware.com/tech-industry/semiconductors/intel-cfo-confirms-that-14a-will-be-more-expensive-to-use-than-18a-intel-expects-14a-fabrication-process-to-offer-15-20-percent-better-performance-per-watt-or-25-35-percent-lower-power-consumption-compared-to-18a
    0 ความคิดเห็น 0 การแบ่งปัน 197 มุมมอง 0 รีวิว
  • เรื่องเล่าจาก Sanity: เมื่อ AI กลายเป็นทีมงานที่ลืมทุกอย่างทุกเช้า แต่ยังช่วยให้เราส่งงานได้เร็วขึ้น 2–3 เท่า

    Vincent Quigley วิศวกรอาวุโสจาก Sanity ได้แชร์ประสบการณ์ 6 สัปดาห์ในการใช้ Claude Code ผ่าน Agent Client Protocol (ACP) ซึ่งเป็นมาตรฐานใหม่ที่ช่วยให้ AI agent ทำงานร่วมกับ editor ได้อย่างลื่นไหล โดยเฉพาะใน Zed editor ที่รองรับ Claude แบบ native แล้ว

    เขาเปรียบ Claude Code ว่าเป็น “นักพัฒนาฝึกหัดที่ลืมทุกอย่างทุกเช้า” และนั่นคือเหตุผลที่ workflow ของเขาเปลี่ยนไปอย่างสิ้นเชิง: ไม่ใช่การรอให้ AI สร้างโค้ดที่สมบูรณ์ในครั้งเดียว แต่คือการทำงานร่วมกันแบบ iterative ที่เริ่มจาก “95% ขยะ” แล้วค่อย ๆ refine จนกลายเป็นโค้ดที่ใช้ได้จริง

    Vincent ใช้ Claude.md เป็นไฟล์บริบทที่รวม architecture, pattern, gotchas และลิงก์เอกสาร เพื่อให้ Claude เริ่มต้นจาก attempt ที่สองแทนที่จะต้องอธิบายใหม่ทุกครั้ง และยังเชื่อม Claude เข้ากับ Linear, Notion, GitHub และฐานข้อมูลแบบ read-only เพื่อให้ AI เข้าใจระบบได้ลึกขึ้น

    เขายังใช้ Claude หลาย instance พร้อมกัน โดยแบ่งงานเป็นคนละปัญหา และใช้ multibuffer ใน Zed เพื่อ review โค้ดแบบ granular—เลือกได้ว่าจะรับหรือปฏิเสธแต่ละ hunk พร้อม task list ที่แสดงใน sidebar แบบ real-time

    แม้ Claude จะช่วย review โค้ดได้ดี แต่ Vincent ย้ำว่า “วิศวกรต้องรับผิดชอบโค้ดที่ตัวเองส่ง” ไม่ว่าจะเขียนเองหรือ AI เขียนให้ และการไม่มี emotional attachment กับโค้ดที่ไม่ได้พิมพ์เอง กลับทำให้ review ได้ตรงจุดและกล้าลบสิ่งที่ไม่ดีมากขึ้น

    วิธีทำงานร่วมกับ Claude Code
    ใช้ Claude.md เพื่อสร้างบริบทให้ AI เข้าใจระบบ
    เชื่อม Claude กับ Linear, Notion, GitHub และฐานข้อมูลแบบ read-only
    ใช้ Claude หลาย instance พร้อมกัน โดยแบ่งงานเป็นคนละปัญหา

    การทำงานใน Zed ผ่าน ACP
    Claude Code ทำงานแบบ native ผ่าน Agent Client Protocol (ACP)
    รองรับ multibuffer review, syntax highlight, และ task list ใน sidebar
    สามารถใช้ slash command เพื่อสร้าง workflow แบบกำหนดเอง

    กระบวนการ iterative ที่ใช้ Claude
    Attempt แรก: 95% ขยะ แต่ช่วยให้เข้าใจระบบ
    Attempt สอง: เริ่มมีโครงสร้างที่ใช้ได้
    Attempt สาม: ได้โค้ดที่สามารถนำไป iterate ต่อได้จริง

    การ review โค้ดที่ AI สร้าง
    Claude ช่วยตรวจ test coverage, bug และเสนอ improvement
    วิศวกรต้อง review และรับผิดชอบโค้ดที่ส่ง
    ไม่มี emotional attachment ทำให้ review ได้ตรงจุดและกล้าลบมากขึ้น

    ผลลัพธ์และต้นทุน
    ส่งงานได้เร็วขึ้น 2–3 เท่า
    ลดเวลาทำ boilerplate และงานซ้ำ
    ค่าใช้จ่ายประมาณ $1000–1500 ต่อเดือนต่อวิศวกรที่ใช้ AI เต็มรูปแบบ

    https://www.sanity.io/blog/first-attempt-will-be-95-garbage
    🎙️ เรื่องเล่าจาก Sanity: เมื่อ AI กลายเป็นทีมงานที่ลืมทุกอย่างทุกเช้า แต่ยังช่วยให้เราส่งงานได้เร็วขึ้น 2–3 เท่า Vincent Quigley วิศวกรอาวุโสจาก Sanity ได้แชร์ประสบการณ์ 6 สัปดาห์ในการใช้ Claude Code ผ่าน Agent Client Protocol (ACP) ซึ่งเป็นมาตรฐานใหม่ที่ช่วยให้ AI agent ทำงานร่วมกับ editor ได้อย่างลื่นไหล โดยเฉพาะใน Zed editor ที่รองรับ Claude แบบ native แล้ว เขาเปรียบ Claude Code ว่าเป็น “นักพัฒนาฝึกหัดที่ลืมทุกอย่างทุกเช้า” และนั่นคือเหตุผลที่ workflow ของเขาเปลี่ยนไปอย่างสิ้นเชิง: ไม่ใช่การรอให้ AI สร้างโค้ดที่สมบูรณ์ในครั้งเดียว แต่คือการทำงานร่วมกันแบบ iterative ที่เริ่มจาก “95% ขยะ” แล้วค่อย ๆ refine จนกลายเป็นโค้ดที่ใช้ได้จริง Vincent ใช้ Claude.md เป็นไฟล์บริบทที่รวม architecture, pattern, gotchas และลิงก์เอกสาร เพื่อให้ Claude เริ่มต้นจาก attempt ที่สองแทนที่จะต้องอธิบายใหม่ทุกครั้ง และยังเชื่อม Claude เข้ากับ Linear, Notion, GitHub และฐานข้อมูลแบบ read-only เพื่อให้ AI เข้าใจระบบได้ลึกขึ้น เขายังใช้ Claude หลาย instance พร้อมกัน โดยแบ่งงานเป็นคนละปัญหา และใช้ multibuffer ใน Zed เพื่อ review โค้ดแบบ granular—เลือกได้ว่าจะรับหรือปฏิเสธแต่ละ hunk พร้อม task list ที่แสดงใน sidebar แบบ real-time แม้ Claude จะช่วย review โค้ดได้ดี แต่ Vincent ย้ำว่า “วิศวกรต้องรับผิดชอบโค้ดที่ตัวเองส่ง” ไม่ว่าจะเขียนเองหรือ AI เขียนให้ และการไม่มี emotional attachment กับโค้ดที่ไม่ได้พิมพ์เอง กลับทำให้ review ได้ตรงจุดและกล้าลบสิ่งที่ไม่ดีมากขึ้น ✅ วิธีทำงานร่วมกับ Claude Code ➡️ ใช้ Claude.md เพื่อสร้างบริบทให้ AI เข้าใจระบบ ➡️ เชื่อม Claude กับ Linear, Notion, GitHub และฐานข้อมูลแบบ read-only ➡️ ใช้ Claude หลาย instance พร้อมกัน โดยแบ่งงานเป็นคนละปัญหา ✅ การทำงานใน Zed ผ่าน ACP ➡️ Claude Code ทำงานแบบ native ผ่าน Agent Client Protocol (ACP) ➡️ รองรับ multibuffer review, syntax highlight, และ task list ใน sidebar ➡️ สามารถใช้ slash command เพื่อสร้าง workflow แบบกำหนดเอง ✅ กระบวนการ iterative ที่ใช้ Claude ➡️ Attempt แรก: 95% ขยะ แต่ช่วยให้เข้าใจระบบ ➡️ Attempt สอง: เริ่มมีโครงสร้างที่ใช้ได้ ➡️ Attempt สาม: ได้โค้ดที่สามารถนำไป iterate ต่อได้จริง ✅ การ review โค้ดที่ AI สร้าง ➡️ Claude ช่วยตรวจ test coverage, bug และเสนอ improvement ➡️ วิศวกรต้อง review และรับผิดชอบโค้ดที่ส่ง ➡️ ไม่มี emotional attachment ทำให้ review ได้ตรงจุดและกล้าลบมากขึ้น ✅ ผลลัพธ์และต้นทุน ➡️ ส่งงานได้เร็วขึ้น 2–3 เท่า ➡️ ลดเวลาทำ boilerplate และงานซ้ำ ➡️ ค่าใช้จ่ายประมาณ $1000–1500 ต่อเดือนต่อวิศวกรที่ใช้ AI เต็มรูปแบบ https://www.sanity.io/blog/first-attempt-will-be-95-garbage
    WWW.SANITY.IO
    First attempt will be 95% garbage: A staff engineer's 6-week journey with Claude Code | Sanity
    This started as an internal Sanity workshop where I demoed how I actually use AI. Spoiler: it's running multiple agents like a small team with daily amnesia.
    0 ความคิดเห็น 0 การแบ่งปัน 186 มุมมอง 0 รีวิว
  • เรื่องเล่าจาก Icheon: เมื่อการพิมพ์วงจรระดับนาโนกลายเป็นการแข่งขันระดับโลก

    ในเดือนกันยายน 2025 SK hynix และ ASML ประกาศว่าได้ติดตั้งเครื่อง High-NA EUV รุ่น Twinscan EXE:5200B ที่โรงงาน M16 ในเมืองอีชอน ประเทศเกาหลีใต้ ซึ่งถือเป็นการติดตั้งเชิงพาณิชย์ครั้งแรกของเครื่องรุ่นนี้ในอุตสาหกรรมหน่วยความจำ

    เครื่องนี้ใช้เลนส์ที่มีค่า NA (Numerical Aperture) สูงถึง 0.55 ซึ่งมากกว่าเครื่อง EUV รุ่นเดิมที่มี NA 0.33 ทำให้สามารถพิมพ์วงจรที่เล็กลงได้ถึง 1.7 เท่า และเพิ่มความหนาแน่นของทรานซิสเตอร์ได้ถึง 2.9 เท่าในครั้งเดียว โดยไม่ต้องใช้เทคนิค multi-patterning ที่ซับซ้อนและมีต้นทุนสูง

    SK hynix วางแผนใช้เครื่องนี้ในระยะแรกเพื่อเร่งการพัฒนา DRAM รุ่นใหม่ เช่นการสร้างโครงสร้าง capacitor trench, bitline และ wordline ที่ซับซ้อนขึ้น ก่อนจะนำไปใช้จริงในสายการผลิตช่วงปลายทศวรรษนี้ ซึ่งจะเป็นจุดเปลี่ยนสำคัญของการผลิต DRAM ที่มีขนาดต่ำกว่า 10 นาโนเมตร

    การติดตั้งครั้งนี้ทำให้ SK hynix กลายเป็นผู้ผลิตหน่วยความจำรายแรกที่นำ High-NA EUV มาใช้ในระดับ mass production ล้ำหน้าคู่แข่งอย่าง Samsung และ Micron ที่ยังอยู่ในขั้นตอน R&D กับเครื่องรุ่นก่อนหน้าอย่าง EXE:5000

    ASML ซึ่งเป็นผู้ผลิตเครื่องจากเนเธอร์แลนด์ ระบุว่าเครื่องรุ่นนี้มีขนาดเท่ารถบัสสองชั้น น้ำหนักกว่า 150 ตัน และมีราคาสูงถึง 600 พันล้านวอน (~431 ล้านดอลลาร์) โดยผลิตได้เพียง 5–6 เครื่องต่อปีเท่านั้น

    การติดตั้ง High-NA EUV รุ่น Twinscan EXE:5200B
    ติดตั้งที่โรงงาน M16 ของ SK hynix ในเกาหลีใต้
    เป็นการใช้งานเชิงพาณิชย์ครั้งแรกในอุตสาหกรรมหน่วยความจำ
    ใช้เลนส์ NA 0.55 ซึ่งให้ความละเอียดสูงกว่ารุ่นเดิม

    ความสามารถของเครื่อง High-NA EUV
    พิมพ์วงจรเล็กลง 1.7 เท่า และเพิ่มความหนาแน่น 2.9 เท่า
    ลดความจำเป็นในการใช้ multi-patterning ที่มีต้นทุนสูง
    เหมาะกับการพัฒนา DRAM ที่มีโครงสร้างซับซ้อนระดับ sub-10nm

    กลยุทธ์ของ SK hynix
    ใช้เครื่องนี้เพื่อเร่งการพัฒนา DRAM รุ่นใหม่ก่อนเข้าสู่สายการผลิตจริง
    ตั้งเป้าเป็นผู้นำในตลาด AI memory และ next-gen computing
    ล้ำหน้าคู่แข่งที่ยังใช้เครื่องรุ่นก่อนหน้าในขั้นตอน R&D

    ข้อมูลจาก ASML
    เครื่องมีขนาดเท่ารถบัสสองชั้น น้ำหนักกว่า 150 ตัน
    ราคาต่อเครื่องประมาณ 600 พันล้านวอน (~431 ล้านดอลลาร์)
    ผลิตได้เพียง 5–6 เครื่องต่อปีเท่านั้น

    https://www.tomshardware.com/tech-industry/semiconductors/asml-and-sk-hynix-assemble-industry-first-commercial-high-na-euv-system-at-fab-in-south-korea
    🎙️ เรื่องเล่าจาก Icheon: เมื่อการพิมพ์วงจรระดับนาโนกลายเป็นการแข่งขันระดับโลก ในเดือนกันยายน 2025 SK hynix และ ASML ประกาศว่าได้ติดตั้งเครื่อง High-NA EUV รุ่น Twinscan EXE:5200B ที่โรงงาน M16 ในเมืองอีชอน ประเทศเกาหลีใต้ ซึ่งถือเป็นการติดตั้งเชิงพาณิชย์ครั้งแรกของเครื่องรุ่นนี้ในอุตสาหกรรมหน่วยความจำ เครื่องนี้ใช้เลนส์ที่มีค่า NA (Numerical Aperture) สูงถึง 0.55 ซึ่งมากกว่าเครื่อง EUV รุ่นเดิมที่มี NA 0.33 ทำให้สามารถพิมพ์วงจรที่เล็กลงได้ถึง 1.7 เท่า และเพิ่มความหนาแน่นของทรานซิสเตอร์ได้ถึง 2.9 เท่าในครั้งเดียว โดยไม่ต้องใช้เทคนิค multi-patterning ที่ซับซ้อนและมีต้นทุนสูง SK hynix วางแผนใช้เครื่องนี้ในระยะแรกเพื่อเร่งการพัฒนา DRAM รุ่นใหม่ เช่นการสร้างโครงสร้าง capacitor trench, bitline และ wordline ที่ซับซ้อนขึ้น ก่อนจะนำไปใช้จริงในสายการผลิตช่วงปลายทศวรรษนี้ ซึ่งจะเป็นจุดเปลี่ยนสำคัญของการผลิต DRAM ที่มีขนาดต่ำกว่า 10 นาโนเมตร การติดตั้งครั้งนี้ทำให้ SK hynix กลายเป็นผู้ผลิตหน่วยความจำรายแรกที่นำ High-NA EUV มาใช้ในระดับ mass production ล้ำหน้าคู่แข่งอย่าง Samsung และ Micron ที่ยังอยู่ในขั้นตอน R&D กับเครื่องรุ่นก่อนหน้าอย่าง EXE:5000 ASML ซึ่งเป็นผู้ผลิตเครื่องจากเนเธอร์แลนด์ ระบุว่าเครื่องรุ่นนี้มีขนาดเท่ารถบัสสองชั้น น้ำหนักกว่า 150 ตัน และมีราคาสูงถึง 600 พันล้านวอน (~431 ล้านดอลลาร์) โดยผลิตได้เพียง 5–6 เครื่องต่อปีเท่านั้น ✅ การติดตั้ง High-NA EUV รุ่น Twinscan EXE:5200B ➡️ ติดตั้งที่โรงงาน M16 ของ SK hynix ในเกาหลีใต้ ➡️ เป็นการใช้งานเชิงพาณิชย์ครั้งแรกในอุตสาหกรรมหน่วยความจำ ➡️ ใช้เลนส์ NA 0.55 ซึ่งให้ความละเอียดสูงกว่ารุ่นเดิม ✅ ความสามารถของเครื่อง High-NA EUV ➡️ พิมพ์วงจรเล็กลง 1.7 เท่า และเพิ่มความหนาแน่น 2.9 เท่า ➡️ ลดความจำเป็นในการใช้ multi-patterning ที่มีต้นทุนสูง ➡️ เหมาะกับการพัฒนา DRAM ที่มีโครงสร้างซับซ้อนระดับ sub-10nm ✅ กลยุทธ์ของ SK hynix ➡️ ใช้เครื่องนี้เพื่อเร่งการพัฒนา DRAM รุ่นใหม่ก่อนเข้าสู่สายการผลิตจริง ➡️ ตั้งเป้าเป็นผู้นำในตลาด AI memory และ next-gen computing ➡️ ล้ำหน้าคู่แข่งที่ยังใช้เครื่องรุ่นก่อนหน้าในขั้นตอน R&D ✅ ข้อมูลจาก ASML ➡️ เครื่องมีขนาดเท่ารถบัสสองชั้น น้ำหนักกว่า 150 ตัน ➡️ ราคาต่อเครื่องประมาณ 600 พันล้านวอน (~431 ล้านดอลลาร์) ➡️ ผลิตได้เพียง 5–6 เครื่องต่อปีเท่านั้น https://www.tomshardware.com/tech-industry/semiconductors/asml-and-sk-hynix-assemble-industry-first-commercial-high-na-euv-system-at-fab-in-south-korea
    WWW.TOMSHARDWARE.COM
    ASML and SK hynix assemble industry-first 'commercial' High-NA EUV system at fab in South Korea
    Initially for R&D use, until later this decade where it will transition to production
    0 ความคิดเห็น 0 การแบ่งปัน 127 มุมมอง 0 รีวิว
  • ทำไม OCaml ถึงกลายเป็นภาษาหลักของนักพัฒนาไฟแรงคนหนึ่ง — และอาจเป็นของคุณด้วย

    ผู้เขียนบทความนี้เริ่มใช้ OCaml ตั้งแต่ปี 2012 และหลงรักภาษานี้จนกลายเป็น “OCaml evangelist” ที่พูดถึงมันในงานสัมมนาอย่างสม่ำเสมอ แม้ OCaml จะไม่ใช่ภาษาหลักในอุตสาหกรรม แต่บริษัทใหญ่ ๆ อย่าง Meta, Microsoft, Docker, Bloomberg และ Jane Street กลับใช้มันจริงจังในระบบโปรดักชัน

    OCaml เป็นภาษาที่มีรากฐานจากงานวิจัย แต่ถูกพัฒนาให้เหมาะกับการใช้งานในอุตสาหกรรม โดยมีจุดเด่นคือระบบ type ที่ปลอดภัยและทรงพลัง, รองรับหลาย paradigm ทั้ง functional, imperative, modular และ object-oriented, มีระบบ module ที่ลึกและยืดหยุ่น, และล่าสุดยังรองรับ multi-core และ user-defined effects

    นอกจากภาษาจะดีแล้ว Ecosystem ก็แข็งแรงขึ้นมากในช่วงหลัง มีเครื่องมืออย่าง OPAM (package manager), Dune (build system), Merlin และ LSP (editor tooling), และ Odoc (documentation generator) ที่ช่วยให้การพัฒนาใน OCaml เป็นเรื่องง่ายและสนุก

    แม้จะมีข้อจำกัดบางอย่าง เช่น syntax ที่ไม่คุ้นเคย, ขาด ad-hoc polymorphism, และ module language ที่ซับซ้อน แต่ผู้เขียนเชื่อว่าคุณค่าของ OCaml อยู่ที่ความสามารถในการสื่อสารแนวคิดการออกแบบซอฟต์แวร์ได้อย่างชัดเจน และเป็นภาษาที่ช่วยให้เข้าใจแนวคิดระดับสูงได้ลึกซึ้ง

    ผู้เขียนใช้ OCaml เป็นภาษาหลักตั้งแต่ปี 2012
    ใช้ทั้งในโปรเจกต์ส่วนตัวและงานอาชีพ

    OCaml ถูกใช้งานจริงโดยบริษัทใหญ่หลายแห่ง
    เช่น Meta, Microsoft, Docker, Bloomberg, Jane Street

    OCaml รองรับหลาย paradigm ในการเขียนโปรแกรม
    ทั้ง functional, imperative, modular, object-oriented และ multi-core

    มีระบบ type ที่ปลอดภัยและ expressive มาก
    ช่วยลด bug และออกแบบโค้ดได้ชัดเจน

    ระบบ module ของ OCaml มีความลึกและยืดหยุ่นสูง
    รองรับ encapsulation, functor, และ polymorphism ระดับสูง

    รองรับ user-defined effects ตั้งแต่เวอร์ชัน 5.0
    ช่วยให้จัดการ control flow และ dependency injection ได้ง่าย

    Ecosystem มีเครื่องมือครบครัน
    เช่น OPAM, Dune, Merlin, LSP, Odoc และ library จำนวนมาก

    ชุมชน OCaml มีความเป็นมิตรและเข้าถึงง่าย
    มีผู้เชี่ยวชาญคอยตอบคำถามและให้คำแนะนำอย่างต่อเนื่อง

    OCaml มีจุดเด่นด้าน algebraic data types และ pattern matching
    ทำให้เหมาะกับงานวิเคราะห์โครงสร้างภาษาและ AST

    OCaml ถูกใช้ในงานวิเคราะห์ภาษา เช่น CIL, Frama-C และ FFTW
    เพราะมีเครื่องมือ lexing/parsing ที่ใช้งานง่ายและเร็ว

