ข่าวนี้นำเสนอถึงการพัฒนาเครื่องมือการพิมพ์ลายวงจร (Lithography tool) ใหม่ของรัสเซียที่สามารถรองรับเทคโนโลยีการผลิตระดับ 350 นาโนเมตร ซึ่งเป็นความสำเร็จที่มีความสำคัญเชิงสัญลักษณ์ในการลดการพึ่งพาเทคโนโลยีจากต่างประเทศ แม้ว่าเครื่องมือดังกล่าวจะล้าสมัยเมื่อเปรียบเทียบกับมาตรฐานปัจจุบันที่มุ่งสู่ระดับ 5 นาโนเมตรหรือดีกว่า
เทคโนโลยี Solid-State Laser:
- เครื่องมือ Lithography ที่พัฒนาโดย ZNTC และ Planar ใช้แหล่งกำเนิดแสงแบบ Solid-State Laser ซึ่งช่วยเพิ่มความทนทานและการประหยัดพลังงานเมื่อเทียบกับระบบเก่าที่ใช้หลอด Mercury หรือ Laser Excimer.
ความเหมาะสมในตลาด:
- แม้เครื่องมือนี้จะไม่สามารถเทียบได้กับระบบล้ำหน้าของ ASML แต่ยังสามารถใช้ในอุตสาหกรรมที่ไม่ต้องการเทคโนโลยีขั้นสูง เช่นการผลิตชิ้นส่วนในรถยนต์ หรือการจัดการพลังงาน รวมถึงการใช้งานด้านทหารที่ไม่จำเป็นต้องใช้ประสิทธิภาพสูง.
เป้าหมายในอนาคต:
- ZNTC กำลังพัฒนาเครื่องมือ Lithography ใหม่ที่รองรับเทคโนโลยีระดับ 130 นาโนเมตร โดยวางแผนเสร็จสิ้นภายในปี 2026 ซึ่งเป็นส่วนหนึ่งของแผนระยะยาวของรัฐบาลรัสเซียที่จะพัฒนาไปสู่เทคโนโลยี 14 นาโนเมตร ภายในปี 2030
ความท้าทายที่ต้องเผชิญ:
- ปัจจุบันรัสเซียยังคงใช้เครื่องมือจากบริษัท ASML ที่ถูกนำเข้าอย่างไม่เป็นทางการ และการพัฒนาที่ล่าช้าอาจทำให้เป้าหมายในแผนระยะยาวของประเทศไม่สำเร็จตามกำหนด.
https://www.tomshardware.com/tech-industry/russia-completes-development-of-30-year-old-outdated-lithography-tool
เทคโนโลยี Solid-State Laser:
- เครื่องมือ Lithography ที่พัฒนาโดย ZNTC และ Planar ใช้แหล่งกำเนิดแสงแบบ Solid-State Laser ซึ่งช่วยเพิ่มความทนทานและการประหยัดพลังงานเมื่อเทียบกับระบบเก่าที่ใช้หลอด Mercury หรือ Laser Excimer.
ความเหมาะสมในตลาด:
- แม้เครื่องมือนี้จะไม่สามารถเทียบได้กับระบบล้ำหน้าของ ASML แต่ยังสามารถใช้ในอุตสาหกรรมที่ไม่ต้องการเทคโนโลยีขั้นสูง เช่นการผลิตชิ้นส่วนในรถยนต์ หรือการจัดการพลังงาน รวมถึงการใช้งานด้านทหารที่ไม่จำเป็นต้องใช้ประสิทธิภาพสูง.
เป้าหมายในอนาคต:
- ZNTC กำลังพัฒนาเครื่องมือ Lithography ใหม่ที่รองรับเทคโนโลยีระดับ 130 นาโนเมตร โดยวางแผนเสร็จสิ้นภายในปี 2026 ซึ่งเป็นส่วนหนึ่งของแผนระยะยาวของรัฐบาลรัสเซียที่จะพัฒนาไปสู่เทคโนโลยี 14 นาโนเมตร ภายในปี 2030
ความท้าทายที่ต้องเผชิญ:
- ปัจจุบันรัสเซียยังคงใช้เครื่องมือจากบริษัท ASML ที่ถูกนำเข้าอย่างไม่เป็นทางการ และการพัฒนาที่ล่าช้าอาจทำให้เป้าหมายในแผนระยะยาวของประเทศไม่สำเร็จตามกำหนด.
https://www.tomshardware.com/tech-industry/russia-completes-development-of-30-year-old-outdated-lithography-tool
ข่าวนี้นำเสนอถึงการพัฒนาเครื่องมือการพิมพ์ลายวงจร (Lithography tool) ใหม่ของรัสเซียที่สามารถรองรับเทคโนโลยีการผลิตระดับ 350 นาโนเมตร ซึ่งเป็นความสำเร็จที่มีความสำคัญเชิงสัญลักษณ์ในการลดการพึ่งพาเทคโนโลยีจากต่างประเทศ แม้ว่าเครื่องมือดังกล่าวจะล้าสมัยเมื่อเปรียบเทียบกับมาตรฐานปัจจุบันที่มุ่งสู่ระดับ 5 นาโนเมตรหรือดีกว่า
เทคโนโลยี Solid-State Laser:
- เครื่องมือ Lithography ที่พัฒนาโดย ZNTC และ Planar ใช้แหล่งกำเนิดแสงแบบ Solid-State Laser ซึ่งช่วยเพิ่มความทนทานและการประหยัดพลังงานเมื่อเทียบกับระบบเก่าที่ใช้หลอด Mercury หรือ Laser Excimer.
ความเหมาะสมในตลาด:
- แม้เครื่องมือนี้จะไม่สามารถเทียบได้กับระบบล้ำหน้าของ ASML แต่ยังสามารถใช้ในอุตสาหกรรมที่ไม่ต้องการเทคโนโลยีขั้นสูง เช่นการผลิตชิ้นส่วนในรถยนต์ หรือการจัดการพลังงาน รวมถึงการใช้งานด้านทหารที่ไม่จำเป็นต้องใช้ประสิทธิภาพสูง.
เป้าหมายในอนาคต:
- ZNTC กำลังพัฒนาเครื่องมือ Lithography ใหม่ที่รองรับเทคโนโลยีระดับ 130 นาโนเมตร โดยวางแผนเสร็จสิ้นภายในปี 2026 ซึ่งเป็นส่วนหนึ่งของแผนระยะยาวของรัฐบาลรัสเซียที่จะพัฒนาไปสู่เทคโนโลยี 14 นาโนเมตร ภายในปี 2030
ความท้าทายที่ต้องเผชิญ:
- ปัจจุบันรัสเซียยังคงใช้เครื่องมือจากบริษัท ASML ที่ถูกนำเข้าอย่างไม่เป็นทางการ และการพัฒนาที่ล่าช้าอาจทำให้เป้าหมายในแผนระยะยาวของประเทศไม่สำเร็จตามกำหนด.
https://www.tomshardware.com/tech-industry/russia-completes-development-of-30-year-old-outdated-lithography-tool
0 ความคิดเห็น
0 การแบ่งปัน
121 มุมมอง
0 รีวิว
English