Huawei Kirin 9030: ก้าวใหม่ของจีน
Huawei เปิดตัวชิป Kirin 9030 และ Kirin 9030 Pro สำหรับสมาร์ทโฟน Mate 80 โดยใช้กระบวนการผลิต SMIC N+3 ซึ่งเป็นการพัฒนาต่อจาก N+1 และ N+2 (7nm-class) จุดเด่นคือสามารถเพิ่มจำนวนคอร์ได้มากขึ้น (12–14 คอร์) โดยไม่เพิ่มการใช้พลังงานมากนัก ถือเป็นการยืนยันว่าจีนยังสามารถพัฒนากระบวนการผลิตชิปได้แม้ถูกคว่ำบาตร
เทคโนโลยี N+3: ระหว่าง 7nm และ 5nm
แม้ SMIC ระบุว่า N+3 เป็นก้าวสู่ 5nm แต่การวิเคราะห์จาก TechInsights และ SemiAnalysis ชี้ว่า N+3 เป็นเพียงการขยายจาก 7nm-class โดยใช้เทคนิค DUV multi-patterning และ Design Technology Co-Optimization (DTCO) ไม่ใช่การกระโดดไปสู่ 5nm จริง ๆ ทำให้ประสิทธิภาพและ yield ยังตามหลังคู่แข่งระดับโลก
ความท้าทายด้าน yield และการผลิต
การใช้ DUV multi-patterning หลายชั้นทำให้เกิดความเสี่ยงสูงต่อ line roughness และ defect ซึ่งอาจทำให้ yield ลดลงอย่างมากเมื่อผลิตในปริมาณมาก นี่คือข้อจำกัดสำคัญที่ทำให้ SMIC ยังไม่สามารถแข่งขันกับกระบวนการ EUV ของ TSMC และ Samsung ได้
ผลกระทบต่ออุตสาหกรรมจีน
แม้ N+3 ยังไม่ใช่ 5nm-class ที่แท้จริง แต่การพัฒนาแสดงให้เห็นว่า จีนยังคงสามารถก้าวหน้าในเทคโนโลยีการผลิตชิปโดยไม่พึ่งพา EUV จากต่างประเทศ ซึ่งเป็นสัญญาณเชิงบวกต่อความพยายามสร้างความเป็นอิสระด้านเซมิคอนดักเตอร์ อย่างไรก็ตาม การแข่งขันกับผู้ผลิตระดับโลกยังคงเป็นความท้าทายใหญ่
สรุปประเด็นสำคัญ
การเปิดตัวชิปใหม่
Kirin 9030/9030 Pro ใช้กระบวนการ SMIC N+3
เพิ่มจำนวนคอร์เป็น 12–14 คอร์
เทคโนโลยี N+3
เป็นการขยายจาก 7nm-class
ใช้ DUV multi-patterning และ DTCO
ความท้าทาย
Yield ต่ำจากความซับซ้อนของ DUV
ยังไม่เทียบเท่า 5nm-class ของ TSMC/Samsung
ผลกระทบเชิงบวก
แสดงให้เห็นความก้าวหน้าของจีนแม้ถูกคว่ำบาตร
ลดการพึ่งพาเทคโนโลยี EUV ต่างประเทศ
คำเตือนและข้อจำกัด
N+3 ยังไม่ใช่ 5nm-class ที่แท้จริง
Yield และประสิทธิภาพยังตามหลังคู่แข่งระดับโลก
https://www.tomshardware.com/tech-industry/semiconductors/huaweis-latest-mobile-is-chinas-most-advanced-process-node-to-date-despite-using-blacklisted-chipmaker-huawei-kirin-9030-mobile-soc-made-on-smic-n-3-process-but-cant-compete-with-5nm-nodes
Huawei เปิดตัวชิป Kirin 9030 และ Kirin 9030 Pro สำหรับสมาร์ทโฟน Mate 80 โดยใช้กระบวนการผลิต SMIC N+3 ซึ่งเป็นการพัฒนาต่อจาก N+1 และ N+2 (7nm-class) จุดเด่นคือสามารถเพิ่มจำนวนคอร์ได้มากขึ้น (12–14 คอร์) โดยไม่เพิ่มการใช้พลังงานมากนัก ถือเป็นการยืนยันว่าจีนยังสามารถพัฒนากระบวนการผลิตชิปได้แม้ถูกคว่ำบาตร
เทคโนโลยี N+3: ระหว่าง 7nm และ 5nm
แม้ SMIC ระบุว่า N+3 เป็นก้าวสู่ 5nm แต่การวิเคราะห์จาก TechInsights และ SemiAnalysis ชี้ว่า N+3 เป็นเพียงการขยายจาก 7nm-class โดยใช้เทคนิค DUV multi-patterning และ Design Technology Co-Optimization (DTCO) ไม่ใช่การกระโดดไปสู่ 5nm จริง ๆ ทำให้ประสิทธิภาพและ yield ยังตามหลังคู่แข่งระดับโลก
ความท้าทายด้าน yield และการผลิต
การใช้ DUV multi-patterning หลายชั้นทำให้เกิดความเสี่ยงสูงต่อ line roughness และ defect ซึ่งอาจทำให้ yield ลดลงอย่างมากเมื่อผลิตในปริมาณมาก นี่คือข้อจำกัดสำคัญที่ทำให้ SMIC ยังไม่สามารถแข่งขันกับกระบวนการ EUV ของ TSMC และ Samsung ได้
ผลกระทบต่ออุตสาหกรรมจีน