    OCaml มี compiler ที่เร็วมาก
    ช่วยให้การพัฒนาและ build โค้ดเป็นไปอย่างรวดเร็ว

    OCaml ถูกใช้ในวงการการเงิน เช่น Jane Street
    เพราะมีความปลอดภัยสูงและประสิทธิภาพดี

    https://xvw.lol/en/articles/why-ocaml.html
    🧠💻 ทำไม OCaml ถึงกลายเป็นภาษาหลักของนักพัฒนาไฟแรงคนหนึ่ง — และอาจเป็นของคุณด้วย ผู้เขียนบทความนี้เริ่มใช้ OCaml ตั้งแต่ปี 2012 และหลงรักภาษานี้จนกลายเป็น “OCaml evangelist” ที่พูดถึงมันในงานสัมมนาอย่างสม่ำเสมอ แม้ OCaml จะไม่ใช่ภาษาหลักในอุตสาหกรรม แต่บริษัทใหญ่ ๆ อย่าง Meta, Microsoft, Docker, Bloomberg และ Jane Street กลับใช้มันจริงจังในระบบโปรดักชัน OCaml เป็นภาษาที่มีรากฐานจากงานวิจัย แต่ถูกพัฒนาให้เหมาะกับการใช้งานในอุตสาหกรรม โดยมีจุดเด่นคือระบบ type ที่ปลอดภัยและทรงพลัง, รองรับหลาย paradigm ทั้ง functional, imperative, modular และ object-oriented, มีระบบ module ที่ลึกและยืดหยุ่น, และล่าสุดยังรองรับ multi-core และ user-defined effects นอกจากภาษาจะดีแล้ว Ecosystem ก็แข็งแรงขึ้นมากในช่วงหลัง มีเครื่องมืออย่าง OPAM (package manager), Dune (build system), Merlin และ LSP (editor tooling), และ Odoc (documentation generator) ที่ช่วยให้การพัฒนาใน OCaml เป็นเรื่องง่ายและสนุก แม้จะมีข้อจำกัดบางอย่าง เช่น syntax ที่ไม่คุ้นเคย, ขาด ad-hoc polymorphism, และ module language ที่ซับซ้อน แต่ผู้เขียนเชื่อว่าคุณค่าของ OCaml อยู่ที่ความสามารถในการสื่อสารแนวคิดการออกแบบซอฟต์แวร์ได้อย่างชัดเจน และเป็นภาษาที่ช่วยให้เข้าใจแนวคิดระดับสูงได้ลึกซึ้ง ✅ ผู้เขียนใช้ OCaml เป็นภาษาหลักตั้งแต่ปี 2012 ➡️ ใช้ทั้งในโปรเจกต์ส่วนตัวและงานอาชีพ ✅ OCaml ถูกใช้งานจริงโดยบริษัทใหญ่หลายแห่ง ➡️ เช่น Meta, Microsoft, Docker, Bloomberg, Jane Street ✅ OCaml รองรับหลาย paradigm ในการเขียนโปรแกรม ➡️ ทั้ง functional, imperative, modular, object-oriented และ multi-core ✅ มีระบบ type ที่ปลอดภัยและ expressive มาก ➡️ ช่วยลด bug และออกแบบโค้ดได้ชัดเจน ✅ ระบบ module ของ OCaml มีความลึกและยืดหยุ่นสูง ➡️ รองรับ encapsulation, functor, และ polymorphism ระดับสูง ✅ รองรับ user-defined effects ตั้งแต่เวอร์ชัน 5.0 ➡️ ช่วยให้จัดการ control flow และ dependency injection ได้ง่าย ✅ Ecosystem มีเครื่องมือครบครัน ➡️ เช่น OPAM, Dune, Merlin, LSP, Odoc และ library จำนวนมาก ✅ ชุมชน OCaml มีความเป็นมิตรและเข้าถึงง่าย ➡️ มีผู้เชี่ยวชาญคอยตอบคำถามและให้คำแนะนำอย่างต่อเนื่อง ✅ OCaml มีจุดเด่นด้าน algebraic data types และ pattern matching ➡️ ทำให้เหมาะกับงานวิเคราะห์โครงสร้างภาษาและ AST ✅ OCaml ถูกใช้ในงานวิเคราะห์ภาษา เช่น CIL, Frama-C และ FFTW ➡️ เพราะมีเครื่องมือ lexing/parsing ที่ใช้งานง่ายและเร็ว ✅ OCaml มี compiler ที่เร็วมาก ➡️ ช่วยให้การพัฒนาและ build โค้ดเป็นไปอย่างรวดเร็ว ✅ OCaml ถูกใช้ในวงการการเงิน เช่น Jane Street ➡️ เพราะมีความปลอดภัยสูงและประสิทธิภาพดี https://xvw.lol/en/articles/why-ocaml.html
    XVW.LOL
    Why I chose OCaml as my primary language
    A detailed explanation of why I chose OCaml as the ‘default’ programming language for every project.
    0 ความคิดเห็น 0 การแบ่งปัน 256 มุมมอง 0 รีวิว
  • เรื่องเล่าจากข่าว: Node.js 2025 – จาก CommonJS สู่โลกใหม่ที่สะอาดกว่าและฉลาดกว่า

    ในปี 2025 Node.js ได้เปลี่ยนโฉมไปอย่างมากจากยุคที่เต็มไปด้วย callback และ require แบบ CommonJS สู่ยุคใหม่ที่ใช้ ES Modules (ESM) เป็นมาตรฐาน พร้อมรองรับฟีเจอร์ระดับเว็บเบราว์เซอร์ เช่น fetch API และ top-level await โดยไม่ต้องพึ่งพาไลบรารีภายนอกอีกต่อไป

    การเปลี่ยนแปลงนี้ไม่ใช่แค่เรื่อง syntax แต่เป็นการปรับแนวคิดการพัฒนาให้สอดคล้องกับมาตรฐานเว็บสมัยใหม่ ทำให้โค้ดสะอาดขึ้น เข้าใจง่ายขึ้น และลดความซับซ้อนในการจัดการ dependency

    นอกจากนี้ Node.js ยังนำเสนอแนวทางใหม่ในการจัดการกับ asynchronous data ผ่าน async iteration และการใช้ Proxy-based observables เพื่อสร้างระบบ reactive โดยไม่ต้องพึ่ง state management ที่ยุ่งยาก

    ES Modules (ESM) กลายเป็นมาตรฐานใหม่แทน CommonJS
    ใช้ import/export แทน require/module.exports
    รองรับ static analysis และ tree-shaking ได้ดีขึ้น

    ใช้ node: prefix เพื่อแยก built-in modules ออกจาก npm packages
    เช่น import { readFile } from 'node:fs/promises'
    ลดความสับสนและเพิ่มความชัดเจนในการจัดการ dependency

    รองรับ top-level await โดยไม่ต้องใช้ async wrapper function
    ทำให้โค้ด initialization ง่ายขึ้นและอ่านง่ายขึ้น
    เหมาะกับการโหลด config หรือข้อมูลก่อนเริ่มเซิร์ฟเวอร์

    Fetch API ถูกนำมาใช้ใน Node.js โดยไม่ต้องติดตั้ง axios หรือ node-fetch
    รองรับการเรียก HTTP แบบ native
    มีฟีเจอร์ timeout และ cancellation ในตัว

    แนวคิด async iteration และ for-await-of กลายเป็นมาตรฐานในการจัดการ stream
    เหมาะกับ real-time data และ paginated APIs
    ลดการพึ่งพาไลบรารีภายนอก

    Proxy-based observables เริ่มได้รับความนิยมในการสร้างระบบ reactive
    ใช้ JavaScript Proxy เพื่อสังเกตการเปลี่ยนแปลงของ state
    ลด boilerplate และไม่ต้องใช้ state management library หนัก ๆ

    Deno กำลังกลายเป็น runtime เสริมที่น่าสนใจควบคู่กับ Node.js
    ใช้ ESM เป็นหลักตั้งแต่ต้น
    มีระบบ permission และ security ที่เข้มงวดกว่า

    Serverless architecture ยังคงนิยมใช้ Node.js เป็นหลักในปี 2025
    รองรับ AWS Lambda, Vercel, Cloudflare Workers
    เหมาะกับแอปพลิเคชันที่ต้องการความเร็วและความยืดหยุ่น

    JavaScript กำลังพัฒนา pattern matching แบบ native
    คล้ายกับ switch statement ที่อ่านง่ายและทรงพลัง
    อยู่ในขั้น proposal แต่เป็นเทรนด์ที่ควรจับตามอง

    https://kashw1n.com/blog/nodejs-2025/
    🎙️ เรื่องเล่าจากข่าว: Node.js 2025 – จาก CommonJS สู่โลกใหม่ที่สะอาดกว่าและฉลาดกว่า ในปี 2025 Node.js ได้เปลี่ยนโฉมไปอย่างมากจากยุคที่เต็มไปด้วย callback และ require แบบ CommonJS สู่ยุคใหม่ที่ใช้ ES Modules (ESM) เป็นมาตรฐาน พร้อมรองรับฟีเจอร์ระดับเว็บเบราว์เซอร์ เช่น fetch API และ top-level await โดยไม่ต้องพึ่งพาไลบรารีภายนอกอีกต่อไป การเปลี่ยนแปลงนี้ไม่ใช่แค่เรื่อง syntax แต่เป็นการปรับแนวคิดการพัฒนาให้สอดคล้องกับมาตรฐานเว็บสมัยใหม่ ทำให้โค้ดสะอาดขึ้น เข้าใจง่ายขึ้น และลดความซับซ้อนในการจัดการ dependency นอกจากนี้ Node.js ยังนำเสนอแนวทางใหม่ในการจัดการกับ asynchronous data ผ่าน async iteration และการใช้ Proxy-based observables เพื่อสร้างระบบ reactive โดยไม่ต้องพึ่ง state management ที่ยุ่งยาก ✅ ES Modules (ESM) กลายเป็นมาตรฐานใหม่แทน CommonJS ➡️ ใช้ import/export แทน require/module.exports ➡️ รองรับ static analysis และ tree-shaking ได้ดีขึ้น ✅ ใช้ node: prefix เพื่อแยก built-in modules ออกจาก npm packages ➡️ เช่น import { readFile } from 'node:fs/promises' ➡️ ลดความสับสนและเพิ่มความชัดเจนในการจัดการ dependency ✅ รองรับ top-level await โดยไม่ต้องใช้ async wrapper function ➡️ ทำให้โค้ด initialization ง่ายขึ้นและอ่านง่ายขึ้น ➡️ เหมาะกับการโหลด config หรือข้อมูลก่อนเริ่มเซิร์ฟเวอร์ ✅ Fetch API ถูกนำมาใช้ใน Node.js โดยไม่ต้องติดตั้ง axios หรือ node-fetch ➡️ รองรับการเรียก HTTP แบบ native ➡️ มีฟีเจอร์ timeout และ cancellation ในตัว ✅ แนวคิด async iteration และ for-await-of กลายเป็นมาตรฐานในการจัดการ stream ➡️ เหมาะกับ real-time data และ paginated APIs ➡️ ลดการพึ่งพาไลบรารีภายนอก ✅ Proxy-based observables เริ่มได้รับความนิยมในการสร้างระบบ reactive ➡️ ใช้ JavaScript Proxy เพื่อสังเกตการเปลี่ยนแปลงของ state ➡️ ลด boilerplate และไม่ต้องใช้ state management library หนัก ๆ ✅ Deno กำลังกลายเป็น runtime เสริมที่น่าสนใจควบคู่กับ Node.js ➡️ ใช้ ESM เป็นหลักตั้งแต่ต้น ➡️ มีระบบ permission และ security ที่เข้มงวดกว่า ✅ Serverless architecture ยังคงนิยมใช้ Node.js เป็นหลักในปี 2025 ➡️ รองรับ AWS Lambda, Vercel, Cloudflare Workers ➡️ เหมาะกับแอปพลิเคชันที่ต้องการความเร็วและความยืดหยุ่น ✅ JavaScript กำลังพัฒนา pattern matching แบบ native ➡️ คล้ายกับ switch statement ที่อ่านง่ายและทรงพลัง ➡️ อยู่ในขั้น proposal แต่เป็นเทรนด์ที่ควรจับตามอง https://kashw1n.com/blog/nodejs-2025/
    0 ความคิดเห็น 0 การแบ่งปัน 348 มุมมอง 0 รีวิว
  • เรื่องเล่าจากเบราว์เซอร์: เมื่อ Opera ลุกขึ้นสู้กับ Edge เพื่อความเป็นธรรมในการแข่งขัน

    ในเดือนกรกฎาคม 2025 Opera ได้ยื่นคำร้องต่อ CADE (หน่วยงานกำกับดูแลการแข่งขันของบราซิล) โดยกล่าวหาว่า Microsoft ใช้ “กลยุทธ์การออกแบบที่ชักจูง” หรือที่เรียกว่า dark patterns เพื่อผลักดันให้ผู้ใช้ Windows ใช้ Edge เป็นเบราว์เซอร์หลัก ทั้งที่ผู้ใช้ตั้งค่าเบราว์เซอร์อื่นไว้แล้ว

    Opera ระบุว่า Microsoft:
    - ให้แรงจูงใจแก่ผู้ผลิตคอมพิวเตอร์ (OEMs) เพื่อให้ติดตั้ง Edge เป็นค่าเริ่มต้น
    - ไม่เปิดโอกาสให้เบราว์เซอร์อื่น เช่น Opera ได้รับการติดตั้งล่วงหน้า
    - ใช้เครื่องมือในระบบ เช่น Widgets, Teams, Search และ Outlook เปิดลิงก์ผ่าน Edge โดยไม่สนใจการตั้งค่าของผู้ใช้
    - แสดงข้อความรบกวนเมื่อผู้ใช้พยายามดาวน์โหลดเบราว์เซอร์อื่น

    Opera หวังว่าบราซิลจะเป็นตัวอย่างให้ประเทศอื่นดำเนินการตาม และเรียกร้องให้ Microsoft ยุติการใช้กลยุทธ์เหล่านี้ พร้อมเปิดโอกาสให้ผู้ใช้เลือกเบราว์เซอร์ได้อย่างเสรี

    Opera ยื่นคำร้องต่อ CADE ในบราซิล กล่าวหา Microsoft ใช้กลยุทธ์ไม่เป็นธรรมเพื่อผลักดัน Edge
    เป็นการฟ้องร้องในตลาดสำคัญของ Opera ซึ่งมีผู้ใช้จำนวนมาก
    หวังให้บราซิลเป็นแบบอย่างระดับโลกในการควบคุม Big Tech

    Microsoft ถูกกล่าวหาว่าใช้ “manipulative design tactics” และ “dark patterns” ใน Windows
    เช่น การเปิดไฟล์ PDF ผ่าน Edge แม้ผู้ใช้ตั้งค่าเบราว์เซอร์อื่น
    การแสดงข้อความรบกวนเมื่อพยายามดาวน์โหลดเบราว์เซอร์คู่แข่ง

    Opera ระบุว่า Microsoft ให้แรงจูงใจแก่ผู้ผลิตคอมพิวเตอร์เพื่อให้ติดตั้ง Edge เป็นค่าเริ่มต้น
    ส่งผลให้เบราว์เซอร์อื่นไม่มีโอกาสถูกติดตั้งล่วงหน้า
    เป็นการปิดกั้นการแข่งขันตั้งแต่ระดับฮาร์ดแวร์

    Opera เรียกร้องให้ CADE สั่งให้ Microsoft ยุติการใช้ dark patterns และเปิดโอกาสให้เบราว์เซอร์อื่นได้ติดตั้งล่วงหน้า
    รวมถึงการยกเลิกข้อกำหนด “S mode” ที่จำกัดการติดตั้งซอฟต์แวร์จากเว็บ
    เพื่อให้ผู้ใช้สามารถเลือกเบราว์เซอร์ได้อย่างอิสระ

    นี่ไม่ใช่ครั้งแรกที่ Opera ฟ้อง Microsoft ด้วยข้อกล่าวหาเรื่องการผูกขาดเบราว์เซอร์
    เคยฟ้องในสหภาพยุโรปเมื่อปี 2007 กรณี Internet Explorer
    และเคยเรียกร้องให้ Edge ถูกจัดเป็น “gatekeeper” ภายใต้กฎหมาย DMA ของ EU แต่ไม่สำเร็จ

    ผู้ใช้ Windows อาจไม่รู้ว่าการตั้งค่าเบราว์เซอร์ของตนถูกละเมิด
    เครื่องมือในระบบเปิดลิงก์ผ่าน Edge โดยไม่สนใจการตั้งค่าของผู้ใช้
    ส่งผลให้เกิดความสับสนและลดความไว้วางใจในระบบ

    การใช้ dark patterns อาจบั่นทอนเสรีภาพในการเลือกใช้ซอฟต์แวร์ของผู้บริโภค
    ผู้ใช้ถูกชักจูงโดยไม่รู้ตัวให้ใช้ Edge
    เป็นการลดโอกาสของเบราว์เซอร์คู่แข่งในการแข่งขันอย่างเป็นธรรม

    การให้แรงจูงใจแก่ผู้ผลิตคอมพิวเตอร์เพื่อให้ติดตั้ง Edge อาจละเมิดหลักการการแข่งขันเสรี
    เบราว์เซอร์อื่นถูกกีดกันตั้งแต่ระดับโรงงาน
    ส่งผลให้ผู้ใช้ไม่มีทางเลือกตั้งแต่ซื้อเครื่อง

    หากไม่มีการควบคุม อาจเกิดการผูกขาดในตลาดเบราว์เซอร์โดยไม่รู้ตัว
    ส่งผลต่อความหลากหลายของนวัตกรรมและความเป็นส่วนตัวของผู้ใช้
    อาจต้องพึ่งพาการแทรกแซงจากหน่วยงานกำกับดูแลในหลายประเทศ

    https://www.neowin.net/news/opera-files-complaint-against-microsoft-for-manipulating-customers-into-using-edge/
    🧭 เรื่องเล่าจากเบราว์เซอร์: เมื่อ Opera ลุกขึ้นสู้กับ Edge เพื่อความเป็นธรรมในการแข่งขัน ในเดือนกรกฎาคม 2025 Opera ได้ยื่นคำร้องต่อ CADE (หน่วยงานกำกับดูแลการแข่งขันของบราซิล) โดยกล่าวหาว่า Microsoft ใช้ “กลยุทธ์การออกแบบที่ชักจูง” หรือที่เรียกว่า dark patterns เพื่อผลักดันให้ผู้ใช้ Windows ใช้ Edge เป็นเบราว์เซอร์หลัก ทั้งที่ผู้ใช้ตั้งค่าเบราว์เซอร์อื่นไว้แล้ว Opera ระบุว่า Microsoft: - ให้แรงจูงใจแก่ผู้ผลิตคอมพิวเตอร์ (OEMs) เพื่อให้ติดตั้ง Edge เป็นค่าเริ่มต้น - ไม่เปิดโอกาสให้เบราว์เซอร์อื่น เช่น Opera ได้รับการติดตั้งล่วงหน้า - ใช้เครื่องมือในระบบ เช่น Widgets, Teams, Search และ Outlook เปิดลิงก์ผ่าน Edge โดยไม่สนใจการตั้งค่าของผู้ใช้ - แสดงข้อความรบกวนเมื่อผู้ใช้พยายามดาวน์โหลดเบราว์เซอร์อื่น Opera หวังว่าบราซิลจะเป็นตัวอย่างให้ประเทศอื่นดำเนินการตาม และเรียกร้องให้ Microsoft ยุติการใช้กลยุทธ์เหล่านี้ พร้อมเปิดโอกาสให้ผู้ใช้เลือกเบราว์เซอร์ได้อย่างเสรี ✅ Opera ยื่นคำร้องต่อ CADE ในบราซิล กล่าวหา Microsoft ใช้กลยุทธ์ไม่เป็นธรรมเพื่อผลักดัน Edge ➡️ เป็นการฟ้องร้องในตลาดสำคัญของ Opera ซึ่งมีผู้ใช้จำนวนมาก ➡️ หวังให้บราซิลเป็นแบบอย่างระดับโลกในการควบคุม Big Tech ✅ Microsoft ถูกกล่าวหาว่าใช้ “manipulative design tactics” และ “dark patterns” ใน Windows ➡️ เช่น การเปิดไฟล์ PDF ผ่าน Edge แม้ผู้ใช้ตั้งค่าเบราว์เซอร์อื่น ➡️ การแสดงข้อความรบกวนเมื่อพยายามดาวน์โหลดเบราว์เซอร์คู่แข่ง ✅ Opera ระบุว่า Microsoft ให้แรงจูงใจแก่ผู้ผลิตคอมพิวเตอร์เพื่อให้ติดตั้ง Edge เป็นค่าเริ่มต้น ➡️ ส่งผลให้เบราว์เซอร์อื่นไม่มีโอกาสถูกติดตั้งล่วงหน้า ➡️ เป็นการปิดกั้นการแข่งขันตั้งแต่ระดับฮาร์ดแวร์ ✅ Opera เรียกร้องให้ CADE สั่งให้ Microsoft ยุติการใช้ dark patterns และเปิดโอกาสให้เบราว์เซอร์อื่นได้ติดตั้งล่วงหน้า ➡️ รวมถึงการยกเลิกข้อกำหนด “S mode” ที่จำกัดการติดตั้งซอฟต์แวร์จากเว็บ ➡️ เพื่อให้ผู้ใช้สามารถเลือกเบราว์เซอร์ได้อย่างอิสระ ✅ นี่ไม่ใช่ครั้งแรกที่ Opera ฟ้อง Microsoft ด้วยข้อกล่าวหาเรื่องการผูกขาดเบราว์เซอร์ ➡️ เคยฟ้องในสหภาพยุโรปเมื่อปี 2007 กรณี Internet Explorer ➡️ และเคยเรียกร้องให้ Edge ถูกจัดเป็น “gatekeeper” ภายใต้กฎหมาย DMA ของ EU แต่ไม่สำเร็จ ‼️ ผู้ใช้ Windows อาจไม่รู้ว่าการตั้งค่าเบราว์เซอร์ของตนถูกละเมิด ⛔ เครื่องมือในระบบเปิดลิงก์ผ่าน Edge โดยไม่สนใจการตั้งค่าของผู้ใช้ ⛔ ส่งผลให้เกิดความสับสนและลดความไว้วางใจในระบบ ‼️ การใช้ dark patterns อาจบั่นทอนเสรีภาพในการเลือกใช้ซอฟต์แวร์ของผู้บริโภค ⛔ ผู้ใช้ถูกชักจูงโดยไม่รู้ตัวให้ใช้ Edge ⛔ เป็นการลดโอกาสของเบราว์เซอร์คู่แข่งในการแข่งขันอย่างเป็นธรรม ‼️ การให้แรงจูงใจแก่ผู้ผลิตคอมพิวเตอร์เพื่อให้ติดตั้ง Edge อาจละเมิดหลักการการแข่งขันเสรี ⛔ เบราว์เซอร์อื่นถูกกีดกันตั้งแต่ระดับโรงงาน ⛔ ส่งผลให้ผู้ใช้ไม่มีทางเลือกตั้งแต่ซื้อเครื่อง ‼️ หากไม่มีการควบคุม อาจเกิดการผูกขาดในตลาดเบราว์เซอร์โดยไม่รู้ตัว ⛔ ส่งผลต่อความหลากหลายของนวัตกรรมและความเป็นส่วนตัวของผู้ใช้ ⛔ อาจต้องพึ่งพาการแทรกแซงจากหน่วยงานกำกับดูแลในหลายประเทศ https://www.neowin.net/news/opera-files-complaint-against-microsoft-for-manipulating-customers-into-using-edge/
    WWW.NEOWIN.NET
    Opera files complaint against Microsoft for manipulating customers into using Edge
    Opera has filed a complaint against Microsoft Edge, claiming that the Redmond firm uses deceptive tactics to get customers to use its browser.
    0 ความคิดเห็น 0 การแบ่งปัน 310 มุมมอง 0 รีวิว
  • เรื่องเล่าจากแนวรบไซเบอร์: เมื่อ SAP NetWeaver กลายเป็นประตูหลังให้มัลแวร์ Auto-Color

