⚡🔬 Substrate เปิดตัวเทคโนโลยี X-ray Lithography ด้วยเครื่องเร่งอนุภาค ตั้งเป้าผลิตชิประดับ 2nm ด้วยต้นทุนแค่ 10% ของ EUV! สตาร์ทอัพอเมริกันชื่อ Substrate สร้างความฮือฮาด้วยการพัฒนาเครื่องพิมพ์ชิปแบบใหม่ที่ใช้แหล่งกำเนิดแสงจากเครื่องเร่งอนุภาค แทนที่เทคโนโลยี EUV ของ ASML โดยตั้งเป้าผลิตชิประดับ 2nm-class ด้วยต้นทุนที่ต่ำกว่าถึง 10 เท่า และคุณภาพที่อาจเหนือกว่าในบางด้าน Substrate ไม่ได้ขายเครื่องพิมพ์ชิปให้บริษัทอื่น แต่จะสร้างโรงงานของตัวเองและให้บริการผลิตชิปแบบ foundry โดยใช้ระบบ X-ray Lithography (XRL) ที่พัฒนาเอง ซึ่งใช้แหล่งกำเนิดแสงจากเครื่องเร่งอนุภาคขนาดเล็ก หลักการทำงานคือยิงอิเล็กตรอนด้วยคลื่นวิทยุให้เคลื่อนที่ใกล้ความเร็วแสง แล้วปล่อยผ่านสนามแม่เหล็กที่สลับทิศทาง ทำให้เกิดแสง X-ray ที่มีความเข้มสูงมาก จากนั้นใช้ชุดกระจกสะท้อนแบบ grazing-incidence เพื่อโฟกัสแสงไปยังแผ่นซิลิกอน Substrate อ้างว่าสามารถพิมพ์โครงสร้างขนาด 12nm CD และ 13nm T2T spacing ได้ด้วยความแม่นยำสูง ซึ่งเหนือกว่าเครื่อง EUV รุ่น Low-NA ในปัจจุบัน และอาจลดความจำเป็นในการใช้ multi-patterning ที่ซับซ้อน ✅ เทคโนโลยีของ Substrate ➡️ ใช้เครื่องเร่งอนุภาคสร้างแสง X-ray สำหรับ lithography ➡️ ไม่ใช้ reticle แบบเดิม อาจเป็น direct-write หรือ maskless ➡️ ใช้กระจกสะท้อนแบบ grazing-incidence เพื่อโฟกัสแสง ➡️ พิมพ์โครงสร้างระดับ 2nm-class ได้โดยไม่ต้อง multi-patterning ✅ ผลการทดสอบเบื้องต้น ➡️ พิมพ์ CD ขนาด 12nm และ T2T spacing 13nm ได้ด้วยความแม่นยำสูง ➡️ มีภาพตัวอย่างของ logic contact array และ random vias ➡️ อ้างว่า overlay accuracy ต่ำกว่า 1.6nm และ CDU 0.25nm ✅ เป้าหมายของบริษัท ➡️ สร้างโรงงานของตัวเองในสหรัฐฯ ➡️ ให้บริการผลิตชิปแบบ foundry ไม่ขายเครื่องมือ ➡️ ตั้งเป้าลดต้นทุน wafer จาก $100,000 เหลือ $10,000 ภายในปี 2030 ✅ ความท้าทายที่ยังต้องแก้ ➡️ ต้องพัฒนา photoresist ที่ทนแสง X-ray ได้ ➡️ ต้องผลิตกระจกสะท้อน X-ray แบบ mass production ➡️ ต้องแก้ปัญหา overlay accuracy ให้ต่ำกว่า 1nm ➡️ ต้องพิสูจน์ว่า throughput และ yield เหมาะกับการผลิตจริง https://www.tomshardware.com/tech-industry/semiconductors/american-startup-substrate-promises-2nm-class-chipmaking-with-particle-accelerators-at-a-tenth-of-the-cost-of-euv-x-ray-lithography-system-has-potential-to-surpass-asmls-euv-scanners