แม้ N+3 ยังไม่ใช่ 5nm-class ที่แท้จริง แต่การพัฒนาแสดงให้เห็นว่า จีนยังคงสามารถก้าวหน้าในเทคโนโลยีการผลิตชิปโดยไม่พึ่งพา EUV จากต่างประเทศ ซึ่งเป็นสัญญาณเชิงบวกต่อความพยายามสร้างความเป็นอิสระด้านเซมิคอนดักเตอร์ อย่างไรก็ตาม การแข่งขันกับผู้ผลิตระดับโลกยังคงเป็นความท้าทายใหญ่
สรุปประเด็นสำคัญ
การเปิดตัวชิปใหม่
Kirin 9030/9030 Pro ใช้กระบวนการ SMIC N+3
เพิ่มจำนวนคอร์เป็น 12–14 คอร์
เทคโนโลยี N+3
เป็นการขยายจาก 7nm-class
ใช้ DUV multi-patterning และ DTCO
ความท้าทาย
Yield ต่ำจากความซับซ้อนของ DUV
ยังไม่เทียบเท่า 5nm-class ของ TSMC/Samsung
ผลกระทบเชิงบวก
แสดงให้เห็นความก้าวหน้าของจีนแม้ถูกคว่ำบาตร
ลดการพึ่งพาเทคโนโลยี EUV ต่างประเทศ
คำเตือนและข้อจำกัด
N+3 ยังไม่ใช่ 5nm-class ที่แท้จริง
Yield และประสิทธิภาพยังตามหลังคู่แข่งระดับโลก
https://www.tomshardware.com/tech-industry/semiconductors/huaweis-latest-mobile-is-chinas-most-advanced-process-node-to-date-despite-using-blacklisted-chipmaker-huawei-kirin-9030-mobile-soc-made-on-smic-n-3-process-but-cant-compete-with-5nm-nodes
📱 Huawei Kirin 9030: ก้าวใหม่ของจีน
Huawei เปิดตัวชิป Kirin 9030 และ Kirin 9030 Pro สำหรับสมาร์ทโฟน Mate 80 โดยใช้กระบวนการผลิต SMIC N+3 ซึ่งเป็นการพัฒนาต่อจาก N+1 และ N+2 (7nm-class) จุดเด่นคือสามารถเพิ่มจำนวนคอร์ได้มากขึ้น (12–14 คอร์) โดยไม่เพิ่มการใช้พลังงานมากนัก ถือเป็นการยืนยันว่าจีนยังสามารถพัฒนากระบวนการผลิตชิปได้แม้ถูกคว่ำบาตร
⚙️ เทคโนโลยี N+3: ระหว่าง 7nm และ 5nm
แม้ SMIC ระบุว่า N+3 เป็นก้าวสู่ 5nm แต่การวิเคราะห์จาก TechInsights และ SemiAnalysis ชี้ว่า N+3 เป็นเพียงการขยายจาก 7nm-class โดยใช้เทคนิค DUV multi-patterning และ Design Technology Co-Optimization (DTCO) ไม่ใช่การกระโดดไปสู่ 5nm จริง ๆ ทำให้ประสิทธิภาพและ yield ยังตามหลังคู่แข่งระดับโลก
🔬 ความท้าทายด้าน yield และการผลิต
การใช้ DUV multi-patterning หลายชั้นทำให้เกิดความเสี่ยงสูงต่อ line roughness และ defect ซึ่งอาจทำให้ yield ลดลงอย่างมากเมื่อผลิตในปริมาณมาก นี่คือข้อจำกัดสำคัญที่ทำให้ SMIC ยังไม่สามารถแข่งขันกับกระบวนการ EUV ของ TSMC และ Samsung ได้
🌐 ผลกระทบต่ออุตสาหกรรมจีน
แม้ N+3 ยังไม่ใช่ 5nm-class ที่แท้จริง แต่การพัฒนาแสดงให้เห็นว่า จีนยังคงสามารถก้าวหน้าในเทคโนโลยีการผลิตชิปโดยไม่พึ่งพา EUV จากต่างประเทศ ซึ่งเป็นสัญญาณเชิงบวกต่อความพยายามสร้างความเป็นอิสระด้านเซมิคอนดักเตอร์ อย่างไรก็ตาม การแข่งขันกับผู้ผลิตระดับโลกยังคงเป็นความท้าทายใหญ่
📌 สรุปประเด็นสำคัญ
✅ การเปิดตัวชิปใหม่
➡️ Kirin 9030/9030 Pro ใช้กระบวนการ SMIC N+3
➡️ เพิ่มจำนวนคอร์เป็น 12–14 คอร์
✅ เทคโนโลยี N+3
➡️ เป็นการขยายจาก 7nm-class
➡️ ใช้ DUV multi-patterning และ DTCO
✅ ความท้าทาย
➡️ Yield ต่ำจากความซับซ้อนของ DUV
➡️ ยังไม่เทียบเท่า 5nm-class ของ TSMC/Samsung
✅ ผลกระทบเชิงบวก
➡️ แสดงให้เห็นความก้าวหน้าของจีนแม้ถูกคว่ำบาตร
➡️ ลดการพึ่งพาเทคโนโลยี EUV ต่างประเทศ
‼️ คำเตือนและข้อจำกัด
⛔ N+3 ยังไม่ใช่ 5nm-class ที่แท้จริง
⛔ Yield และประสิทธิภาพยังตามหลังคู่แข่งระดับโลก
https://www.tomshardware.com/tech-industry/semiconductors/huaweis-latest-mobile-is-chinas-most-advanced-process-node-to-date-despite-using-blacklisted-chipmaker-huawei-kirin-9030-mobile-soc-made-on-smic-n-3-process-but-cant-compete-with-5nm-nodes
0 ความคิดเห็น
0 การแบ่งปัน
40 มุมมอง
0 รีวิว