    ในเดือนเมษายน 2025 บริษัท Darktrace ตรวจพบการโจมตีแบบหลายขั้นตอนที่ใช้ช่องโหว่ CVE-2025-31324 ใน SAP NetWeaver เพื่อส่งมัลแวร์ Auto-Color เข้าสู่ระบบของบริษัทเคมีในสหรัฐฯ โดยช่องโหว่นี้เปิดให้ผู้ไม่ผ่านการยืนยันตัวตนสามารถอัปโหลดไฟล์อันตรายเข้าสู่เซิร์ฟเวอร์ SAP ได้ ซึ่งนำไปสู่การควบคุมระบบจากระยะไกล (Remote Code Execution)

    Auto-Color เป็นมัลแวร์ที่ออกแบบมาให้ปรับตัวตามสิทธิ์ของผู้ใช้งาน หากรันด้วยสิทธิ์ root จะฝังไลบรารีปลอมชื่อ libcext.so.2 และใช้เทคนิค ld.so.preload เพื่อให้มัลแวร์ถูกโหลดก่อนทุกโปรแกรมในระบบ Linux ทำให้สามารถแทรกแซงการทำงานของระบบได้อย่างลึกซึ้ง

    Darktrace ใช้ระบบ AI “Autonomous Response” เข้าควบคุมอุปกรณ์ที่ถูกโจมตีภายในไม่กี่นาที โดยจำกัดพฤติกรรมให้อยู่ในขอบเขตปกติ พร้อมขยายเวลาการควบคุมอีก 24 ชั่วโมงเพื่อให้ทีมรักษาความปลอดภัยมีเวลาตรวจสอบและแก้ไข

    ช่องโหว่ CVE-2025-31324 ใน SAP NetWeaver ถูกเปิดเผยเมื่อ 24 เมษายน 2025
    เป็นช่องโหว่ระดับวิกฤต (CVSS 10.0) ที่เปิดให้ผู้โจมตีอัปโหลดไฟล์อันตรายโดยไม่ต้องยืนยันตัวตน
    ส่งผลให้สามารถควบคุมระบบได้เต็มรูปแบบผ่าน Remote Code Execution

    Darktrace ตรวจพบการโจมตีในบริษัทเคมีสหรัฐฯ เมื่อปลายเดือนเมษายน 2025
    เริ่มจากการสแกนช่องโหว่ในวันที่ 25 เมษายน และเริ่มโจมตีจริงในวันที่ 27 เมษายน
    ใช้ ZIP file และ DNS tunneling เพื่อส่งมัลแวร์เข้าสู่ระบบ

    มัลแวร์ Auto-Color ถูกส่งเข้าระบบในรูปแบบไฟล์ ELF สำหรับ Linux
    เปลี่ยนชื่อไฟล์เป็น “/var/log/cross/auto-color” เพื่อหลบซ่อน
    ใช้เทคนิค ld.so.preload เพื่อให้มัลแวร์ถูกโหลดก่อนโปรแกรมอื่นในระบบ

    Darktrace ใช้ AI Autonomous Response เข้าควบคุมอุปกรณ์ที่ถูกโจมตีทันที
    จำกัดพฤติกรรมของอุปกรณ์ให้อยู่ใน “pattern of life” ปกติ
    ขยายเวลาการควบคุมอีก 24 ชั่วโมงเพื่อให้ทีมรักษาความปลอดภัยตรวจสอบ

    ผู้เชี่ยวชาญแนะนำให้ใช้สถาปัตยกรรม Zero Trust และปิด endpoint ที่เสี่ยงทันที
    หากไม่สามารถติดตั้งแพตช์ได้ ให้ปิดการเข้าถึง /developmentserver/metadatauploader
    แยกระบบ SAP ออกจากอินเทอร์เน็ตและตรวจสอบทุกการเชื่อมต่อ

    ช่องโหว่ CVE-2025-31324 ยังคงถูกโจมตีอย่างต่อเนื่องแม้จะมีการเปิดเผยแล้ว
    ผู้โจมตีสามารถใช้ข้อมูลสาธารณะในการสร้าง payload ใหม่ได้
    การไม่ติดตั้งแพตช์ทันทีอาจนำไปสู่การควบคุมระบบเต็มรูปแบบ

    Auto-Color มีความสามารถในการหลบซ่อนเมื่อไม่สามารถเชื่อมต่อกับ C2 ได้
    ทำให้การวิเคราะห์ใน sandbox หรือระบบออฟไลน์ไม่สามารถตรวจพบพฤติกรรมจริง
    ส่งผลให้การตรวจสอบมัลแวร์ล่าช้าและอาจพลาดการป้องกัน

    ระบบ SAP มักถูกแยกออกจากการดูแลด้านความปลอดภัยขององค์กร
    ทีม SAP Basis อาจไม่มีความเชี่ยวชาญด้านภัยคุกคามไซเบอร์
    การไม่บูรณาการกับทีม IT Security ทำให้เกิดช่องโหว่ในการป้องกัน

    การใช้เทคนิค ld.so.preload เป็นวิธีการฝังมัลแวร์ที่ลึกและยากต่อการตรวจจับ
    มัลแวร์สามารถแทรกแซงการทำงานของทุกโปรแกรมในระบบ Linux
    ต้องใช้เครื่องมือเฉพาะทางในการตรวจสอบและล้างระบบ

    https://hackread.com/sap-netweaver-vulnerability-auto-color-malware-us-firm/
    🕵️‍♂️ เรื่องเล่าจากแนวรบไซเบอร์: เมื่อ SAP NetWeaver กลายเป็นประตูหลังให้มัลแวร์ Auto-Color ในเดือนเมษายน 2025 บริษัท Darktrace ตรวจพบการโจมตีแบบหลายขั้นตอนที่ใช้ช่องโหว่ CVE-2025-31324 ใน SAP NetWeaver เพื่อส่งมัลแวร์ Auto-Color เข้าสู่ระบบของบริษัทเคมีในสหรัฐฯ โดยช่องโหว่นี้เปิดให้ผู้ไม่ผ่านการยืนยันตัวตนสามารถอัปโหลดไฟล์อันตรายเข้าสู่เซิร์ฟเวอร์ SAP ได้ ซึ่งนำไปสู่การควบคุมระบบจากระยะไกล (Remote Code Execution) Auto-Color เป็นมัลแวร์ที่ออกแบบมาให้ปรับตัวตามสิทธิ์ของผู้ใช้งาน หากรันด้วยสิทธิ์ root จะฝังไลบรารีปลอมชื่อ libcext.so.2 และใช้เทคนิค ld.so.preload เพื่อให้มัลแวร์ถูกโหลดก่อนทุกโปรแกรมในระบบ Linux ทำให้สามารถแทรกแซงการทำงานของระบบได้อย่างลึกซึ้ง Darktrace ใช้ระบบ AI “Autonomous Response” เข้าควบคุมอุปกรณ์ที่ถูกโจมตีภายในไม่กี่นาที โดยจำกัดพฤติกรรมให้อยู่ในขอบเขตปกติ พร้อมขยายเวลาการควบคุมอีก 24 ชั่วโมงเพื่อให้ทีมรักษาความปลอดภัยมีเวลาตรวจสอบและแก้ไข ✅ ช่องโหว่ CVE-2025-31324 ใน SAP NetWeaver ถูกเปิดเผยเมื่อ 24 เมษายน 2025 ➡️ เป็นช่องโหว่ระดับวิกฤต (CVSS 10.0) ที่เปิดให้ผู้โจมตีอัปโหลดไฟล์อันตรายโดยไม่ต้องยืนยันตัวตน ➡️ ส่งผลให้สามารถควบคุมระบบได้เต็มรูปแบบผ่าน Remote Code Execution ✅ Darktrace ตรวจพบการโจมตีในบริษัทเคมีสหรัฐฯ เมื่อปลายเดือนเมษายน 2025 ➡️ เริ่มจากการสแกนช่องโหว่ในวันที่ 25 เมษายน และเริ่มโจมตีจริงในวันที่ 27 เมษายน ➡️ ใช้ ZIP file และ DNS tunneling เพื่อส่งมัลแวร์เข้าสู่ระบบ ✅ มัลแวร์ Auto-Color ถูกส่งเข้าระบบในรูปแบบไฟล์ ELF สำหรับ Linux ➡️ เปลี่ยนชื่อไฟล์เป็น “/var/log/cross/auto-color” เพื่อหลบซ่อน ➡️ ใช้เทคนิค ld.so.preload เพื่อให้มัลแวร์ถูกโหลดก่อนโปรแกรมอื่นในระบบ ✅ Darktrace ใช้ AI Autonomous Response เข้าควบคุมอุปกรณ์ที่ถูกโจมตีทันที ➡️ จำกัดพฤติกรรมของอุปกรณ์ให้อยู่ใน “pattern of life” ปกติ ➡️ ขยายเวลาการควบคุมอีก 24 ชั่วโมงเพื่อให้ทีมรักษาความปลอดภัยตรวจสอบ ✅ ผู้เชี่ยวชาญแนะนำให้ใช้สถาปัตยกรรม Zero Trust และปิด endpoint ที่เสี่ยงทันที ➡️ หากไม่สามารถติดตั้งแพตช์ได้ ให้ปิดการเข้าถึง /developmentserver/metadatauploader ➡️ แยกระบบ SAP ออกจากอินเทอร์เน็ตและตรวจสอบทุกการเชื่อมต่อ ‼️ ช่องโหว่ CVE-2025-31324 ยังคงถูกโจมตีอย่างต่อเนื่องแม้จะมีการเปิดเผยแล้ว ⛔ ผู้โจมตีสามารถใช้ข้อมูลสาธารณะในการสร้าง payload ใหม่ได้ ⛔ การไม่ติดตั้งแพตช์ทันทีอาจนำไปสู่การควบคุมระบบเต็มรูปแบบ ‼️ Auto-Color มีความสามารถในการหลบซ่อนเมื่อไม่สามารถเชื่อมต่อกับ C2 ได้ ⛔ ทำให้การวิเคราะห์ใน sandbox หรือระบบออฟไลน์ไม่สามารถตรวจพบพฤติกรรมจริง ⛔ ส่งผลให้การตรวจสอบมัลแวร์ล่าช้าและอาจพลาดการป้องกัน ‼️ ระบบ SAP มักถูกแยกออกจากการดูแลด้านความปลอดภัยขององค์กร ⛔ ทีม SAP Basis อาจไม่มีความเชี่ยวชาญด้านภัยคุกคามไซเบอร์ ⛔ การไม่บูรณาการกับทีม IT Security ทำให้เกิดช่องโหว่ในการป้องกัน ‼️ การใช้เทคนิค ld.so.preload เป็นวิธีการฝังมัลแวร์ที่ลึกและยากต่อการตรวจจับ ⛔ มัลแวร์สามารถแทรกแซงการทำงานของทุกโปรแกรมในระบบ Linux ⛔ ต้องใช้เครื่องมือเฉพาะทางในการตรวจสอบและล้างระบบ https://hackread.com/sap-netweaver-vulnerability-auto-color-malware-us-firm/
    HACKREAD.COM
    SAP NetWeaver Vulnerability Used in Auto-Color Malware Attack on US Firm
    Follow us on Bluesky, Twitter (X), Mastodon and Facebook at @Hackread
    0 ความคิดเห็น 0 การแบ่งปัน 270 มุมมอง 0 รีวิว
  • สมเด็จพระนางเจ้าฯ พระบรมราชินี
    ทรงฉลองพระองค์ไทยสากล ผ้าไหมพื้นเรียบ
    .
    ผ้าไหมพื้นเรียบ เป็นการทอแบบขัด เป็นวิธีการเบื้องต้นของการทอผ้าทุกชนิด คือมีเส้นพุ่งและเส้นยืนซึ่งอาจเป็นเส้นเดียวกันหรือต่างสีกัน ซึ่งจะทำให้เกิดลวดลายในเนื้อผ้าต่างกัน เช่น การทอเส้นยืนสลับสีก็จะเกิดผ้าลายริ้วทางยาว หรือถ้าทอเส้นพุ่งสลับสีก็จะได้ผ้าลายขวาง การทอเส้นยืนและเส้นพุ่งสลับสีก็จะได้ลายตาราง เป็นต้น ผ้าไหมที่ใช้เทคนิคการทอขัด เรียงตามความหนาของเนื้อผ้า เช่น ไม่ได้มีการควบเส้นใยเพิ่มเข้าไป ผ้าไหมสองเส้น หมายถึง ผ้าไหมที่ทอขัดด้วยเส้นยืนเส้นเดียว ส่วนเส้นพุ่งจะมีการควบเส้นไหมเพิ่มเป็นสองเส้น เนื้อผ้าจะมีความหนามากกว่าผ้าไหมหนึ่งเส้น
    ----
    HER MAJESTY QUEEN SUTHIDA WEARS
    ROYAL ATTIRE IN THAI SILK
    .
    Thai silk is a polished weave. It is the basic method of weaving all kinds. That is, there is a weft line and a stand line, which may be the same line or different colors. This will cause patterns in different fabrics, for example, weaving warp lines and alternating colors will produce long stripes. Or if weaving the weft lines and alternating colors, we will get a striped fabric. The weaving of warp and weft lines alternating colors will result in a grid pattern, etc. Silk that uses polished weaving techniques. Sorted according to the thickness of the fabric, for example, without adding more fibers. Two-strand silk refers to silk that is woven with a single warp thread. As for the weft line, there will be two more silk threads merged. The fabric will be one strand thicker than silk.
    ____________________________________
    #พระราชินีสุทิดา #苏提达王后 #QueenSuthida
    Cr. FB : สมเด็จพระนางเจ้าฯ พระบรมราชินี : We Love Her Majesty Queen Suthida Fanpage
    สมเด็จพระนางเจ้าฯ พระบรมราชินี ทรงฉลองพระองค์ไทยสากล ผ้าไหมพื้นเรียบ . ผ้าไหมพื้นเรียบ เป็นการทอแบบขัด เป็นวิธีการเบื้องต้นของการทอผ้าทุกชนิด คือมีเส้นพุ่งและเส้นยืนซึ่งอาจเป็นเส้นเดียวกันหรือต่างสีกัน ซึ่งจะทำให้เกิดลวดลายในเนื้อผ้าต่างกัน เช่น การทอเส้นยืนสลับสีก็จะเกิดผ้าลายริ้วทางยาว หรือถ้าทอเส้นพุ่งสลับสีก็จะได้ผ้าลายขวาง การทอเส้นยืนและเส้นพุ่งสลับสีก็จะได้ลายตาราง เป็นต้น ผ้าไหมที่ใช้เทคนิคการทอขัด เรียงตามความหนาของเนื้อผ้า เช่น ไม่ได้มีการควบเส้นใยเพิ่มเข้าไป ผ้าไหมสองเส้น หมายถึง ผ้าไหมที่ทอขัดด้วยเส้นยืนเส้นเดียว ส่วนเส้นพุ่งจะมีการควบเส้นไหมเพิ่มเป็นสองเส้น เนื้อผ้าจะมีความหนามากกว่าผ้าไหมหนึ่งเส้น ---- HER MAJESTY QUEEN SUTHIDA WEARS ROYAL ATTIRE IN THAI SILK . Thai silk is a polished weave. It is the basic method of weaving all kinds. That is, there is a weft line and a stand line, which may be the same line or different colors. This will cause patterns in different fabrics, for example, weaving warp lines and alternating colors will produce long stripes. Or if weaving the weft lines and alternating colors, we will get a striped fabric. The weaving of warp and weft lines alternating colors will result in a grid pattern, etc. Silk that uses polished weaving techniques. Sorted according to the thickness of the fabric, for example, without adding more fibers. Two-strand silk refers to silk that is woven with a single warp thread. As for the weft line, there will be two more silk threads merged. The fabric will be one strand thicker than silk. ____________________________________ #พระราชินีสุทิดา #苏提达王后 #QueenSuthida Cr. FB : สมเด็จพระนางเจ้าฯ พระบรมราชินี : We Love Her Majesty Queen Suthida Fanpage
    0 ความคิดเห็น 0 การแบ่งปัน 518 มุมมอง 0 รีวิว
  • ช่วงนี้ Apple ไม่ได้พูดถึง AI แค่เรื่อง Siri หรือ iPhone เท่านั้น แต่กำลังใช้ GenAI เข้ามาเปลี่ยนวงในอย่าง “การออกแบบชิป” ที่เป็นหัวใจของอุปกรณ์ทุกตัวเลย

    Johny Srouji รองประธานอาวุโสของฝ่ายฮาร์ดแวร์ของ Apple เปิดเผยว่า Apple กำลังใช้ Generative AI ในซอฟต์แวร์ออกแบบชิป EDA เพื่อเพิ่มความเร็วและประสิทธิภาพของการพัฒนา Apple Silicon รุ่นต่อไป เช่น M-Series และ A-Series ซึ่งใช้ใน Mac และ iPhone ตามลำดับ

    เขาบอกเลยว่า “Generative AI สามารถเพิ่ม productivity ได้มหาศาล” เพราะเดิมทีการวางเลย์เอาต์ของชิป หรือการกำหนดวงจรใช้เวลานานและทำซ้ำบ่อยมาก แต่ถ้าให้ AI สร้างตัวเลือกอัตโนมัติ แล้ววิศวกรคัดกรอง ก็จะเร็วกว่าเดิมหลายเท่า

    ฝั่งบริษัท Cadence และ Synopsys ที่เป็นผู้ผลิตซอฟต์แวร์ EDA ก็เร่งเสริม GenAI เข้าไปในเครื่องมือของตัวเอง เพื่อให้รองรับแนวโน้มนี้ ซึ่งไม่ใช่แค่ Apple ที่ใช้นะครับ Google, Nvidia, AMD ก็เริ่มหันมาใช้กันหมด

    และไม่ใช่แค่ฝั่งตะวันตก — มีรายงานจากจีนว่าทีมนักวิจัยสามารถออกแบบซีพียูทั้งตัวโดยใช้ Large Language Model (LLM) แค่ตัวเดียวได้แล้วด้วย

    Apple เองเริ่มทางนี้ตั้งแต่สมัยเปลี่ยนมาใช้ Apple Silicon ใน MacBook Pro รุ่น M1 ซึ่งเป็นจุดเปลี่ยนครั้งใหญ่ในการเลิกใช้ชิป Intel และพัฒนาชิป Arm ของตนเองแบบเต็มตัว โดยเน้น performance + efficiency + ควบคุม ecosystem ทั้งหมด

    Apple เริ่มใช้ Generative AI เพื่อช่วยออกแบบชิปในกระบวนการ EDA (Electronic Design Automation)  • เพิ่ม productivity และลดเวลาทำงานของทีมออกแบบ  
    • เป็นการนำ AI มาใช้เบื้องหลัง ไม่ใช่แค่ฟีเจอร์ในอุปกรณ์

    Johny Srouji ยืนยันว่า GenAI จะเป็นตัวช่วยสำคัญใน pipeline การพัฒนาชิป  
    • ช่วย generate layout, logic, simulation patterns  
    • ลดภาระงานซ้ำซ้อนให้วิศวกร

    บริษัท EDA ชั้นนำอย่าง Cadence และ Synopsys กำลังใส่ GenAI ในเครื่องมือของตัวเอง  
    • เป็นคลื่นเทคโนโลยีที่หลายผู้ผลิตชิปกำลังปรับตัวตาม

    Apple เคยทุ่มสุดตัวกับ Apple Silicon โดยไม่มีแผนสำรองตอนเปลี่ยนจาก Intel เป็น M1  
    • พร้อมพัฒนาระบบแปล x86 → Arm ผ่าน Rosetta 2

    แนวโน้มของโลก: จีนกำลังพัฒนา CPU ที่ออกแบบโดย LLM ล้วน ๆ แล้วเช่นกัน  
    • เป็นการยืนยันว่า AI เริ่มเข้ามามีบทบาทตั้งแต่ระดับสถาปัตยกรรม

    AI ยังไม่สามารถแทนที่วิศวกรออกแบบชิปได้เต็มตัวในปัจจุบัน  
    • ความเข้าใจเรื่องสถาปัตยกรรมและข้อจำกัดเชิงฟิสิกส์ยังต้องพึ่งมนุษย์

    การใช้ GenAI ในงานชิปต้องควบคุมคุณภาพสูง เพราะ error เล็กน้อยอาจทำให้ชิปทั้งตัวใช้ไม่ได้  
    • จึงต้องมีรอบตรวจสอบหลายชั้น แม้จะใช้ AI ร่วม

    การพึ่งพา AI อย่างรวดเร็วใน R&D มีความเสี่ยงต่อการรั่วไหลของแนวคิดหรือทรัพย์สินทางปัญญา  
    • ต้องระวังในระดับการใช้งาน LLM ภายนอกที่อาจไม่ได้ควบคุมโมเดลเอง

    แนวโน้มนี้จะเพิ่มการแข่งขันในตลาดชิปแบบ arm-on-silicon สูงขึ้น  
    • บริษัทที่ไม่เร่งใช้ AI ออกแบบ อาจตามไม่ทันรอบพัฒนาผลิตภัณฑ์

    https://www.tomshardware.com/tech-industry/artificial-intelligence/apple-explores-using-generative-ai-to-design-its-chips-executive-says-it-can-be-a-huge-productivity-boost
    ช่วงนี้ Apple ไม่ได้พูดถึง AI แค่เรื่อง Siri หรือ iPhone เท่านั้น แต่กำลังใช้ GenAI เข้ามาเปลี่ยนวงในอย่าง “การออกแบบชิป” ที่เป็นหัวใจของอุปกรณ์ทุกตัวเลย Johny Srouji รองประธานอาวุโสของฝ่ายฮาร์ดแวร์ของ Apple เปิดเผยว่า Apple กำลังใช้ Generative AI ในซอฟต์แวร์ออกแบบชิป EDA เพื่อเพิ่มความเร็วและประสิทธิภาพของการพัฒนา Apple Silicon รุ่นต่อไป เช่น M-Series และ A-Series ซึ่งใช้ใน Mac และ iPhone ตามลำดับ เขาบอกเลยว่า “Generative AI สามารถเพิ่ม productivity ได้มหาศาล” เพราะเดิมทีการวางเลย์เอาต์ของชิป หรือการกำหนดวงจรใช้เวลานานและทำซ้ำบ่อยมาก แต่ถ้าให้ AI สร้างตัวเลือกอัตโนมัติ แล้ววิศวกรคัดกรอง ก็จะเร็วกว่าเดิมหลายเท่า ฝั่งบริษัท Cadence และ Synopsys ที่เป็นผู้ผลิตซอฟต์แวร์ EDA ก็เร่งเสริม GenAI เข้าไปในเครื่องมือของตัวเอง เพื่อให้รองรับแนวโน้มนี้ ซึ่งไม่ใช่แค่ Apple ที่ใช้นะครับ Google, Nvidia, AMD ก็เริ่มหันมาใช้กันหมด และไม่ใช่แค่ฝั่งตะวันตก — มีรายงานจากจีนว่าทีมนักวิจัยสามารถออกแบบซีพียูทั้งตัวโดยใช้ Large Language Model (LLM) แค่ตัวเดียวได้แล้วด้วย Apple เองเริ่มทางนี้ตั้งแต่สมัยเปลี่ยนมาใช้ Apple Silicon ใน MacBook Pro รุ่น M1 ซึ่งเป็นจุดเปลี่ยนครั้งใหญ่ในการเลิกใช้ชิป Intel และพัฒนาชิป Arm ของตนเองแบบเต็มตัว โดยเน้น performance + efficiency + ควบคุม ecosystem ทั้งหมด ✅ Apple เริ่มใช้ Generative AI เพื่อช่วยออกแบบชิปในกระบวนการ EDA (Electronic Design Automation)  • เพิ่ม productivity และลดเวลาทำงานของทีมออกแบบ   • เป็นการนำ AI มาใช้เบื้องหลัง ไม่ใช่แค่ฟีเจอร์ในอุปกรณ์ ✅ Johny Srouji ยืนยันว่า GenAI จะเป็นตัวช่วยสำคัญใน pipeline การพัฒนาชิป   • ช่วย generate layout, logic, simulation patterns   • ลดภาระงานซ้ำซ้อนให้วิศวกร ✅ บริษัท EDA ชั้นนำอย่าง Cadence และ Synopsys กำลังใส่ GenAI ในเครื่องมือของตัวเอง   • เป็นคลื่นเทคโนโลยีที่หลายผู้ผลิตชิปกำลังปรับตัวตาม ✅ Apple เคยทุ่มสุดตัวกับ Apple Silicon โดยไม่มีแผนสำรองตอนเปลี่ยนจาก Intel เป็น M1   • พร้อมพัฒนาระบบแปล x86 → Arm ผ่าน Rosetta 2 ✅ แนวโน้มของโลก: จีนกำลังพัฒนา CPU ที่ออกแบบโดย LLM ล้วน ๆ แล้วเช่นกัน   • เป็นการยืนยันว่า AI เริ่มเข้ามามีบทบาทตั้งแต่ระดับสถาปัตยกรรม ‼️ AI ยังไม่สามารถแทนที่วิศวกรออกแบบชิปได้เต็มตัวในปัจจุบัน   • ความเข้าใจเรื่องสถาปัตยกรรมและข้อจำกัดเชิงฟิสิกส์ยังต้องพึ่งมนุษย์ ‼️ การใช้ GenAI ในงานชิปต้องควบคุมคุณภาพสูง เพราะ error เล็กน้อยอาจทำให้ชิปทั้งตัวใช้ไม่ได้   • จึงต้องมีรอบตรวจสอบหลายชั้น แม้จะใช้ AI ร่วม ‼️ การพึ่งพา AI อย่างรวดเร็วใน R&D มีความเสี่ยงต่อการรั่วไหลของแนวคิดหรือทรัพย์สินทางปัญญา   • ต้องระวังในระดับการใช้งาน LLM ภายนอกที่อาจไม่ได้ควบคุมโมเดลเอง ‼️ แนวโน้มนี้จะเพิ่มการแข่งขันในตลาดชิปแบบ arm-on-silicon สูงขึ้น   • บริษัทที่ไม่เร่งใช้ AI ออกแบบ อาจตามไม่ทันรอบพัฒนาผลิตภัณฑ์ https://www.tomshardware.com/tech-industry/artificial-intelligence/apple-explores-using-generative-ai-to-design-its-chips-executive-says-it-can-be-a-huge-productivity-boost
    WWW.TOMSHARDWARE.COM
    Apple explores using generative AI to design its chips — executive says 'it can be a huge productivity boost'
    Generative AI in EDA tools will help Apple's silicon design teams run faster and more efficiently.
    0 ความคิดเห็น 0 การแบ่งปัน 462 มุมมอง 0 รีวิว
  • Path Tracing คือเทคนิคเรนเดอร์ขั้นเทพของโลกเกม ที่ให้ผลลัพธ์แสง–เงาสมจริงขั้นสุด แต่มัน กินแรงเครื่องมหาศาล ทำให้แม้แต่ AAA เกมก็ยังใช้ได้แบบจำกัด

    Intel เลยพัฒนาเทคโนโลยีเพื่อให้ iGPU และ dGPU ราคาจับต้องได้สามารถรัน Path Tracing ได้จริง โดยใช้เทคนิคหลายด้าน ทั้ง:

    - Resampled Importance Sampling (RIS) แบบใหม่
    - Open Image Denoise 2 รุ่นล่าสุดที่ใช้ Neural Denoising
    - และ Neural Texture Compression (TSNC) ที่ช่วยลดภาระหน่วยความจำได้สูงสุด 47 เท่า

    พวกเขาทดสอบบนฉาก Jungle Ruins ขนาดใหญ่ แอนิเมชันซับซ้อน มีทุกอย่างทั้งต้นไม้, เงานุ่ม, พื้นผิวมัน และแสงสะท้อน — แถมใช้เพียง 1 Ray/Pixel และ 1 Sample/Pixel เท่านั้น! แล้วค่อย “ฟื้นคืนภาพ” ด้วยเทคนิค AI Denoising ที่ใกล้เคียงกับ NVIDIA Ray Reconstruction (DLSS 3.5/4) และ AMD Ray Regeneration (FSR 4 Redstone)

    Intel ยังเผยผลลัพธ์แบบตรง ๆ ว่า GPU Arc B580 รันได้ 30FPS ที่ 1440p พร้อมระบบ AI Denoising ที่จัดการกับปัญหายาก ๆ อย่าง เงา, แสงสะท้อน, Moiré pattern, และ ghosting ได้อย่างมีประสิทธิภาพ

    Intel โชว์เดโม Path Tracing “1 ล้านล้านสามเหลี่ยม” บน Arc B580 ที่ 1440p/30FPS  
    • ใช้การเรนเดอร์ 1 sample/pixel พร้อม AI denoising

    เทคนิคใหม่ Resampled Importance Sampling (RIS) ช่วยลด noise 10 เท่า  
    • จัด sample เป็น histogram + ใช้ quasi Monte Carlo + blue noise  
    • ลดภาระเรนเดอร์แต่ได้คุณภาพใกล้ภาพจริง

    Intel เปิดตัว Open Image Denoise 2 แบบ cross-vendor  
    • รองรับการ์ด Intel/NVIDIA/AMD ได้ทั้งหมด  
    • เตรียมใช้ neural network รุ่นใหม่ในเวอร์ชันถัดไป

    Denoiser รองรับหลายอาการยาก ๆ เช่น:  
    • เงา, แสงสะท้อน, flickering, moiré, ghosting, และ disocclusion  
    • ใช้ spatiotemporal joint neural model ที่ทั้ง denoise + supersample พร้อมกัน

    Intel ใช้ Neural Texture Compression (TSNC) + DirectX Cooperative Vectors  
    • ลดภาระการโหลด texture ได้ 47 เท่าเมื่อเทียบกับ FMA  
    • ความเร็วสูงกว่า BC6 baseline แบบเดิม

    Arc B580 และ Arc 140V ใช้ TSNC ได้แล้วในไดรเวอร์ล่าสุด  
    • ลดการใช้ VRAM และเพิ่มประสิทธิภาพชัดเจน

    เทคนิคนี้จะถูกนำไปใช้ใน iGPU รุ่นถัดไปด้วย (Lunar Lake และ Battlemage)  
    • ช่วยให้ iGPU ทำ Path Tracing ได้จริงจังขึ้น

    เทคนิค denoising แบบ neural ต้องใช้ training ที่หลากหลายเพื่อให้ได้ผลดี  
    • หากข้อมูลเทรนไม่ครอบคลุม จะทำให้เกิด ghosting, flicker หรือเบลอผิดจุด

    การรัน path tracing ด้วย 1 spp มี noise สูงมาก ก่อน denoising  
    • หากไม่ได้ใช้ AI ช่วยจะมองแทบไม่รู้เรื่อง

    คุณภาพที่ได้ยังไม่เท่า real-time Path Tracing เต็มรูปแบบ เช่นของ DLSS 4 หรือ RTX GI แบบสมบูรณ์  
    • เหมาะกับผู้ที่ยอม trade-off บางอย่างเพื่อให้รันบนเครื่องเบาได้

    ยังไม่มี roadmap ชัดเจนว่าความสามารถนี้จะถูกใส่ในเกมจริงเมื่อใด  
    • ต้องรอติดตามว่าจะมี Engine ใดนำไปใช้จริงบ้าง

    https://wccftech.com/intel-enabling-high-fidelity-visuals-faster-performance-on-built-in-gpus-demos-ray-reconstruction-path-tracing-arc-b580/
    Path Tracing คือเทคนิคเรนเดอร์ขั้นเทพของโลกเกม ที่ให้ผลลัพธ์แสง–เงาสมจริงขั้นสุด แต่มัน กินแรงเครื่องมหาศาล ทำให้แม้แต่ AAA เกมก็ยังใช้ได้แบบจำกัด Intel เลยพัฒนาเทคโนโลยีเพื่อให้ iGPU และ dGPU ราคาจับต้องได้สามารถรัน Path Tracing ได้จริง โดยใช้เทคนิคหลายด้าน ทั้ง: - Resampled Importance Sampling (RIS) แบบใหม่ - Open Image Denoise 2 รุ่นล่าสุดที่ใช้ Neural Denoising - และ Neural Texture Compression (TSNC) ที่ช่วยลดภาระหน่วยความจำได้สูงสุด 47 เท่า พวกเขาทดสอบบนฉาก Jungle Ruins ขนาดใหญ่ แอนิเมชันซับซ้อน มีทุกอย่างทั้งต้นไม้, เงานุ่ม, พื้นผิวมัน และแสงสะท้อน — แถมใช้เพียง 1 Ray/Pixel และ 1 Sample/Pixel เท่านั้น! แล้วค่อย “ฟื้นคืนภาพ” ด้วยเทคนิค AI Denoising ที่ใกล้เคียงกับ NVIDIA Ray Reconstruction (DLSS 3.5/4) และ AMD Ray Regeneration (FSR 4 Redstone) Intel ยังเผยผลลัพธ์แบบตรง ๆ ว่า GPU Arc B580 รันได้ 30FPS ที่ 1440p พร้อมระบบ AI Denoising ที่จัดการกับปัญหายาก ๆ อย่าง เงา, แสงสะท้อน, Moiré pattern, และ ghosting ได้อย่างมีประสิทธิภาพ ✅ Intel โชว์เดโม Path Tracing “1 ล้านล้านสามเหลี่ยม” บน Arc B580 ที่ 1440p/30FPS   • ใช้การเรนเดอร์ 1 sample/pixel พร้อม AI denoising ✅ เทคนิคใหม่ Resampled Importance Sampling (RIS) ช่วยลด noise 10 เท่า   • จัด sample เป็น histogram + ใช้ quasi Monte Carlo + blue noise   • ลดภาระเรนเดอร์แต่ได้คุณภาพใกล้ภาพจริง ✅ Intel เปิดตัว Open Image Denoise 2 แบบ cross-vendor   • รองรับการ์ด Intel/NVIDIA/AMD ได้ทั้งหมด   • เตรียมใช้ neural network รุ่นใหม่ในเวอร์ชันถัดไป ✅ Denoiser รองรับหลายอาการยาก ๆ เช่น:   • เงา, แสงสะท้อน, flickering, moiré, ghosting, และ disocclusion   • ใช้ spatiotemporal joint neural model ที่ทั้ง denoise + supersample พร้อมกัน ✅ Intel ใช้ Neural Texture Compression (TSNC) + DirectX Cooperative Vectors   • ลดภาระการโหลด texture ได้ 47 เท่าเมื่อเทียบกับ FMA   • ความเร็วสูงกว่า BC6 baseline แบบเดิม ✅ Arc B580 และ Arc 140V ใช้ TSNC ได้แล้วในไดรเวอร์ล่าสุด   • ลดการใช้ VRAM และเพิ่มประสิทธิภาพชัดเจน ✅ เทคนิคนี้จะถูกนำไปใช้ใน iGPU รุ่นถัดไปด้วย (Lunar Lake และ Battlemage)   • ช่วยให้ iGPU ทำ Path Tracing ได้จริงจังขึ้น ‼️ เทคนิค denoising แบบ neural ต้องใช้ training ที่หลากหลายเพื่อให้ได้ผลดี   • หากข้อมูลเทรนไม่ครอบคลุม จะทำให้เกิด ghosting, flicker หรือเบลอผิดจุด ‼️ การรัน path tracing ด้วย 1 spp มี noise สูงมาก ก่อน denoising   • หากไม่ได้ใช้ AI ช่วยจะมองแทบไม่รู้เรื่อง ‼️ คุณภาพที่ได้ยังไม่เท่า real-time Path Tracing เต็มรูปแบบ เช่นของ DLSS 4 หรือ RTX GI แบบสมบูรณ์   • เหมาะกับผู้ที่ยอม trade-off บางอย่างเพื่อให้รันบนเครื่องเบาได้ ‼️ ยังไม่มี roadmap ชัดเจนว่าความสามารถนี้จะถูกใส่ในเกมจริงเมื่อใด   • ต้องรอติดตามว่าจะมี Engine ใดนำไปใช้จริงบ้าง https://wccftech.com/intel-enabling-high-fidelity-visuals-faster-performance-on-built-in-gpus-demos-ray-reconstruction-path-tracing-arc-b580/
    WCCFTECH.COM
    Intel Talks How It Is Enabling High-Fidelity Visuals & Faster Performance on Built-in GPUs, Demos Ray Reconstruction-Like Denoiser For Path Tracing On Arc B580
    At SIGGRAPH & HPG 2025, Intel talked about its improvements to visual fidelity & performance for built-in and discrete GPUs.
    0 ความคิดเห็น 0 การแบ่งปัน 372 มุมมอง 0 รีวิว
  • “Learnt” vs. “Learned”: Learn The Difference

    We use past tense verb forms like burnt and slept all the time. But what about learnt? Is it a word? Does it mean the same thing as learned? And why do some verbs form their past tense by adding a -t at the end?

    In this article, you’ll get the answers to these questions and learn all you need to know about learnt and learned.

    Quick summary

    Both learned and learnt are correct forms of the past tense and past participle of the verb learn. Of the two, learned is far more commonly used in American English. Learnt is used in British English and some other varieties.

    Is it learned or learnt?

    Both learned and learnt can be used as the past tense and past participle forms of the verb learn. In both cases, they can be used interchangeably (though frequency of use varies widely depending on the variety of English).

    Here’s an example of learned and learnt being used in the past tense: I learned/learnt how to ride a bike when I was seven years old.

    A past participle form of a verb can be used to form the present perfect verb tense (have learned/learnt) or the past perfect verb tense (had learned/learnt) or, sometimes, as an adjective.

    Here’s an example of learned and learnt being used in present perfect form: I have learned/learnt many things from you.

    And here’s an example in past participle form: I knew which berries were toxic because I had learned/learnt to identify them at camp.

    learned and learnt as adjectives

    When the past participle form learned is used as an adjective, it can be pronounced [ lur-nid ], as in a learned scholar, or [ lurnd ], as in learned behavior. It’s much less common for learnt to be used as an adjective, but when it is, it’s typically used in the same way as the second example above (in phrases like learnt behavior, for example).

    Is learnt regular or irregular?

    The past tense and past participle of most verbs are formed by adding -ed or -d to the end of the root form of the verb—as is done when forming learned from learn. Verbs whose past and past participles follow this general rule are called regular verbs, whereas verbs that don’t act this way are called irregular verbs.

    Though some consider learnt to be an irregular form, adding -t to form the past tense or past participle follows the same pattern as adding -ed—without the more drastic spelling changes seen in irregular verbs, such as when catch changes to caught.

    But learnt isn’t the only verb that ends this way.

    Examples of -t in past tense and past participle forms

    The use of -t when forming past tense or past participle is thought to be influenced in part by speech patterns (meaning that, in some cases, the dominant form likely emerges simply because it’s easier to say).

    Some verbs that add a -t instead of -ed or -d add it directly to the end of the word without any other spelling change.

    Examples: dream becomes dreamt; burn becomes burnt.

    Sometimes, though, the spelling and vowel sound in the middle of the word can change along with the ending.

    Examples: feel becomes felt; sleep becomes slept

    Some verbs only use the -t form in their past and past participle forms.

    Examples: creep becomes crept; sleep becomes slept; weep becomes wept; keep becomes kept

    Note that some -ed forms, such as sleeped and keeped, are never used and are considered incorrect.

    In other cases, both the -ed and -t forms of a verb are used.

    Examples: learned and learnt; dreamed and dreamt; burned and burnt; kneeled and knelt; smelled and smelt

    Sometimes, both forms are used with relatively similar frequency, as in the case of burned and burnt. In other cases, one of the two forms may be much less commonly used than the other. For example, kneeled is much less commonly used than knelt, and learnt is much less commonly used than learned (particularly in American English).

    © 2025, Aakkhra, All rights reserved.
    “Learnt” vs. “Learned”: Learn The Difference We use past tense verb forms like burnt and slept all the time. But what about learnt? Is it a word? Does it mean the same thing as learned? And why do some verbs form their past tense by adding a -t at the end? In this article, you’ll get the answers to these questions and learn all you need to know about learnt and learned. Quick summary Both learned and learnt are correct forms of the past tense and past participle of the verb learn. Of the two, learned is far more commonly used in American English. Learnt is used in British English and some other varieties. Is it learned or learnt? Both learned and learnt can be used as the past tense and past participle forms of the verb learn. In both cases, they can be used interchangeably (though frequency of use varies widely depending on the variety of English). Here’s an example of learned and learnt being used in the past tense: I learned/learnt how to ride a bike when I was seven years old. A past participle form of a verb can be used to form the present perfect verb tense (have learned/learnt) or the past perfect verb tense (had learned/learnt) or, sometimes, as an adjective. Here’s an example of learned and learnt being used in present perfect form: I have learned/learnt many things from you. And here’s an example in past participle form: I knew which berries were toxic because I had learned/learnt to identify them at camp. learned and learnt as adjectives When the past participle form learned is used as an adjective, it can be pronounced [ lur-nid ], as in a learned scholar, or [ lurnd ], as in learned behavior. It’s much less common for learnt to be used as an adjective, but when it is, it’s typically used in the same way as the second example above (in phrases like learnt behavior, for example). Is learnt regular or irregular? The past tense and past participle of most verbs are formed by adding -ed or -d to the end of the root form of the verb—as is done when forming learned from learn. Verbs whose past and past participles follow this general rule are called regular verbs, whereas verbs that don’t act this way are called irregular verbs. Though some consider learnt to be an irregular form, adding -t to form the past tense or past participle follows the same pattern as adding -ed—without the more drastic spelling changes seen in irregular verbs, such as when catch changes to caught. But learnt isn’t the only verb that ends this way. Examples of -t in past tense and past participle forms The use of -t when forming past tense or past participle is thought to be influenced in part by speech patterns (meaning that, in some cases, the dominant form likely emerges simply because it’s easier to say). Some verbs that add a -t instead of -ed or -d add it directly to the end of the word without any other spelling change. Examples: dream becomes dreamt; burn becomes burnt. Sometimes, though, the spelling and vowel sound in the middle of the word can change along with the ending. Examples: feel becomes felt; sleep becomes slept Some verbs only use the -t form in their past and past participle forms. Examples: creep becomes crept; sleep becomes slept; weep becomes wept; keep becomes kept Note that some -ed forms, such as sleeped and keeped, are never used and are considered incorrect. In other cases, both the -ed and -t forms of a verb are used. Examples: learned and learnt; dreamed and dreamt; burned and burnt; kneeled and knelt; smelled and smelt Sometimes, both forms are used with relatively similar frequency, as in the case of burned and burnt. In other cases, one of the two forms may be much less commonly used than the other. For example, kneeled is much less commonly used than knelt, and learnt is much less commonly used than learned (particularly in American English). © 2025, Aakkhra, All rights reserved.
    0 ความคิดเห็น 0 การแบ่งปัน 666 มุมมอง 0 รีวิว
  • Intel กำลังผลักดันการใช้ High-NA EUV lithography ในการผลิตชิป โดยติดตั้งเครื่องมือใหม่และพัฒนาเทคโนโลยีที่เกี่ยวข้อง อย่างไรก็ตาม ต้นทุนสูงและข้อจำกัดด้านโครงสร้างพื้นฐาน อาจทำให้การนำไปใช้ในอุตสาหกรรมล่าช้า

    Intel ติดตั้งเครื่อง High-NA EUV และพัฒนาเทคโนโลยีที่เกี่ยวข้อง
    - บริษัทได้ติดตั้ง ASML Twinscan EXE:5000 และพัฒนา reticles, optical proximity correction (OPC) และ photomasks
    - มีการประมวลผล 30,000 wafers เพื่อทดสอบความเป็นไปได้ของเทคโนโลยี

    ต้นทุนของ High-NA EUV สูงกว่าระบบเดิม
    - เครื่องมือแต่ละเครื่องมีราคาประมาณ $380 - $400 ล้าน ซึ่งสูงกว่ารุ่น Low-NA EUV
    - การใช้ High-NA EUV มีค่าใช้จ่ายต่อการผลิตสูงกว่าถึง 2.5 เท่า เมื่อเทียบกับ Low-NA EUV

    Intel ใช้ High-NA EUV ในกระบวนการผลิต 14A (1.4nm-class)
    - เทคโนโลยีนี้ช่วยลดจำนวนขั้นตอนจาก 30 ขั้นตอนเหลือเพียง 1 ขั้นตอน ในบางชั้นของชิป
    - ผลการทดสอบแสดงให้เห็นว่า คุณภาพของ High-NA EUV เทียบเท่ากับเทคนิคเดิม

    ข้อจำกัดด้านโครงสร้างพื้นฐานและการผลิต
    - ขนาดของ exposure field เล็กลง ทำให้ต้องใช้ การซ้อนภาพ (stitched fields) ซึ่งอาจลดประสิทธิภาพ
    - Intel เสนอให้ใช้ photomask ขนาดใหญ่ขึ้น (6×12 นิ้วแทน 6×6 นิ้ว) เพื่อแก้ปัญหานี้

    แนวโน้มของการนำ High-NA EUV มาใช้ในอุตสาหกรรม
    - Intel คาดว่าเทคโนโลยีนี้จะถูกนำไปใช้ในวงกว้างเมื่อ กระบวนการผลิตต้องการ triple หรือ quadruple patterning
    - อาจต้องรอจนถึง 1.0nm-class generation เพื่อให้ต้นทุนและโครงสร้างพื้นฐานพร้อม

    https://www.tomshardware.com/tech-industry/intel-has-championed-high-na-euv-chipmaking-tools-but-costs-and-other-limitations-could-delay-industry-wide-adoption-report
    Intel กำลังผลักดันการใช้ High-NA EUV lithography ในการผลิตชิป โดยติดตั้งเครื่องมือใหม่และพัฒนาเทคโนโลยีที่เกี่ยวข้อง อย่างไรก็ตาม ต้นทุนสูงและข้อจำกัดด้านโครงสร้างพื้นฐาน อาจทำให้การนำไปใช้ในอุตสาหกรรมล่าช้า ✅ Intel ติดตั้งเครื่อง High-NA EUV และพัฒนาเทคโนโลยีที่เกี่ยวข้อง - บริษัทได้ติดตั้ง ASML Twinscan EXE:5000 และพัฒนา reticles, optical proximity correction (OPC) และ photomasks - มีการประมวลผล 30,000 wafers เพื่อทดสอบความเป็นไปได้ของเทคโนโลยี ✅ ต้นทุนของ High-NA EUV สูงกว่าระบบเดิม - เครื่องมือแต่ละเครื่องมีราคาประมาณ $380 - $400 ล้าน ซึ่งสูงกว่ารุ่น Low-NA EUV - การใช้ High-NA EUV มีค่าใช้จ่ายต่อการผลิตสูงกว่าถึง 2.5 เท่า เมื่อเทียบกับ Low-NA EUV ✅ Intel ใช้ High-NA EUV ในกระบวนการผลิต 14A (1.4nm-class) - เทคโนโลยีนี้ช่วยลดจำนวนขั้นตอนจาก 30 ขั้นตอนเหลือเพียง 1 ขั้นตอน ในบางชั้นของชิป - ผลการทดสอบแสดงให้เห็นว่า คุณภาพของ High-NA EUV เทียบเท่ากับเทคนิคเดิม ✅ ข้อจำกัดด้านโครงสร้างพื้นฐานและการผลิต - ขนาดของ exposure field เล็กลง ทำให้ต้องใช้ การซ้อนภาพ (stitched fields) ซึ่งอาจลดประสิทธิภาพ - Intel เสนอให้ใช้ photomask ขนาดใหญ่ขึ้น (6×12 นิ้วแทน 6×6 นิ้ว) เพื่อแก้ปัญหานี้ ✅ แนวโน้มของการนำ High-NA EUV มาใช้ในอุตสาหกรรม - Intel คาดว่าเทคโนโลยีนี้จะถูกนำไปใช้ในวงกว้างเมื่อ กระบวนการผลิตต้องการ triple หรือ quadruple patterning - อาจต้องรอจนถึง 1.0nm-class generation เพื่อให้ต้นทุนและโครงสร้างพื้นฐานพร้อม https://www.tomshardware.com/tech-industry/intel-has-championed-high-na-euv-chipmaking-tools-but-costs-and-other-limitations-could-delay-industry-wide-adoption-report
    0 ความคิดเห็น 0 การแบ่งปัน 333 มุมมอง 0 รีวิว
  • จีนกำลังก้าวเข้าสู่วงการ EUV Lithography (Extreme Ultraviolet Lithography) ด้วยการพัฒนาอุปกรณ์ที่ใช้เทคโนโลยีแสงเลเซอร์แบบ LDP (Laser-Induced Discharge Plasma) ซึ่งกำลังทดสอบที่โรงงานของ Huawei ในเมืองตงกวน โดยเป้าหมายคือการเริ่มการผลิตเชิงทดลองในไตรมาส 3 ปี 2025 และผลิตในเชิงพาณิชย์ได้ในปี 2026 อุปกรณ์นี้อาจทำให้จีนหลุดพ้นจากการพึ่งพาผู้ผลิตในต่างประเทศ เช่น ASML ที่ครองตลาดด้านเทคโนโลยีนี้มาอย่างยาวนาน

    = วิธีการทำงานของ LDP และข้อได้เปรียบ =
    1) การสร้างแสง EUV: แสง EUV ที่ความยาวคลื่น 13.5 นาโนเมตรถูกผลิตขึ้นโดยการระเหยดีบุกให้กลายเป็นพลาสมา ผ่านกระบวนการปล่อยประจุไฟฟ้าแรงสูง วิธีนี้ต่างจากเทคนิค LPP (Laser-Produced Plasma) ของ ASML ที่ใช้เลเซอร์พลังงานสูงและระบบควบคุมซับซ้อน

    2) ข้อได้เปรียบของ LDP:
    - โครงสร้างเครื่องจักรเรียบง่ายกว่า
    - ใช้พลังงานอย่างมีประสิทธิภาพมากขึ้น
    - ลดต้นทุนการผลิตในระยะยาว

    = ความสำคัญในบริบทการคว่ำบาตร =
    ก่อนหน้านี้ จีนประสบปัญหาในการพัฒนาเซมิคอนดักเตอร์ขั้นสูง เนื่องจากถูกจำกัดการส่งออกอุปกรณ์ EUV จากสหรัฐฯ และพันธมิตร ทำให้การพัฒนาชิปต้องใช้เทคนิค DUV (Deep Ultraviolet) ที่มีข้อจำกัด เช่น การใช้ความยาวคลื่นที่ใหญ่กว่า (193 นาโนเมตร) และการทำการแพทเทิร์นหลายครั้ง (Multi-patterning) ซึ่งเพิ่มความซับซ้อนและต้นทุน แต่เทคโนโลยี LDP ของ Huawei นี้อาจช่วยยกระดับอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์ของจีนได้อย่างมหาศาล

    อย่างไรก็ตาม มีความท้าทายที่สำคัญ:
    - ความสามารถในการสร้างภาพที่คมชัดและละเอียดเพียงพอ
    - ความคงที่ของระบบในกระบวนการผลิตจำนวนมาก
    - การรวมอุปกรณ์นี้เข้ากับสายการผลิตที่มีอยู่ได้อย่างมีประสิทธิภาพ

    หากอุปกรณ์ของ Huawei สามารถก้าวข้ามข้อจำกัดเหล่านี้ได้ จีนอาจกลายเป็นผู้เล่นสำคัญในอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์ระดับโลก และลดอิทธิพลของ ASML ในตลาดนี้ได้อย่างมีนัยสำคัญ ซึ่งเทคโนโลยีนี้อาจเป็น "DeepSeek Moment" ที่จะปฏิวัติวงการการผลิตชิปในประเทศจีน

    https://www.techpowerup.com/333801/china-develops-domestic-euv-tool-asml-monopoly-in-trouble
    จีนกำลังก้าวเข้าสู่วงการ EUV Lithography (Extreme Ultraviolet Lithography) ด้วยการพัฒนาอุปกรณ์ที่ใช้เทคโนโลยีแสงเลเซอร์แบบ LDP (Laser-Induced Discharge Plasma) ซึ่งกำลังทดสอบที่โรงงานของ Huawei ในเมืองตงกวน โดยเป้าหมายคือการเริ่มการผลิตเชิงทดลองในไตรมาส 3 ปี 2025 และผลิตในเชิงพาณิชย์ได้ในปี 2026 อุปกรณ์นี้อาจทำให้จีนหลุดพ้นจากการพึ่งพาผู้ผลิตในต่างประเทศ เช่น ASML ที่ครองตลาดด้านเทคโนโลยีนี้มาอย่างยาวนาน = วิธีการทำงานของ LDP และข้อได้เปรียบ = 1) การสร้างแสง EUV: แสง EUV ที่ความยาวคลื่น 13.5 นาโนเมตรถูกผลิตขึ้นโดยการระเหยดีบุกให้กลายเป็นพลาสมา ผ่านกระบวนการปล่อยประจุไฟฟ้าแรงสูง วิธีนี้ต่างจากเทคนิค LPP (Laser-Produced Plasma) ของ ASML ที่ใช้เลเซอร์พลังงานสูงและระบบควบคุมซับซ้อน 2) ข้อได้เปรียบของ LDP: - โครงสร้างเครื่องจักรเรียบง่ายกว่า - ใช้พลังงานอย่างมีประสิทธิภาพมากขึ้น - ลดต้นทุนการผลิตในระยะยาว = ความสำคัญในบริบทการคว่ำบาตร = ก่อนหน้านี้ จีนประสบปัญหาในการพัฒนาเซมิคอนดักเตอร์ขั้นสูง เนื่องจากถูกจำกัดการส่งออกอุปกรณ์ EUV จากสหรัฐฯ และพันธมิตร ทำให้การพัฒนาชิปต้องใช้เทคนิค DUV (Deep Ultraviolet) ที่มีข้อจำกัด เช่น การใช้ความยาวคลื่นที่ใหญ่กว่า (193 นาโนเมตร) และการทำการแพทเทิร์นหลายครั้ง (Multi-patterning) ซึ่งเพิ่มความซับซ้อนและต้นทุน แต่เทคโนโลยี LDP ของ Huawei นี้อาจช่วยยกระดับอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์ของจีนได้อย่างมหาศาล อย่างไรก็ตาม มีความท้าทายที่สำคัญ: - ความสามารถในการสร้างภาพที่คมชัดและละเอียดเพียงพอ - ความคงที่ของระบบในกระบวนการผลิตจำนวนมาก - การรวมอุปกรณ์นี้เข้ากับสายการผลิตที่มีอยู่ได้อย่างมีประสิทธิภาพ หากอุปกรณ์ของ Huawei สามารถก้าวข้ามข้อจำกัดเหล่านี้ได้ จีนอาจกลายเป็นผู้เล่นสำคัญในอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์ระดับโลก และลดอิทธิพลของ ASML ในตลาดนี้ได้อย่างมีนัยสำคัญ ซึ่งเทคโนโลยีนี้อาจเป็น "DeepSeek Moment" ที่จะปฏิวัติวงการการผลิตชิปในประเทศจีน https://www.techpowerup.com/333801/china-develops-domestic-euv-tool-asml-monopoly-in-trouble
    WWW.TECHPOWERUP.COM
    China Develops Domestic EUV Tool, ASML Monopoly in Trouble
    China's domestic extreme ultraviolet (EUV) lithography development is far from a distant dream. The newest system, now undergoing testing at Huawei's Dongguan facility, leverages laser-induced discharge plasma (LDP) technology, representing a potentially disruptive approach to EUV light generation. ...
    0 ความคิดเห็น 0 การแบ่งปัน 778 มุมมอง 0 รีวิว
  • #ผมร่วง (alopecia)

    ผมร่วงเป็นเหตุการณ์ที่เกิดขึ้นค่อนข้างบ่อย แม้ว่าจะพบได้บ่อยในผู้สูงอายุ แต่ใครๆ ก็สามารถร่วงได้รวมถึงเด็กน้อย ผมร่วงอาจค่อยๆ เกิดขึ้นเมื่อเวลาผ่านไปหลายปีหรือเกิดขึ้นอย่างกะทันหัน ขึ้นอยู่กับสาเหตุที่แท้จริง

    ตามรายงานของ American Academy of Dermatology (AAD) เป็นเรื่องปกติที่เส้นผมจะร่วงระหว่าง 50 ถึง 100 เส้นต่อวัน เนื่องจากมีเส้นผมประมาณ 100,000 เส้นบนศีรษะ การร่วงเล็กน้อยนั้นจึงไม่สังเกตเห็นได้ชัด โดยปกติแล้วผมใหม่จะเข้ามาแทนที่ผมที่เสียไป แต่ก็ไม่ได้เกิดขึ้นเสมอไป

    อาการผมร่วง

    คือผมร่วงมากกว่าปกติ แต่ก็สามารถระบุได้ยาก

    อาการต่อไปนี้สามารถบ่งบอกบางอย่างได้:

    • ส่วนที่ขยายหากคุณแสกผม คุณอาจเริ่มสังเกตเห็นว่าส่วนนั้นของคุณกว้างขึ้น ซึ่งอาจเป็นสัญญาณของการผมบาง

    • หากคุณสังเกตเห็นเส้นผมของคุณดูฟูกว่าปกติ ก็อาจเป็นสัญญาณของการร่วงหล่นของเส้นผม

    • ผมหลวม ให้ตรวจสอบแปรงหรือหวีหลังใช้งาน ถ้าเส้นผมมีมากกว่าปกติ นี่อาจเป็นสัญญาณของการร่วงของเส้นผม

    • ท่อระบายน้ำอุดตันคุณอาจพบว่าท่อระบายในห้องอาบน้ำของคุณมีเส้นผมอุดตัน

    • ปวดหรือคัน หากคุณมีสภาพผิวหนังที่ซ่อนอยู่ซึ่งทำให้ผมร่วง คุณอาจรู้สึกเจ็บปวดหรือมีอาการคันบนหนังศีรษะด้วย

    ประเภทของผมร่วง

    ผมร่วงมีหลายประเภท บางชนิดก็พบได้บ่อยและบางชนิดพบได้ยาก และแต่ละประเภทมีสาเหตุที่แตกต่างกันออกไป:

    - ผมร่วงแบบแอนโดรเจน

    Androgenic alopecia หมายถึงผมร่วงทางพันธุกรรม เช่น ศีรษะล้านแบบเพศชายหรือศีรษะล้านแบบเพศหญิง และเรียกอีกอย่างว่า "pattern alopecia" เพราะสามารถเกิดขึ้นได้กับทั้งชายและหญิง

    นอกจากนี้ยังเป็นสาเหตุของผมร่วงที่พบบ่อยที่สุด ซึ่งส่งผลกระทบต่อผู้คนมากถึง 50%

    ผมร่วงที่เกี่ยวข้องกับผมร่วงแบบแอนโดรเจนมีแนวโน้มที่จะค่อยๆ เกิดขึ้น แม้ว่าบางคนอาจมีอาการผมร่วงตั้งแต่ช่วงวัยรุ่น แต่บางคนอาจไม่สังเกตเห็นอาการจนกว่าจะถึงวัยกลางคน

    ศีรษะล้านแบบผู้หญิงมักส่งผลให้หนังศีรษะบางลง และอาจดูเหมือนกว้างขึ้น โดยทั่วไปจะเกิดขึ้นหลังอายุ 65 ปี แต่สำหรับผู้หญิงบางคน อาจเกิดได้ตั้งแต่อายุยังน้อย

    ศีรษะล้านแบบผู้ชายมักเกี่ยวข้องกับผมร่วงที่มากขึ้นบริเวณขมับและผมบางที่กระหม่อม ทำให้เกิดรูปร่างเป็นรูปตัว "M"

    - ผมร่วงเป็นหย่อม

    ผมร่วงเป็นหย่อมเป็นภาวะแพ้ภูมิตนเองที่ทำให้ระบบภูมิคุ้มกันของคุณโจมตีรูขุมขน ส่งผลให้เกิดปื้นหัวล้านที่มีตั้งแต่เล็กไปจนถึงใหญ่ ในบางกรณีอาจทำให้ผมร่วงโดยสิ้นเชิง

    นอกจากผมร่วงบนหนังศีรษะแล้ว บางคนยังร่วงบริเวณคิ้ว ขนตา หรือส่วนอื่นๆ ของร่างกายด้วย

    - Anagen effluvium

    Anagen effluvium เกี่ยวข้องกับการร่วงของเส้นผมอย่างรวดเร็ว ซึ่งมักเกิดขึ้นเนื่องจากการฉายรังสีหรือเคมีบำบัด

    โดยปกติแล้วผมจะขึ้นใหม่หลังจากหยุดการรักษา

    - เทโลเจน เอฟฟลูเวียม

    Telogen effluvium คืออาการผมร่วงอย่างกะทันหันประเภทหนึ่งที่เป็นผลจากภาวะช็อกทางอารมณ์หรือร่างกาย เช่น เหตุการณ์ที่กระทบกระเทือนจิตใจ ช่วงเวลาของความเครียดอย่างรุนแรง หรือการเจ็บป่วยร้ายแรง

    นอกจากนี้ยังสามารถเกิดขึ้นได้เนื่องจากการเปลี่ยนแปลงของฮอร์โมน เช่น:

    • หลังคลอด

    • วัยหมดประจำเดือน

    • กลุ่มอาการถุงน้ำรังไข่หลายใบ (PCOS)

    สาเหตุที่เป็นไปได้อื่น ๆ ของ telogen effluvium ได้แก่:

    • ภาวะทุพโภชนาการรวมทั้งการขาดวิตามินหรือแร่ธาตุ

    • ความผิดปกติของต่อมไร้ท่อบางอย่าง

    • เริ่มหรือหยุดการคุมกำเนิดด้วยฮอร์โมน

    • หลังการผ่าตัดอันเป็นผลจากการดมยาสลบ

    • การเจ็บป่วยเฉียบพลันหรือการติดเชื้อรุนแรง เช่น โควิด-19

    ยาหลายชนิดสามารถทำให้เกิดอาการนี้ได้ เช่น:

    • สารกันเลือดแข็ง

    • ยากันชัก

    • เรตินอยด์ในช่องปาก

    • ตัวบล็อคเบต้า

    • ยารักษาโรคไทรอยด์

    ผมร่วงประเภทนี้มักจะหายไปเองเมื่อแก้ไขสาเหตุที่แท้จริงแล้ว

    - Tinea capitis

    Tinea capitis หรือที่เรียกว่ากลากของหนังศีรษะคือการติดเชื้อราที่อาจส่งผลต่อหนังศีรษะและเส้นผม ทำให้เกิดปื้นเล็กๆ ที่เป็นสะเก็ดและคัน เมื่อเวลาผ่านไปหากไม่ได้รับการรักษาตั้งแต่เนิ่นๆ ขนาดของแผ่นแปะจะเพิ่มขึ้นและเต็มไปด้วยหนอง

    บางครั้งเรียกว่า kerion อาจทำให้เกิดแผลเป็นได้เช่นกัน

    อาการอื่นๆ ได้แก่:

    • ผมเปราะแตกหักง่าย

    • หนังศีรษะนุ่มและบวม

    • ผิวหนังเป็นหย่อมๆ มีลักษณะเป็นสีเทาหรือแดง

    สามารถรักษาได้ด้วยยาต้านเชื้อรา

    -Traction alopecia (ผมร่วงฉุด)

    ผมร่วงจากการดึงรั้งเป็นผลมาจากแรงกดทับบนเส้นผมมากเกินไป โดยมักเกิดจากการสวมผมที่รัดแน่น เช่น การถักเปีย ผมหางม้า หรือมวยผม

    มีบางสิ่งที่คุณสามารถทำได้เพื่อลดการหลุดร่วงของเส้นผม:

    • เก็บทรงผมให้หลวมหากคุณจัดแต่งทรงผมเป็นเปีย มวยหรือผมหางม้าเป็นประจำ พยายามปล่อยผมหลวมๆ เพื่อไม่ให้กดดันผมมากเกินไป

    • หลีกเลี่ยงการสัมผัสเส้นผมพยายามอย่าดึง บิด หรือถูผมให้มากที่สุด

    • ซับผมให้แห้งหลังจากสระผมแล้ว ให้ใช้ผ้าขนหนูซับผมให้แห้งเบาๆ หลีกเลี่ยงการถูผมด้วยผ้าขนหนูหรือบิดผมภายในผ้าขนหนู

    • ตั้งเป้ารับประทานอาหารที่อุดมด้วยสารอาหารอย่างสมดุลพยายามรวมธาตุเหล็กและโปรตีนจำนวนมากไว้ในของว่างและอาหาร

    ผลิตภัณฑ์และเครื่องมือจัดแต่งทรงผมเป็นสาเหตุของอาการผมร่วงที่พบบ่อยเช่นกัน ตัวอย่างผลิตภัณฑ์หรือเครื่องมือที่อาจส่งผลต่อผมร่วง ได้แก่:

    • เครื่องเป่าลม

    • หวีอุ่น

    • เครื่องหนีบผม

    • ผลิตภัณฑ์ระบายสี

    • สารฟอกขาว

    • ดัดผม

    หากคุณตัดสินใจจัดแต่งทรงผมโดยใช้อุปกรณ์ทำความร้อน ให้ทำเฉพาะตอนที่ผมแห้งแล้วใช้การตั้งค่าที่ต่ำที่สุดเท่าที่จะเป็นไปได้

    หากคุณกำลังผมร่วงอยู่ ให้ใช้แชมพูเด็กสูตรเกลือเพื่อสระผม

    เคล็ดลับการรักษาผมเพื่อการเจริญเติบโตของเส้นผม

    1. นวด

    การนวดหนังศีรษะด้วยน้ำมันผมและมาส์กช่วยกระตุ้นหนังศีรษะและอาจเพิ่มความหนาของเส้นผม

    การยืดกล้ามเนื้อระหว่างการนวดสามารถกระตุ้นการเจริญเติบโตของเส้นผมและความหนาในเซลล์ตุ่มผิวหนังซึ่งอยู่ที่ด้านล่างของรูขุมขน เซลล์เหล่านี้มีบทบาทสำคัญในวงจรการงอกใหม่และการเจริญเติบโตของเส้นผม

    การศึกษาปี 2019 แสดงให้เห็นว่าการนวดหนังศีรษะช่วยเพิ่มการเจริญเติบโตของเส้นผม การไหลเวียนของเลือด และสุขภาพหนังศีรษะในผู้คน การนวดหนังศีรษะยังช่วยลดความเครียดและความตึงเครียด ซึ่งเป็นสองอารมณ์ที่อาจทำให้ผมร่วงได้

    หากต้องการนวดหนังศีรษะ ให้ใช้ปลายนิ้ว ไม่ใช่เล็บ เคลื่อนไปทั่วหนังศีรษะเป็นวงกลมเล็กๆ โดยใช้แรงกดเบาถึงปานกลาง การนวดไม่มีเวลาจำกัด อย่างไรก็ตาม ในการศึกษาข้างต้น มีการนวดหนังศีรษะแต่ละครั้งทุกวันเป็นเวลา 4 นาที เป็นเวลา 24 สัปดาห์

    2. ว่านหางจระเข้

    ว่านหางจระเข้อาจช่วยรักษาอาการผมร่วงได้ หลักฐาน แสดงให้เห็นว่าว่านหางจระเข้อาจช่วยได้โดย:

    • ผ่อนคลายหนังศีรษะของคุณ

    • ปรับสภาพเส้นผมของคุณ

    • ลดรังแค

    • ปลดบล็อกรูขุมขน

    คุณสามารถทาเจลว่านหางจระเข้บริสุทธิ์บนหนังศีรษะได้ 2-3 ครั้งต่อสัปดาห์ คุณยังสามารถใช้แชมพูและครีมนวดผมที่มีส่วนผสมของว่านหางจระเข้ได้

    3.น้ำมันมะพร้าว

    น้ำมันมะพร้าวประกอบด้วยกรดไขมันที่เรียกว่ากรดลอริก ซึ่งแทรกซึมเข้าไปภายในเส้นผมและลดการสูญเสียโปรตีนจากเส้นผม

    การศึกษาปี 2021 ยังพบว่าน้ำมันมะพร้าวที่ทาบนหนังศีรษะอาจเพิ่มคุณค่าให้กับไมโครไบโอมของหนังศีรษะ ทำให้หนังศีรษะและรูขุมขนมีสุขภาพที่ดีขึ้น

    น้ำมันมะพร้าวสามารถใช้ได้ก่อนหรือหลังสระผม ขึ้นอยู่กับประเภทเส้นผมของคุณ หากผมของคุณมีแนวโน้มที่จะมัน คุณสามารถทำทรีตเมนต์ทิ้งไว้ข้ามคืนหรือสองสามชั่วโมงก่อนสระผมได้

    นวดน้ำมันมะพร้าวให้ทั่วหนังศีรษะและเส้นผมทั้งหมด หากผมของคุณแห้ง คุณสามารถใช้เป็นทรีทเม้นต์แบบไม่ต้องล้างออกก็ได้

    4.ไขมันโอเมก้า 3

    ผลิตภัณฑ์เสริมอาหารน้ำมันคริลเต็มไปด้วยสารอาหาร เช่น โปรตีนและกรดไขมันโอเมก้า 3

    การศึกษาปี 2015 พบว่าการรับประทานอาหารเสริมโอเมก้า3ร่วมกับสารต้านอนุมูลอิสระ ช่วยเพิ่มความหนาแน่นของเส้นผมและลดผมร่วงได้

    กรดไขมันโอเมก้า 3 อาจช่วยลดการอักเสบและเพิ่มภูมิคุ้มกัน สิ่งเหล่านี้อาจช่วยเพิ่มวงจรการเจริญเติบโตของเส้นผม และปรับปรุงสุขภาพโดยรวมของคุณ

    5.โสม

    การทานอาหารเสริมโสมอาจช่วยส่งเสริมการเจริญเติบโตของเส้นผมโดยการกระตุ้นรูขุมขน Ginsenosides เป็นส่วนประกอบออกฤทธิ์ของโสมและคิดว่ามีส่วนรับผิดชอบต่อผลเชิงบวกของโสมต่อเส้นผม

    6. น้ำหัวหอม

    หากคุณสามารถรับมือกับกลิ่นของน้ำหัวหอมได้ คุณอาจพบว่าคุณประโยชน์ต่างๆ นั้นคุ้มค่า

    การศึกษาปี 2014 พบว่าน้ำหัวหอมอาจช่วยส่งเสริมการเจริญเติบโตของเส้นผมและรักษาผมร่วงเป็นหย่อมๆ นี่คือภาวะภูมิต้านตนเองที่ร่างกายโจมตีรูขุมขน ทำให้ผมร่วงตามส่วนต่างๆ ของร่างกาย

    น้ำหัวหอมยังเชื่อกันว่าช่วยเพิ่มการไหลเวียนโลหิต การศึกษาในสัตว์ทดลองในปี 2015 พบว่าปัจจัยการเจริญเติบโตของเคราติโนไซต์ดีขึ้น ซึ่งเป็นสื่อกลางที่สำคัญในการพัฒนาและการเจริญเติบโตของรูขุมขน

    หากต้องการใช้น้ำหัวหอม ให้ปั่นหัวหอม 2-3 หัวแล้วบีบน้ำออก ใช้น้ำบนหนังศีรษะและเส้นผมของคุณแล้วปล่อยทิ้งไว้อย่างน้อย 15 นาที จากนั้นตามด้วยแชมพู

    7.น้ำมันมะนาว

    การศึกษาในสัตว์ทดลองในปี 2016 พบว่าน้ำมันมะนาวอาจช่วยรักษาหนังศีรษะให้แข็งแรงและกระตุ้นการเจริญเติบโตของเส้นผม ในทำนองเดียวกัน บทวิจารณ์ปี 2021 แนะนำว่ากรดซินาปิกซึ่งเป็นสารเคมีออกฤทธิ์ทางชีวภาพในมะนาวอาจช่วยส่งเสริมการเจริญเติบโตของเส้นผม

    ใช้น้ำมะนาวสดกับหนังศีรษะและเส้นผมของคุณ 15 นาทีก่อนสระผม คุณยังสามารถใช้น้ำมันหอมระเหยมะนาว เจือจางในน้ำมันตัวพาเป็นส่วนหนึ่งของมาส์กผมได้

    พูดคุยกับผู้เชี่ยวชาญด้านสุขภาพหากคุณผมร่วงมากกว่าปกติ โดยเฉพาะอย่างยิ่งหากผมร่วงร่วมกับอาการอื่นๆ เช่น:

    • ความเหนื่อยล้า

    • ความวิตกกังวล

    • อาการคัน

    • อารมณ์เปลี่ยนแปลง

    ผลิตภัณฑ์และอาหารเสริมแนะนำ

    Fixx pro
    K cal
    Paa super h
    Alovi
    Praow
    Are shampoo
    Are treatment

    Cr. Santi Manadee
    #ผมร่วง (alopecia) ผมร่วงเป็นเหตุการณ์ที่เกิดขึ้นค่อนข้างบ่อย แม้ว่าจะพบได้บ่อยในผู้สูงอายุ แต่ใครๆ ก็สามารถร่วงได้รวมถึงเด็กน้อย ผมร่วงอาจค่อยๆ เกิดขึ้นเมื่อเวลาผ่านไปหลายปีหรือเกิดขึ้นอย่างกะทันหัน ขึ้นอยู่กับสาเหตุที่แท้จริง ตามรายงานของ American Academy of Dermatology (AAD) เป็นเรื่องปกติที่เส้นผมจะร่วงระหว่าง 50 ถึง 100 เส้นต่อวัน เนื่องจากมีเส้นผมประมาณ 100,000 เส้นบนศีรษะ การร่วงเล็กน้อยนั้นจึงไม่สังเกตเห็นได้ชัด โดยปกติแล้วผมใหม่จะเข้ามาแทนที่ผมที่เสียไป แต่ก็ไม่ได้เกิดขึ้นเสมอไป อาการผมร่วง คือผมร่วงมากกว่าปกติ แต่ก็สามารถระบุได้ยาก อาการต่อไปนี้สามารถบ่งบอกบางอย่างได้: • ส่วนที่ขยายหากคุณแสกผม คุณอาจเริ่มสังเกตเห็นว่าส่วนนั้นของคุณกว้างขึ้น ซึ่งอาจเป็นสัญญาณของการผมบาง • หากคุณสังเกตเห็นเส้นผมของคุณดูฟูกว่าปกติ ก็อาจเป็นสัญญาณของการร่วงหล่นของเส้นผม • ผมหลวม ให้ตรวจสอบแปรงหรือหวีหลังใช้งาน ถ้าเส้นผมมีมากกว่าปกติ นี่อาจเป็นสัญญาณของการร่วงของเส้นผม • ท่อระบายน้ำอุดตันคุณอาจพบว่าท่อระบายในห้องอาบน้ำของคุณมีเส้นผมอุดตัน • ปวดหรือคัน หากคุณมีสภาพผิวหนังที่ซ่อนอยู่ซึ่งทำให้ผมร่วง คุณอาจรู้สึกเจ็บปวดหรือมีอาการคันบนหนังศีรษะด้วย ประเภทของผมร่วง ผมร่วงมีหลายประเภท บางชนิดก็พบได้บ่อยและบางชนิดพบได้ยาก และแต่ละประเภทมีสาเหตุที่แตกต่างกันออกไป: - ผมร่วงแบบแอนโดรเจน Androgenic alopecia หมายถึงผมร่วงทางพันธุกรรม เช่น ศีรษะล้านแบบเพศชายหรือศีรษะล้านแบบเพศหญิง และเรียกอีกอย่างว่า "pattern alopecia" เพราะสามารถเกิดขึ้นได้กับทั้งชายและหญิง นอกจากนี้ยังเป็นสาเหตุของผมร่วงที่พบบ่อยที่สุด ซึ่งส่งผลกระทบต่อผู้คนมากถึง 50% ผมร่วงที่เกี่ยวข้องกับผมร่วงแบบแอนโดรเจนมีแนวโน้มที่จะค่อยๆ เกิดขึ้น แม้ว่าบางคนอาจมีอาการผมร่วงตั้งแต่ช่วงวัยรุ่น แต่บางคนอาจไม่สังเกตเห็นอาการจนกว่าจะถึงวัยกลางคน ศีรษะล้านแบบผู้หญิงมักส่งผลให้หนังศีรษะบางลง และอาจดูเหมือนกว้างขึ้น โดยทั่วไปจะเกิดขึ้นหลังอายุ 65 ปี แต่สำหรับผู้หญิงบางคน อาจเกิดได้ตั้งแต่อายุยังน้อย ศีรษะล้านแบบผู้ชายมักเกี่ยวข้องกับผมร่วงที่มากขึ้นบริเวณขมับและผมบางที่กระหม่อม ทำให้เกิดรูปร่างเป็นรูปตัว "M" - ผมร่วงเป็นหย่อม ผมร่วงเป็นหย่อมเป็นภาวะแพ้ภูมิตนเองที่ทำให้ระบบภูมิคุ้มกันของคุณโจมตีรูขุมขน ส่งผลให้เกิดปื้นหัวล้านที่มีตั้งแต่เล็กไปจนถึงใหญ่ ในบางกรณีอาจทำให้ผมร่วงโดยสิ้นเชิง นอกจากผมร่วงบนหนังศีรษะแล้ว บางคนยังร่วงบริเวณคิ้ว ขนตา หรือส่วนอื่นๆ ของร่างกายด้วย - Anagen effluvium Anagen effluvium เกี่ยวข้องกับการร่วงของเส้นผมอย่างรวดเร็ว ซึ่งมักเกิดขึ้นเนื่องจากการฉายรังสีหรือเคมีบำบัด โดยปกติแล้วผมจะขึ้นใหม่หลังจากหยุดการรักษา - เทโลเจน เอฟฟลูเวียม Telogen effluvium คืออาการผมร่วงอย่างกะทันหันประเภทหนึ่งที่เป็นผลจากภาวะช็อกทางอารมณ์หรือร่างกาย เช่น เหตุการณ์ที่กระทบกระเทือนจิตใจ ช่วงเวลาของความเครียดอย่างรุนแรง หรือการเจ็บป่วยร้ายแรง นอกจากนี้ยังสามารถเกิดขึ้นได้เนื่องจากการเปลี่ยนแปลงของฮอร์โมน เช่น: • หลังคลอด • วัยหมดประจำเดือน • กลุ่มอาการถุงน้ำรังไข่หลายใบ (PCOS) สาเหตุที่เป็นไปได้อื่น ๆ ของ telogen effluvium ได้แก่: • ภาวะทุพโภชนาการรวมทั้งการขาดวิตามินหรือแร่ธาตุ • ความผิดปกติของต่อมไร้ท่อบางอย่าง • เริ่มหรือหยุดการคุมกำเนิดด้วยฮอร์โมน • หลังการผ่าตัดอันเป็นผลจากการดมยาสลบ • การเจ็บป่วยเฉียบพลันหรือการติดเชื้อรุนแรง เช่น โควิด-19 ยาหลายชนิดสามารถทำให้เกิดอาการนี้ได้ เช่น: • สารกันเลือดแข็ง • ยากันชัก • เรตินอยด์ในช่องปาก • ตัวบล็อคเบต้า • ยารักษาโรคไทรอยด์ ผมร่วงประเภทนี้มักจะหายไปเองเมื่อแก้ไขสาเหตุที่แท้จริงแล้ว - Tinea capitis Tinea capitis หรือที่เรียกว่ากลากของหนังศีรษะคือการติดเชื้อราที่อาจส่งผลต่อหนังศีรษะและเส้นผม ทำให้เกิดปื้นเล็กๆ ที่เป็นสะเก็ดและคัน เมื่อเวลาผ่านไปหากไม่ได้รับการรักษาตั้งแต่เนิ่นๆ ขนาดของแผ่นแปะจะเพิ่มขึ้นและเต็มไปด้วยหนอง บางครั้งเรียกว่า kerion อาจทำให้เกิดแผลเป็นได้เช่นกัน อาการอื่นๆ ได้แก่: • ผมเปราะแตกหักง่าย • หนังศีรษะนุ่มและบวม • ผิวหนังเป็นหย่อมๆ มีลักษณะเป็นสีเทาหรือแดง สามารถรักษาได้ด้วยยาต้านเชื้อรา -Traction alopecia (ผมร่วงฉุด) ผมร่วงจากการดึงรั้งเป็นผลมาจากแรงกดทับบนเส้นผมมากเกินไป โดยมักเกิดจากการสวมผมที่รัดแน่น เช่น การถักเปีย ผมหางม้า หรือมวยผม มีบางสิ่งที่คุณสามารถทำได้เพื่อลดการหลุดร่วงของเส้นผม: • เก็บทรงผมให้หลวมหากคุณจัดแต่งทรงผมเป็นเปีย มวยหรือผมหางม้าเป็นประจำ พยายามปล่อยผมหลวมๆ เพื่อไม่ให้กดดันผมมากเกินไป • หลีกเลี่ยงการสัมผัสเส้นผมพยายามอย่าดึง บิด หรือถูผมให้มากที่สุด • ซับผมให้แห้งหลังจากสระผมแล้ว ให้ใช้ผ้าขนหนูซับผมให้แห้งเบาๆ หลีกเลี่ยงการถูผมด้วยผ้าขนหนูหรือบิดผมภายในผ้าขนหนู • ตั้งเป้ารับประทานอาหารที่อุดมด้วยสารอาหารอย่างสมดุลพยายามรวมธาตุเหล็กและโปรตีนจำนวนมากไว้ในของว่างและอาหาร ผลิตภัณฑ์และเครื่องมือจัดแต่งทรงผมเป็นสาเหตุของอาการผมร่วงที่พบบ่อยเช่นกัน ตัวอย่างผลิตภัณฑ์หรือเครื่องมือที่อาจส่งผลต่อผมร่วง ได้แก่: • เครื่องเป่าลม • หวีอุ่น • เครื่องหนีบผม • ผลิตภัณฑ์ระบายสี • สารฟอกขาว • ดัดผม หากคุณตัดสินใจจัดแต่งทรงผมโดยใช้อุปกรณ์ทำความร้อน ให้ทำเฉพาะตอนที่ผมแห้งแล้วใช้การตั้งค่าที่ต่ำที่สุดเท่าที่จะเป็นไปได้ หากคุณกำลังผมร่วงอยู่ ให้ใช้แชมพูเด็กสูตรเกลือเพื่อสระผม เคล็ดลับการรักษาผมเพื่อการเจริญเติบโตของเส้นผม 1. นวด การนวดหนังศีรษะด้วยน้ำมันผมและมาส์กช่วยกระตุ้นหนังศีรษะและอาจเพิ่มความหนาของเส้นผม การยืดกล้ามเนื้อระหว่างการนวดสามารถกระตุ้นการเจริญเติบโตของเส้นผมและความหนาในเซลล์ตุ่มผิวหนังซึ่งอยู่ที่ด้านล่างของรูขุมขน เซลล์เหล่านี้มีบทบาทสำคัญในวงจรการงอกใหม่และการเจริญเติบโตของเส้นผม การศึกษาปี 2019 แสดงให้เห็นว่าการนวดหนังศีรษะช่วยเพิ่มการเจริญเติบโตของเส้นผม การไหลเวียนของเลือด และสุขภาพหนังศีรษะในผู้คน การนวดหนังศีรษะยังช่วยลดความเครียดและความตึงเครียด ซึ่งเป็นสองอารมณ์ที่อาจทำให้ผมร่วงได้ หากต้องการนวดหนังศีรษะ ให้ใช้ปลายนิ้ว ไม่ใช่เล็บ เคลื่อนไปทั่วหนังศีรษะเป็นวงกลมเล็กๆ โดยใช้แรงกดเบาถึงปานกลาง การนวดไม่มีเวลาจำกัด อย่างไรก็ตาม ในการศึกษาข้างต้น มีการนวดหนังศีรษะแต่ละครั้งทุกวันเป็นเวลา 4 นาที เป็นเวลา 24 สัปดาห์ 2. ว่านหางจระเข้ ว่านหางจระเข้อาจช่วยรักษาอาการผมร่วงได้ หลักฐาน แสดงให้เห็นว่าว่านหางจระเข้อาจช่วยได้โดย: • ผ่อนคลายหนังศีรษะของคุณ • ปรับสภาพเส้นผมของคุณ • ลดรังแค • ปลดบล็อกรูขุมขน คุณสามารถทาเจลว่านหางจระเข้บริสุทธิ์บนหนังศีรษะได้ 2-3 ครั้งต่อสัปดาห์ คุณยังสามารถใช้แชมพูและครีมนวดผมที่มีส่วนผสมของว่านหางจระเข้ได้ 3.น้ำมันมะพร้าว น้ำมันมะพร้าวประกอบด้วยกรดไขมันที่เรียกว่ากรดลอริก ซึ่งแทรกซึมเข้าไปภายในเส้นผมและลดการสูญเสียโปรตีนจากเส้นผม การศึกษาปี 2021 ยังพบว่าน้ำมันมะพร้าวที่ทาบนหนังศีรษะอาจเพิ่มคุณค่าให้กับไมโครไบโอมของหนังศีรษะ ทำให้หนังศีรษะและรูขุมขนมีสุขภาพที่ดีขึ้น น้ำมันมะพร้าวสามารถใช้ได้ก่อนหรือหลังสระผม ขึ้นอยู่กับประเภทเส้นผมของคุณ หากผมของคุณมีแนวโน้มที่จะมัน คุณสามารถทำทรีตเมนต์ทิ้งไว้ข้ามคืนหรือสองสามชั่วโมงก่อนสระผมได้ นวดน้ำมันมะพร้าวให้ทั่วหนังศีรษะและเส้นผมทั้งหมด หากผมของคุณแห้ง คุณสามารถใช้เป็นทรีทเม้นต์แบบไม่ต้องล้างออกก็ได้ 4.ไขมันโอเมก้า 3 ผลิตภัณฑ์เสริมอาหารน้ำมันคริลเต็มไปด้วยสารอาหาร เช่น โปรตีนและกรดไขมันโอเมก้า 3 การศึกษาปี 2015 พบว่าการรับประทานอาหารเสริมโอเมก้า3ร่วมกับสารต้านอนุมูลอิสระ ช่วยเพิ่มความหนาแน่นของเส้นผมและลดผมร่วงได้ กรดไขมันโอเมก้า 3 อาจช่วยลดการอักเสบและเพิ่มภูมิคุ้มกัน สิ่งเหล่านี้อาจช่วยเพิ่มวงจรการเจริญเติบโตของเส้นผม และปรับปรุงสุขภาพโดยรวมของคุณ 5.โสม การทานอาหารเสริมโสมอาจช่วยส่งเสริมการเจริญเติบโตของเส้นผมโดยการกระตุ้นรูขุมขน Ginsenosides เป็นส่วนประกอบออกฤทธิ์ของโสมและคิดว่ามีส่วนรับผิดชอบต่อผลเชิงบวกของโสมต่อเส้นผม 6. น้ำหัวหอม หากคุณสามารถรับมือกับกลิ่นของน้ำหัวหอมได้ คุณอาจพบว่าคุณประโยชน์ต่างๆ นั้นคุ้มค่า การศึกษาปี 2014 พบว่าน้ำหัวหอมอาจช่วยส่งเสริมการเจริญเติบโตของเส้นผมและรักษาผมร่วงเป็นหย่อมๆ นี่คือภาวะภูมิต้านตนเองที่ร่างกายโจมตีรูขุมขน ทำให้ผมร่วงตามส่วนต่างๆ ของร่างกาย น้ำหัวหอมยังเชื่อกันว่าช่วยเพิ่มการไหลเวียนโลหิต การศึกษาในสัตว์ทดลองในปี 2015 พบว่าปัจจัยการเจริญเติบโตของเคราติโนไซต์ดีขึ้น ซึ่งเป็นสื่อกลางที่สำคัญในการพัฒนาและการเจริญเติบโตของรูขุมขน หากต้องการใช้น้ำหัวหอม ให้ปั่นหัวหอม 2-3 หัวแล้วบีบน้ำออก ใช้น้ำบนหนังศีรษะและเส้นผมของคุณแล้วปล่อยทิ้งไว้อย่างน้อย 15 นาที จากนั้นตามด้วยแชมพู 7.น้ำมันมะนาว การศึกษาในสัตว์ทดลองในปี 2016 พบว่าน้ำมันมะนาวอาจช่วยรักษาหนังศีรษะให้แข็งแรงและกระตุ้นการเจริญเติบโตของเส้นผม ในทำนองเดียวกัน บทวิจารณ์ปี 2021 แนะนำว่ากรดซินาปิกซึ่งเป็นสารเคมีออกฤทธิ์ทางชีวภาพในมะนาวอาจช่วยส่งเสริมการเจริญเติบโตของเส้นผม ใช้น้ำมะนาวสดกับหนังศีรษะและเส้นผมของคุณ 15 นาทีก่อนสระผม คุณยังสามารถใช้น้ำมันหอมระเหยมะนาว เจือจางในน้ำมันตัวพาเป็นส่วนหนึ่งของมาส์กผมได้ พูดคุยกับผู้เชี่ยวชาญด้านสุขภาพหากคุณผมร่วงมากกว่าปกติ โดยเฉพาะอย่างยิ่งหากผมร่วงร่วมกับอาการอื่นๆ เช่น: • ความเหนื่อยล้า • ความวิตกกังวล • อาการคัน • อารมณ์เปลี่ยนแปลง ผลิตภัณฑ์และอาหารเสริมแนะนำ Fixx pro K cal Paa super h Alovi Praow Are shampoo Are treatment Cr. Santi Manadee
    0 ความคิดเห็น 0 การแบ่งปัน 1788 มุมมอง 0 รีวิว
  • อยากปลดล็อกศักยภาพความเป็นผู้นำในตัวคุณหรือไม่?

    บทความ "Unlock Your Leadership Potential: NLP Patterns for 20 Challenges (Part 1)" พาคุณไปสำรวจเทคนิค NLP ที่ช่วยรับมือกับความท้าทายต่างๆ ของผู้นำ และลงมือปฏิบัติแบบมืออาชีพ เพื่อพัฒนาตนเองสู่ความเป็นผู้นำที่ยอดเยี่ยม คลิกอ่านเลยที่ https://hypnosiscredentials.com/techniques/nlp-patterns-for-20-challenges/
    อยากปลดล็อกศักยภาพความเป็นผู้นำในตัวคุณหรือไม่? บทความ "Unlock Your Leadership Potential: NLP Patterns for 20 Challenges (Part 1)" พาคุณไปสำรวจเทคนิค NLP ที่ช่วยรับมือกับความท้าทายต่างๆ ของผู้นำ และลงมือปฏิบัติแบบมืออาชีพ เพื่อพัฒนาตนเองสู่ความเป็นผู้นำที่ยอดเยี่ยม คลิกอ่านเลยที่ https://hypnosiscredentials.com/techniques/nlp-patterns-for-20-challenges/
    0 ความคิดเห็น 0 การแบ่งปัน 607 มุมมอง 0 รีวิว
  • How To Spell W And Other Letters Of The Alphabet

    No doubt you know your ABCs, but do you know how to spell the names of the letters themselves? For example, how would you spell the name of the letter W? In this article, we are going to take a look at how to spell out the different consonants of the alphabet. Why just the consonants? Well, spelling the names of the vowels is unusual, and the spellings vary widely.

    We don’t often have a reason to spell out the names of letters. They show up in some words or phrases, like tee-shirt or em-dash. Knowing how to spell out the letters is a good trick to have in your back pocket when playing word games like Scrabble and Words With Friends. Mostly though, the spelled-out names of the consonants are fun trivia any word lover will enjoy.

    B – bee
    The letter B is spelled just like the insect: b-e-e. The plural is bees, like something you might find in a hive. Before it was bee, the letter B was part of the Phoenician alphabet and was known as beth.

    C – cee
    The spelling of the letter C might surprise you. It isn’t spelled with an S but a C: c-e-e. The spelling cee might come in handy especially when writing about something “shaped or formed like the letter C,” as in she was curled in a cee, holding her pillow.

    D – dee
    You might be picking up on a pattern here. Like B and C, the letter D is spelled out with -ee: d-e-e. Like the letter B, dee originally had another name in the Phoenician alphabet: daleth.

    F – ef
    The letter F is spelled e-f. The spelled out name ef is occasionally used as an abbreviation for much saltier language.

    G – gee
    With the exception of ef, the letter G is spelled like the other letters we have seen so far: gee. Particularly in American slang, the spelled out name gee is used as an abbreviation for grand, in the sense of “thousand dollars.”

    H – aitch
    The letter H has a tricky spelling and pronunciation. It is spelled aitch, but the pronunciation of its name is [ eych ]. The letter comes from Northern Semitic languages and its modern corollary is the Hebrew letter heth.

    J – jay
    The letter J has a long and complicated history—it began as a swash, a typographical embellishment for the already existing I—but its spelling is relatively straightforward: jay. Like C, the spelling jay can be useful when describing something in the shape of the letter.

    K – kay
    You may already be familiar with the spelling of the letter K from the expression okay, or OK. Just like in okay, K is typically spelled k-a-y. Okay is a unique Americanism that you can read more about here.

    L – el
    El is most easily recognizable as the common abbreviation for elevated railroad. However, it is also the spelling for the letter L.

    M – em
    The spelling of the letter M, em, can be found in the name of the punctuation mark em dash (—). The name of the punctuation mark comes from the fact that it is the width of the letter M when printed.

    N – en
    Much like the letters em and en themselves, the em-dash and en-dash are often mixed up. The en dash is, you guessed it, the width of the letter N when printed. The en dash (–) is shorter than an em dash (—).

    P – pee
    The most scatological letter name is pee (P). The use of pee as a verb and noun to refer to urination actually comes from a euphemism for the vulgar piss, using the spelling of the initial letter in piss: P.

    Q – cue
    The letter Q has the honor of being one of two letters that is not included in the spelling of its own name: cue. The use of cue as a verb or noun to refer to “anything that excites to action” comes from another abbreviation related to the letter itself. In acting scripts, the Latin quandō, meaning “when” was abbreviated q, which later came to be spelled cue.

    R – ar
    The name of the letter R sounds like something a pirate might say: ar. The letter R was called by the Roman poet Persius littera canina or “the canine letter.” It was so named because pronouncing ar sounds like a dog’s growl.

    S – ess
    The snake-like S is spelled ess, with two terminal -s‘s. Along with cee and jay, ess can also be used to describe “something shaped like an S,” as in The roads were laid out nested double esses along the riverbank.

    T – tee
    A letter whose spelling you are more likely to be familiar with is T or tee, because it often appears in spellings of T-shirt (e.g., tee-shirt). The tee shirt is so named because it is a shirt in the shape of a T.

    V – vee
    Another letter that pops up in fashion is V or vee. You see this most often when describing certain clothing elements, such as a vee neckline or a vee-shaped dart.

    W – double-u
    The letter W is one of the stranger letters in the alphabet, and so is its spelling. As we noted already, we don’t usually spell vowels out, so we end up with the awkward double-u. The plural spelling is double-ues. Before it was merged into one letter (W), the sound was represented with the the digraph -uu- or double-u.

    X – ex
    The spelling of the letter X, ex, might seem foreboding. That’s because we often equate it with the prefix ex-, meaning “out of” or “without.” We also use ex as a verb to mean putting an X over something, literally or metaphorically, as in I exed out the name on the list. The letter X has found use as we explore new ways of describing gender identity and expression, which you can read about here.

    Y – wye
    The letter Y is spelled wye, like the river in Great Britain. Wye has been adopted into electrical and railroad terminology to describe circuits and track arrangements, respectively, that are in the shape of a Y. Interestingly, the letter Y replaced an Old English letter called thorn.

    Z – zee
    In American English, the letter Z is spelled and pronounced zee, patterned off of other consonants like dee and gee. However, in British English, the letter Z is named zed. Zed comes from the Middle French zede, itself from the ancient Greek zêta.

    Copyright 2025, AAKKHRA, All Rights Reserved.
    How To Spell W And Other Letters Of The Alphabet No doubt you know your ABCs, but do you know how to spell the names of the letters themselves? For example, how would you spell the name of the letter W? In this article, we are going to take a look at how to spell out the different consonants of the alphabet. Why just the consonants? Well, spelling the names of the vowels is unusual, and the spellings vary widely. We don’t often have a reason to spell out the names of letters. They show up in some words or phrases, like tee-shirt or em-dash. Knowing how to spell out the letters is a good trick to have in your back pocket when playing word games like Scrabble and Words With Friends. Mostly though, the spelled-out names of the consonants are fun trivia any word lover will enjoy. B – bee The letter B is spelled just like the insect: b-e-e. The plural is bees, like something you might find in a hive. Before it was bee, the letter B was part of the Phoenician alphabet and was known as beth. C – cee The spelling of the letter C might surprise you. It isn’t spelled with an S but a C: c-e-e. The spelling cee might come in handy especially when writing about something “shaped or formed like the letter C,” as in she was curled in a cee, holding her pillow. D – dee You might be picking up on a pattern here. Like B and C, the letter D is spelled out with -ee: d-e-e. Like the letter B, dee originally had another name in the Phoenician alphabet: daleth. F – ef The letter F is spelled e-f. The spelled out name ef is occasionally used as an abbreviation for much saltier language. G – gee With the exception of ef, the letter G is spelled like the other letters we have seen so far: gee. Particularly in American slang, the spelled out name gee is used as an abbreviation for grand, in the sense of “thousand dollars.” H – aitch The letter H has a tricky spelling and pronunciation. It is spelled aitch, but the pronunciation of its name is [ eych ]. The letter comes from Northern Semitic languages and its modern corollary is the Hebrew letter heth. J – jay The letter J has a long and complicated history—it began as a swash, a typographical embellishment for the already existing I—but its spelling is relatively straightforward: jay. Like C, the spelling jay can be useful when describing something in the shape of the letter. K – kay You may already be familiar with the spelling of the letter K from the expression okay, or OK. Just like in okay, K is typically spelled k-a-y. Okay is a unique Americanism that you can read more about here. L – el El is most easily recognizable as the common abbreviation for elevated railroad. However, it is also the spelling for the letter L. M – em The spelling of the letter M, em, can be found in the name of the punctuation mark em dash (—). The name of the punctuation mark comes from the fact that it is the width of the letter M when printed. N – en Much like the letters em and en themselves, the em-dash and en-dash are often mixed up. The en dash is, you guessed it, the width of the letter N when printed. The en dash (–) is shorter than an em dash (—). P – pee The most scatological letter name is pee (P). The use of pee as a verb and noun to refer to urination actually comes from a euphemism for the vulgar piss, using the spelling of the initial letter in piss: P. Q – cue The letter Q has the honor of being one of two letters that is not included in the spelling of its own name: cue. The use of cue as a verb or noun to refer to “anything that excites to action” comes from another abbreviation related to the letter itself. In acting scripts, the Latin quandō, meaning “when” was abbreviated q, which later came to be spelled cue. R – ar The name of the letter R sounds like something a pirate might say: ar. The letter R was called by the Roman poet Persius littera canina or “the canine letter.” It was so named because pronouncing ar sounds like a dog’s growl. S – ess The snake-like S is spelled ess, with two terminal -s‘s. Along with cee and jay, ess can also be used to describe “something shaped like an S,” as in The roads were laid out nested double esses along the riverbank. T – tee A letter whose spelling you are more likely to be familiar with is T or tee, because it often appears in spellings of T-shirt (e.g., tee-shirt). The tee shirt is so named because it is a shirt in the shape of a T. V – vee Another letter that pops up in fashion is V or vee. You see this most often when describing certain clothing elements, such as a vee neckline or a vee-shaped dart. W – double-u The letter W is one of the stranger letters in the alphabet, and so is its spelling. As we noted already, we don’t usually spell vowels out, so we end up with the awkward double-u. The plural spelling is double-ues. Before it was merged into one letter (W), the sound was represented with the the digraph -uu- or double-u. X – ex The spelling of the letter X, ex, might seem foreboding. That’s because we often equate it with the prefix ex-, meaning “out of” or “without.” We also use ex as a verb to mean putting an X over something, literally or metaphorically, as in I exed out the name on the list. The letter X has found use as we explore new ways of describing gender identity and expression, which you can read about here. Y – wye The letter Y is spelled wye, like the river in Great Britain. Wye has been adopted into electrical and railroad terminology to describe circuits and track arrangements, respectively, that are in the shape of a Y. Interestingly, the letter Y replaced an Old English letter called thorn. Z – zee In American English, the letter Z is spelled and pronounced zee, patterned off of other consonants like dee and gee. However, in British English, the letter Z is named zed. Zed comes from the Middle French zede, itself from the ancient Greek zêta. Copyright 2025, AAKKHRA, All Rights Reserved.
    Wow
    1
    0 ความคิดเห็น 0 การแบ่งปัน 1404 มุมมอง 0 รีวิว
  • อเมริกาจำเป็นต้องมีกฎหมายความมั่นคงแห่งชาติฉบับใหม่ ที่จะเปลี่ยนท่าทีของกองกำลังสหรัฐฯออกจากการแทรกแซงทางทหารที่เน้นไปที่การสร้างชาติ, ประชาธิปไตย, หรือภัยคุกคามที่ถูกกล่าวหา

    แทนที่จะเป็นเช่นนั้น, ท่าทีด้านการป้องกันประเทศควรเน้นที่ซีกโลกตะวันตก, เรียนรู้ที่จะหลีกเลี่ยงรูปแบบพฤติกรรมที่ขัดต่อผลประโยชน์ของสหรัฐฯ

    Douglas Macgregor
    .
    America needs new national security legislation that moves the posture of U.S. forces away from military interventions focused on nation-building, democratization, or alleged threats.

    Instead, the defense posture should focus on the Western Hemisphere, learning to avoid patterns of behavior antithetical to U.S. interests.
    .
    7:28 AM · Nov 21, 2024 · 8,456 Views
    https://x.com/DougAMacgregor/status/1859393503136186542
    อเมริกาจำเป็นต้องมีกฎหมายความมั่นคงแห่งชาติฉบับใหม่ 🤣ที่จะเปลี่ยนท่าทีของกองกำลังสหรัฐฯออกจากการแทรกแซงทางทหารที่เน้นไปที่การสร้างชาติ, ประชาธิปไตย, หรือภัยคุกคามที่ถูกกล่าวหา🤣 แทนที่จะเป็นเช่นนั้น, ท่าทีด้านการป้องกันประเทศควรเน้นที่ซีกโลกตะวันตก, เรียนรู้ที่จะหลีกเลี่ยงรูปแบบพฤติกรรมที่ขัดต่อผลประโยชน์ของสหรัฐฯ Douglas Macgregor . America needs new national security legislation that moves the posture of U.S. forces away from military interventions focused on nation-building, democratization, or alleged threats. Instead, the defense posture should focus on the Western Hemisphere, learning to avoid patterns of behavior antithetical to U.S. interests. . 7:28 AM · Nov 21, 2024 · 8,456 Views https://x.com/DougAMacgregor/status/1859393503136186542
    Haha
    1
    0 ความคิดเห็น 0 การแบ่งปัน 654 มุมมอง 0 รีวิว
  • Should You Say “Octopuses” Or “Octopi”?

    It’s the internet’s favorite eight-armed plural debate: octopuses vs. octopi. (And that relative newcomer, octopodes.)

    Is there a “correct” plural for octopus? And what’s with the -i in octopi?

    In this article, we’ll wrap our tentacles around these questions, break down the differences between each term, and tell you which terms are acceptable and most commonly used.

    Quick summary
    Both octopuses and octopi are acceptable plurals for octopus. Of the two, octopuses is the simpler and more commonly used. The proposed plural octopodes is based on the plural of the Ancient Greek word from which octopus ultimately derives. But it’s rarely used outside of the octopuses vs. octopi debate.
    Is it octopuses or octopi?
    Like the octopus itself, the English language is, in many cases, very flexible: both octopuses and octopi are acceptable and commonly used plural forms of octopus (despite what anyone on the internet may say).

    But why octopi? Well, in Latin, there’s a class of words that end in -us. These words get pluralized by replacing -us with -i. Many English words with strong roots in Latin have retained this pluralization pattern—think alumnus/alumni and stimulus/stimuli.

    Along with octopus, there are a few cases in which both endings are used, including: platypuses/platypi; cactuses/cacti; syllabuses/syllabi; and thesauruses/thesauri (though, if you ask us, a plural is unnecessary here since you really only need one thesaurus).

    Still, in all these cases, it’s more common to pluralize with a plain old -es.

    If you’re looking for a tie-breaker, consider this: scientists who study these creatures seem to prefer the plural octopuses (though of course the preference is not universal).

    What about octopodes?
    Some people object to the plural -i ending in octopi because octopus actually derives from the Latinized form of the Greek word oktṓpous (meaning “eight-foot”). The plural of this word would be oktṓpodes.

    Based on this, some have proposed the plural octopodes. Reverse-engineering a word’s plural to match its language of origin is a strange way to go about using language (especially when there are two perfectly good plurals right there), so octopodes is not commonly used. Still, some people like to use it (especially to spice up the octopuses vs. octopi debate).

    P.S. Don’t confuse octopodes with the word octopods, which refers to the eight-armed cephalopod mollusks of the order or suborder Octopoda, including octopuses and paper nautiluses.

    P.P.S. (Platypus Postscript) Platypus has an origin similar to octopus (from the Greek platýpous, meaning “flat-footed”), so the equivalent hypothetical plural would be platypodes. But we don’t see platypodes happening anytime soon.

    Do you know the difference between an alligator and a crocodile?

    Examples of octopuses and octopi used in a sentence
    You have encountered more than one octopus and you want to know how to describe your situation. Check out these example sentences, in which we show how octopuses and octopi are always interchangeable.

    - Octopuses/octopi are often solitary.
    - We saw not one but two octopuses/octopi during our dive today!
    - Different types of octopuses/octopi can vary greatly in size.

    Copyright 2024, XAKKHRA, All Rights Reserved.
    Should You Say “Octopuses” Or “Octopi”? It’s the internet’s favorite eight-armed plural debate: octopuses vs. octopi. (And that relative newcomer, octopodes.) Is there a “correct” plural for octopus? And what’s with the -i in octopi? In this article, we’ll wrap our tentacles around these questions, break down the differences between each term, and tell you which terms are acceptable and most commonly used. Quick summary Both octopuses and octopi are acceptable plurals for octopus. Of the two, octopuses is the simpler and more commonly used. The proposed plural octopodes is based on the plural of the Ancient Greek word from which octopus ultimately derives. But it’s rarely used outside of the octopuses vs. octopi debate. Is it octopuses or octopi? Like the octopus itself, the English language is, in many cases, very flexible: both octopuses and octopi are acceptable and commonly used plural forms of octopus (despite what anyone on the internet may say). But why octopi? Well, in Latin, there’s a class of words that end in -us. These words get pluralized by replacing -us with -i. Many English words with strong roots in Latin have retained this pluralization pattern—think alumnus/alumni and stimulus/stimuli. Along with octopus, there are a few cases in which both endings are used, including: platypuses/platypi; cactuses/cacti; syllabuses/syllabi; and thesauruses/thesauri (though, if you ask us, a plural is unnecessary here since you really only need one thesaurus). Still, in all these cases, it’s more common to pluralize with a plain old -es. If you’re looking for a tie-breaker, consider this: scientists who study these creatures seem to prefer the plural octopuses (though of course the preference is not universal). What about octopodes? Some people object to the plural -i ending in octopi because octopus actually derives from the Latinized form of the Greek word oktṓpous (meaning “eight-foot”). The plural of this word would be oktṓpodes. Based on this, some have proposed the plural octopodes. Reverse-engineering a word’s plural to match its language of origin is a strange way to go about using language (especially when there are two perfectly good plurals right there), so octopodes is not commonly used. Still, some people like to use it (especially to spice up the octopuses vs. octopi debate). P.S. Don’t confuse octopodes with the word octopods, which refers to the eight-armed cephalopod mollusks of the order or suborder Octopoda, including octopuses and paper nautiluses. P.P.S. (Platypus Postscript) Platypus has an origin similar to octopus (from the Greek platýpous, meaning “flat-footed”), so the equivalent hypothetical plural would be platypodes. But we don’t see platypodes happening anytime soon. Do you know the difference between an alligator and a crocodile? Examples of octopuses and octopi used in a sentence You have encountered more than one octopus and you want to know how to describe your situation. Check out these example sentences, in which we show how octopuses and octopi are always interchangeable. - Octopuses/octopi are often solitary. - We saw not one but two octopuses/octopi during our dive today! - Different types of octopuses/octopi can vary greatly in size. Copyright 2024, XAKKHRA, All Rights Reserved.
    0 ความคิดเห็น 0 การแบ่งปัน 935 มุมมอง 0 รีวิว
  • https://www.youtube.com/watch?v=sMn8PkzKKaA
    บทสนทนาซื้อเสื้อที่ร้านเสื้อผ้า
    (คลิกอ่านเพิ่มเติม เพื่ออ่านบทสนทนาภาษาอังกฤษและไทย และคำศัพท์น่ารู้)
    แบบทดสอบการฟังภาษาอังกฤษ จากบทสนทนาซื้อเสื้อที่ร้านเสื้อผ้า
    มีคำถาม 5 ข้อหลังฟังเสร็จ เพื่อทดสอบการฟังภาษาอังกฤษของคุณ

    #conversations #listeningtest #shopping

    The conversations from the clip :

    Customer: Hi! I’m looking for a cute top to wear to an event.

    Salesperson: Hello! You’ve come to the right place. We have some adorable tops over here. Any particular style in mind?
    Customer: Yes, I’d like something bright and trendy, maybe with floral or polka dots.
    Salesperson: I think this top would be perfect! It has a nice floral pattern and is very popular.
    Customer: Oh, I like it! How much is it?
    Salesperson: It’s 950 baht.
    Customer: Hmm, that’s a little more than I was hoping to pay. Could you possibly offer a discount?
    Salesperson: I can understand! It’s a high-quality item, but I could give you a 10% discount, making it 855 baht.
    Customer: That’s a bit better, but would you consider 800 baht flat?
    Salesperson: Let me see what I can do... (pauses) Alright, I can agree to 800 baht for you.
    Customer: Perfect! Thank you so much. Can I try it on first to make sure it fits?
    Salesperson: Of course! The fitting room is just over there.
    Customer: (tries on the top) It fits great! I’ll take it.
    Salesperson: I’m so glad to hear that! Would you like to pay now?
    Customer: Yes, please. I’ll pay with cash. Thank you for the great deal!
    Salesperson: You’re very welcome! Enjoy your new top!

    ลูกค้า: สวัสดีค่ะ! กำลังมองหาเสื้อน่ารัก ๆ ใส่ไปงานค่ะ
    พนักงานขาย: สวัสดีค่ะ! มาถูกที่แล้วค่ะ เรามีเสื้อน่ารัก ๆ หลายแบบเลยค่ะ มีสไตล์ไหนในใจบ้างไหมคะ?
    ลูกค้า: ค่ะ อยากได้แบบที่มีสีสดใส ทันสมัยหน่อย อาจจะเป็นลายดอกไม้หรือลายจุดก็ได้ค่ะ
    พนักงานขาย: คิดว่าเสื้อตัวนี้น่าจะเหมาะนะคะ มีลายดอกไม้สวย ๆ และกำลังเป็นที่นิยมเลยค่ะ
    ลูกค้า: โอ้ ชอบเลยค่ะ! ราคาเท่าไหร่คะ?
    พนักงานขาย: ตัวนี้ราคา 950 บาทค่ะ
    ลูกค้า: อืม แพงกว่าที่ตั้งใจไว้นิดหน่อย ลดราคาได้ไหมคะ?
    พนักงานขาย: เข้าใจเลยค่ะ! เสื้อคุณภาพดีมากนะคะ แต่ให้ส่วนลดได้ 10% จะเหลือ 855 บาทค่ะ
    ลูกค้า: ดีขึ้นแล้วค่ะ แต่ลดให้เป็น 800 บาทถ้วนได้ไหมคะ?
    พนักงานขาย: ขอเช็คดูก่อนนะคะ... (หยุดสักครู่) โอเคค่ะ ลดให้เหลือ 800 บาทได้ค่ะ
    ลูกค้า: ดีเลยค่ะ ขอบคุณมาก ขอไปลองก่อนนะคะว่าจะใส่พอดีไหม
    พนักงานขาย: ได้เลยค่ะ ห้องลองอยู่ตรงนั้นค่ะ
    ลูกค้า: (ลองเสื้อ) ใส่พอดีมากค่ะ เอาตัวนี้ค่ะ
    พนักงานขาย: ยินดีมากค่ะ! จะชำระเงินตอนนี้เลยไหมคะ?
    ลูกค้า: ใช่ค่ะ จ่ายเป็นเงินสดนะคะ ขอบคุณมากสำหรับส่วนลดค่ะ!
    พนักงานขาย: ยินดีมากค่ะ ขอให้สนุกกับเสื้อใหม่ของคุณนะคะ!

    Vocabulary (คำศัพท์น่ารู้)

    Customer (คัส-เทอะ-เมอะ) n. แปลว่า ลูกค้า
    Salesperson (เซล-เพอ-เซิน) n. แปลว่า พนักงานขาย
    Top (ท็อป) n. แปลว่า เสื้อท่อนบน
    Pattern (แพท-เทิร์น) n. แปลว่า ลวดลาย
    Floral (ฟลอ-เริล) adj. แปลว่า ลายดอกไม้
    Price (ไพรซ์) n. แปลว่า ราคา
    Discount (ดิส-เคาท์) n. แปลว่า ส่วนลด
    Quality (ควอล-ลิ-ที) n. แปลว่า คุณภาพ
    Manager (แม-เน-เจอะ) n. แปลว่า ผู้จัดการ
    Fitting room (ฟิท-ทิง รูม) n. แปลว่า ห้องลองเสื้อผ้า
    Popular (พอพ-พิว-เลอะ) adj. แปลว่า เป็นที่นิยม
    Event (อิ-เวนท์) n. แปลว่า งานหรือกิจกรรม
    Try on (ทราย ออน) v. แปลว่า ลองสวม
    Cash (แคช) n. แปลว่า เงินสด
    Counter (เคา-เทอะ) n. แปลว่า เคาน์เตอร์
    https://www.youtube.com/watch?v=sMn8PkzKKaA บทสนทนาซื้อเสื้อที่ร้านเสื้อผ้า (คลิกอ่านเพิ่มเติม เพื่ออ่านบทสนทนาภาษาอังกฤษและไทย และคำศัพท์น่ารู้) แบบทดสอบการฟังภาษาอังกฤษ จากบทสนทนาซื้อเสื้อที่ร้านเสื้อผ้า มีคำถาม 5 ข้อหลังฟังเสร็จ เพื่อทดสอบการฟังภาษาอังกฤษของคุณ #conversations #listeningtest #shopping The conversations from the clip : Customer: Hi! I’m looking for a cute top to wear to an event. Salesperson: Hello! You’ve come to the right place. We have some adorable tops over here. Any particular style in mind? Customer: Yes, I’d like something bright and trendy, maybe with floral or polka dots. Salesperson: I think this top would be perfect! It has a nice floral pattern and is very popular. Customer: Oh, I like it! How much is it? Salesperson: It’s 950 baht. Customer: Hmm, that’s a little more than I was hoping to pay. Could you possibly offer a discount? Salesperson: I can understand! It’s a high-quality item, but I could give you a 10% discount, making it 855 baht. Customer: That’s a bit better, but would you consider 800 baht flat? Salesperson: Let me see what I can do... (pauses) Alright, I can agree to 800 baht for you. Customer: Perfect! Thank you so much. Can I try it on first to make sure it fits? Salesperson: Of course! The fitting room is just over there. Customer: (tries on the top) It fits great! I’ll take it. Salesperson: I’m so glad to hear that! Would you like to pay now? Customer: Yes, please. I’ll pay with cash. Thank you for the great deal! Salesperson: You’re very welcome! Enjoy your new top! ลูกค้า: สวัสดีค่ะ! กำลังมองหาเสื้อน่ารัก ๆ ใส่ไปงานค่ะ พนักงานขาย: สวัสดีค่ะ! มาถูกที่แล้วค่ะ เรามีเสื้อน่ารัก ๆ หลายแบบเลยค่ะ มีสไตล์ไหนในใจบ้างไหมคะ? ลูกค้า: ค่ะ อยากได้แบบที่มีสีสดใส ทันสมัยหน่อย อาจจะเป็นลายดอกไม้หรือลายจุดก็ได้ค่ะ พนักงานขาย: คิดว่าเสื้อตัวนี้น่าจะเหมาะนะคะ มีลายดอกไม้สวย ๆ และกำลังเป็นที่นิยมเลยค่ะ ลูกค้า: โอ้ ชอบเลยค่ะ! ราคาเท่าไหร่คะ? พนักงานขาย: ตัวนี้ราคา 950 บาทค่ะ ลูกค้า: อืม แพงกว่าที่ตั้งใจไว้นิดหน่อย ลดราคาได้ไหมคะ? พนักงานขาย: เข้าใจเลยค่ะ! เสื้อคุณภาพดีมากนะคะ แต่ให้ส่วนลดได้ 10% จะเหลือ 855 บาทค่ะ ลูกค้า: ดีขึ้นแล้วค่ะ แต่ลดให้เป็น 800 บาทถ้วนได้ไหมคะ? พนักงานขาย: ขอเช็คดูก่อนนะคะ... (หยุดสักครู่) โอเคค่ะ ลดให้เหลือ 800 บาทได้ค่ะ ลูกค้า: ดีเลยค่ะ ขอบคุณมาก ขอไปลองก่อนนะคะว่าจะใส่พอดีไหม พนักงานขาย: ได้เลยค่ะ ห้องลองอยู่ตรงนั้นค่ะ ลูกค้า: (ลองเสื้อ) ใส่พอดีมากค่ะ เอาตัวนี้ค่ะ พนักงานขาย: ยินดีมากค่ะ! จะชำระเงินตอนนี้เลยไหมคะ? ลูกค้า: ใช่ค่ะ จ่ายเป็นเงินสดนะคะ ขอบคุณมากสำหรับส่วนลดค่ะ! พนักงานขาย: ยินดีมากค่ะ ขอให้สนุกกับเสื้อใหม่ของคุณนะคะ! Vocabulary (คำศัพท์น่ารู้) Customer (คัส-เทอะ-เมอะ) n. แปลว่า ลูกค้า Salesperson (เซล-เพอ-เซิน) n. แปลว่า พนักงานขาย Top (ท็อป) n. แปลว่า เสื้อท่อนบน Pattern (แพท-เทิร์น) n. แปลว่า ลวดลาย Floral (ฟลอ-เริล) adj. แปลว่า ลายดอกไม้ Price (ไพรซ์) n. แปลว่า ราคา Discount (ดิส-เคาท์) n. แปลว่า ส่วนลด Quality (ควอล-ลิ-ที) n. แปลว่า คุณภาพ Manager (แม-เน-เจอะ) n. แปลว่า ผู้จัดการ Fitting room (ฟิท-ทิง รูม) n. แปลว่า ห้องลองเสื้อผ้า Popular (พอพ-พิว-เลอะ) adj. แปลว่า เป็นที่นิยม Event (อิ-เวนท์) n. แปลว่า งานหรือกิจกรรม Try on (ทราย ออน) v. แปลว่า ลองสวม Cash (แคช) n. แปลว่า เงินสด Counter (เคา-เทอะ) n. แปลว่า เคาน์เตอร์
    Love
    1
    0 ความคิดเห็น 0 การแบ่งปัน 1048 มุมมอง 0 รีวิว
  • สมเด็จพระนางเจ้าฯ พระบรมราชินี ทรงฉลองพระองค์ไทยอมรินทร์ ผ้าไหมพื้นเรียบ
    พระภูษาผ้าไหมยกดอก ลายเครือเถาราชพฤกษ์พิกุลใหญ่ ถมเกสรทองเชิงกนก
    ลายเครือเถา เป็นลายพื้นฐานอีกแบบหนึ่งที่สำคัญของลายไทย นอกเหนือจากลายกระจัง ลายกระหนก ลายประจำยาม ลายประเภทนี้จะเขียนในลักษณะคดโค้งหลายแนว แตะหรือสอดสลับกัน คล้ายการเกี่ยวพันของเถาวัลย์ โดยมีกระหนกออกจากกาบหุ้มเถาไว้ลายเครือเถาแบ่งเป็นประเภทใหญ่ ๆ ได้ ๓ ประเภทคือ ลายเครือเถาหางโต ลายเครือเถาใบเทศ
    ลายเครือเถาเปลว สามารถพบเห็นลายเครือเถา บริเวณหน้าบัน บานประตู หน้าต่าง หรือตู้ลายรดน้ำ หรือประดับมุก รวมถึง ลายในผ้าทอ และลายปักไหม
    วัดราชบพิธฯ พบงานวิจิตรศิลปกรรมกระเบื้องเคลือบเบญจรงค์ ประดับตกแต่งในสถาปัตยกรรม อาทิ พระมหาเจดีย์ เจดีย์ทรงระฆัง ถ่ายแบบมาจากเจดีย์ทรงระฆังอยุธยาตอนกลาง จัดเป็นทรงระฆังแบบอยุธยาแท้ที่มีลักษณะเฉพาะ คือการใช้ “มาลัยเครือเถา” กระเบื้องเบญจรงค์ลายดอกไม้ในกรอบสี่เหลี่ยมจัตุรัส ประดับส่วนฐานพระเจดีย์เต็มพื้นที่โดยรอบ องค์พระมหาเจดีย์ทั้งหมดตั้งแต่ฐานไพทีไปจนกระทั่งถึงยอด ประดับด้วย กระเบื้องเคลือบ ทั้งองค์ เป็นกระเบื้องแบบเบญจรงค์ แต่ละส่วนตกแต่งด้วยลวดลายหลายประเภท โดยรวมเรียก ลายแผลง หรือ ‘ลายแผง’ เป็นลวดลายในกรอบสี่เหลี่ยมขนมเปียกปูน สี่เหลี่ยมจัตุรัส เช่น ลายกลีบบัว ลายเทพพนม ลายดอกไม้-ใบไม้ทั้งแบบไทยประเพณี แบบตะวันตก และแบบผสมผสานกัน
    กล่าวคือ โดยรอบตั้งแต่ฐานถึงชั้นประทักษิณ เป็นลายดอกไม้ประเภท ลายก้านแย่ง (ลายดอกไม้-ใบไม้) พื้นสีเหลืองทอง ลวดลายในชุดแบบเบญจรงค์ ส่วนองค์ระฆังและส่วนยอดประดับ กระเบื้องเคลือบสีเหลือง ไม่ประดับลวดลาย ถือเป็นพัฒนาการอย่างใหม่ของงานช่างในการสร้างเจดีย์ เพราะสมัยก่อนใช้การ ‘ลงรักปิดทอง’ หรือทาสี ‘น้ำปูน’ ที่เป็นสีขาวเท่านั้น จนมาถึงรัชกาลที่ ๕ จึงเปลี่ยนมาเป็นกระเบื้องเคลือบ ซึ่งมั่นคงแข็งแรงและงดงามยิ่ง
    -----
    HER ROYAL ATTIRE IN THAI AMARIN
    WITH LAMPHUN BROCADE SILK RATCHAPHRUEK PIKUN WITH GOLD-THREAD
    .
    The vine pattern is another important basic type of Thai pattern. In addition to the Krajang pattern, Kranok pattern, Prachayam pattern, this type of pattern is written in many curved lines. Tapping or inserting alternately similar to the intertwining of vines The vine pattern is divided into 3 main types: the large-tailed vine pattern, the Indian leaf vine pattern, and the flame vine pattern. The vine pattern can be found on the pediment, door panels, windows, or cabinets in gold leaf or decorated with pearls, as well as patterns in woven fabrics and silk embroidery.
    .
    Wat Ratchabophit found exquisite works of art of Benjarong glazed tiles as architectural decorations, such as the Great Stupa, a bell-shaped stupa copied from the bell-shaped stupa of the central Ayutthaya period. It is considered a bell-shaped Ayutthaya style with a unique characteristic, which is the use of “Malai Kreua Thao”, Benjarong tiles with floral patterns in a square frame, decorating the base of the stupa covering the entire area around it. The entire Great Stupa, from the base to the top, is decorated with glazed tiles throughout the entire body, which are Benjarong tiles. Each part is decorated with various types of patterns, collectively called “Lai Plaeng” or “Lai Phaeng”, which are patterns in a diamond-shaped, square frame, such as lotus petal patterns, thep Phanom pattern, and flower-leaf patterns in both traditional Thai, Western, and mixed styles.
    .
    All around from the base to the circumambulation tier is a floral pattern of the Kan Yaeng pattern (flower and leaf pattern) on a golden yellow background, in the Benjarong style. The bell-shaped body and the top are decorated with yellow glazed tiles, not decorated with patterns. This is considered a new development in the craftsmanship in building a pagoda, because in the past they used only 'lacquer and gold leaf' or white 'lime water' paint. Until the reign of King Rama V, it was changed to glazed tiles. which is stable, strong and extremely beautiful.
    _________________________________
    #พระราชินีสุทิดา #苏提达王后 #QueenSuthida
    Cr. FB : สมเด็จพระนางเจ้าฯ พระบรมราชินี : We love Her Majesty Queen Suthida Fanpage
    สมเด็จพระนางเจ้าฯ พระบรมราชินี ทรงฉลองพระองค์ไทยอมรินทร์ ผ้าไหมพื้นเรียบ พระภูษาผ้าไหมยกดอก ลายเครือเถาราชพฤกษ์พิกุลใหญ่ ถมเกสรทองเชิงกนก ลายเครือเถา เป็นลายพื้นฐานอีกแบบหนึ่งที่สำคัญของลายไทย นอกเหนือจากลายกระจัง ลายกระหนก ลายประจำยาม ลายประเภทนี้จะเขียนในลักษณะคดโค้งหลายแนว แตะหรือสอดสลับกัน คล้ายการเกี่ยวพันของเถาวัลย์ โดยมีกระหนกออกจากกาบหุ้มเถาไว้ลายเครือเถาแบ่งเป็นประเภทใหญ่ ๆ ได้ ๓ ประเภทคือ ลายเครือเถาหางโต ลายเครือเถาใบเทศ ลายเครือเถาเปลว สามารถพบเห็นลายเครือเถา บริเวณหน้าบัน บานประตู หน้าต่าง หรือตู้ลายรดน้ำ หรือประดับมุก รวมถึง ลายในผ้าทอ และลายปักไหม วัดราชบพิธฯ พบงานวิจิตรศิลปกรรมกระเบื้องเคลือบเบญจรงค์ ประดับตกแต่งในสถาปัตยกรรม อาทิ พระมหาเจดีย์ เจดีย์ทรงระฆัง ถ่ายแบบมาจากเจดีย์ทรงระฆังอยุธยาตอนกลาง จัดเป็นทรงระฆังแบบอยุธยาแท้ที่มีลักษณะเฉพาะ คือการใช้ “มาลัยเครือเถา” กระเบื้องเบญจรงค์ลายดอกไม้ในกรอบสี่เหลี่ยมจัตุรัส ประดับส่วนฐานพระเจดีย์เต็มพื้นที่โดยรอบ องค์พระมหาเจดีย์ทั้งหมดตั้งแต่ฐานไพทีไปจนกระทั่งถึงยอด ประดับด้วย กระเบื้องเคลือบ ทั้งองค์ เป็นกระเบื้องแบบเบญจรงค์ แต่ละส่วนตกแต่งด้วยลวดลายหลายประเภท โดยรวมเรียก ลายแผลง หรือ ‘ลายแผง’ เป็นลวดลายในกรอบสี่เหลี่ยมขนมเปียกปูน สี่เหลี่ยมจัตุรัส เช่น ลายกลีบบัว ลายเทพพนม ลายดอกไม้-ใบไม้ทั้งแบบไทยประเพณี แบบตะวันตก และแบบผสมผสานกัน กล่าวคือ โดยรอบตั้งแต่ฐานถึงชั้นประทักษิณ เป็นลายดอกไม้ประเภท ลายก้านแย่ง (ลายดอกไม้-ใบไม้) พื้นสีเหลืองทอง ลวดลายในชุดแบบเบญจรงค์ ส่วนองค์ระฆังและส่วนยอดประดับ กระเบื้องเคลือบสีเหลือง ไม่ประดับลวดลาย ถือเป็นพัฒนาการอย่างใหม่ของงานช่างในการสร้างเจดีย์ เพราะสมัยก่อนใช้การ ‘ลงรักปิดทอง’ หรือทาสี ‘น้ำปูน’ ที่เป็นสีขาวเท่านั้น จนมาถึงรัชกาลที่ ๕ จึงเปลี่ยนมาเป็นกระเบื้องเคลือบ ซึ่งมั่นคงแข็งแรงและงดงามยิ่ง ----- HER ROYAL ATTIRE IN THAI AMARIN WITH LAMPHUN BROCADE SILK RATCHAPHRUEK PIKUN WITH GOLD-THREAD . The vine pattern is another important basic type of Thai pattern. In addition to the Krajang pattern, Kranok pattern, Prachayam pattern, this type of pattern is written in many curved lines. Tapping or inserting alternately similar to the intertwining of vines The vine pattern is divided into 3 main types: the large-tailed vine pattern, the Indian leaf vine pattern, and the flame vine pattern. The vine pattern can be found on the pediment, door panels, windows, or cabinets in gold leaf or decorated with pearls, as well as patterns in woven fabrics and silk embroidery. . Wat Ratchabophit found exquisite works of art of Benjarong glazed tiles as architectural decorations, such as the Great Stupa, a bell-shaped stupa copied from the bell-shaped stupa of the central Ayutthaya period. It is considered a bell-shaped Ayutthaya style with a unique characteristic, which is the use of “Malai Kreua Thao”, Benjarong tiles with floral patterns in a square frame, decorating the base of the stupa covering the entire area around it. The entire Great Stupa, from the base to the top, is decorated with glazed tiles throughout the entire body, which are Benjarong tiles. Each part is decorated with various types of patterns, collectively called “Lai Plaeng” or “Lai Phaeng”, which are patterns in a diamond-shaped, square frame, such as lotus petal patterns, thep Phanom pattern, and flower-leaf patterns in both traditional Thai, Western, and mixed styles. . All around from the base to the circumambulation tier is a floral pattern of the Kan Yaeng pattern (flower and leaf pattern) on a golden yellow background, in the Benjarong style. The bell-shaped body and the top are decorated with yellow glazed tiles, not decorated with patterns. This is considered a new development in the craftsmanship in building a pagoda, because in the past they used only 'lacquer and gold leaf' or white 'lime water' paint. Until the reign of King Rama V, it was changed to glazed tiles. which is stable, strong and extremely beautiful. _________________________________ #พระราชินีสุทิดา #苏提达王后 #QueenSuthida Cr. FB : สมเด็จพระนางเจ้าฯ พระบรมราชินี : We love Her Majesty Queen Suthida Fanpage
    Love
    Like
    4
    0 ความคิดเห็น 0 การแบ่งปัน 1663 มุมมอง 0 รีวิว
  • ขนมไหว้พระจันทร์นี้มีชื่อทางวิทยาศาสตร์ว่า Baoxiang Pattern Mooncake ซึ่งมีลักษณะสวยงามมาก มีเส้นผ่านศูนย์กลาง 6.5 เซนติเมตร และทำจากแป้งสาลี มันถูกขุดพบในสุสานหมายเลข 230 ของอัสตานาในทูร์ปันในปี 1972 พิพิธภัณฑ์ซินเจียง#พิพิธภัณฑ์ #ขนมไหว้พระจันทร์ #ขนมโบราณ #ราชวงศ์ถัง
    ขนมไหว้พระจันทร์นี้มีชื่อทางวิทยาศาสตร์ว่า Baoxiang Pattern Mooncake ซึ่งมีลักษณะสวยงามมาก มีเส้นผ่านศูนย์กลาง 6.5 เซนติเมตร และทำจากแป้งสาลี มันถูกขุดพบในสุสานหมายเลข 230 ของอัสตานาในทูร์ปันในปี 1972 พิพิธภัณฑ์ซินเจียง#พิพิธภัณฑ์ #ขนมไหว้พระจันทร์ #ขนมโบราณ #ราชวงศ์ถัง
    Like
    1
    0 ความคิดเห็น 0 การแบ่งปัน 767 มุมมอง 32 0 รีวิว
  • จากรายการ​ Sondhitalk​ Ep.​ 258
    มีประเด็นหนึ่งที่น่าสนใจ​เรื่อง​ การทำ​ data​ analytic บนข้อมูลข่าว​สาร​ ซึ่งทาง​ คุณสนธิ claim​ ว่ามีการเก็บรวบรวมข้อมูลข่าวต่างๆไว้​ มากกว่า​ 20​ ปี​ในระบบ​ MIS ซึ่งได้เก็บลง​ database​ เอาไว้แล้ว
    อยากว่าทราบว่า​ทางทีมงาน มีการรับอาสาสมัครผู้ร่วมพัฒนา​ภาคประชาชนจากภายนอกหรือไม่ครับ

    ขอบคุณครับ

    #5V
    #NLP
    #Sentiment​ analysis
    #Pattern​&​Insight
    จากรายการ​ Sondhitalk​ Ep.​ 258 มีประเด็นหนึ่งที่น่าสนใจ​เรื่อง​ การทำ​ data​ analytic บนข้อมูลข่าว​สาร​ ซึ่งทาง​ คุณสนธิ claim​ ว่ามีการเก็บรวบรวมข้อมูลข่าวต่างๆไว้​ มากกว่า​ 20​ ปี​ในระบบ​ MIS ซึ่งได้เก็บลง​ database​ เอาไว้แล้ว อยากว่าทราบว่า​ทางทีมงาน มีการรับอาสาสมัครผู้ร่วมพัฒนา​ภาคประชาชนจากภายนอกหรือไม่ครับ ขอบคุณครับ #5V #NLP #Sentiment​ analysis #Pattern​&​Insight
    0 ความคิดเห็น 0 การแบ่งปัน 2386 มุมมอง 0 รีวิว
Pages Boosts