🔬 “Intel ทุ่มพันล้านดอลลาร์สั่งเครื่อง High-NA EUV จาก ASML — เดิมพันครั้งใหญ่กับเทคโนโลยี 14A ที่อาจกำหนดอนาคตของอุตสาหกรรมชิป” Intel กำลังเดินเกมครั้งสำคัญในสนามผลิตชิประดับสูง ด้วยการเพิ่มคำสั่งซื้อเครื่องพิมพ์ลายวงจรแบบ High-NA EUV จาก ASML บริษัทเทคโนโลยีลิธอกราฟีจากเนเธอร์แลนด์ ซึ่งถือเป็น “อุปกรณ์ศักดิ์สิทธิ์” ของวงการเซมิคอนดักเตอร์ ด้วยราคาต่อเครื่องสูงถึง 370 ล้านดอลลาร์ และความสามารถในการพิมพ์ลายละเอียดระดับ 8 นาโนเมตรในครั้งเดียว จากเดิมที่ Intel สั่งซื้อเพียงหนึ่งเครื่อง ตอนนี้มีรายงานว่าเพิ่มเป็นสองเครื่อง และอาจใช้เงินลงทุนรวมกว่า 1–2 พันล้านดอลลาร์เฉพาะในส่วนของอุปกรณ์ลิธอกราฟี เพื่อเตรียมพร้อมสำหรับกระบวนการผลิตชิปรุ่นใหม่ที่เรียกว่า “14A” ซึ่งจะเป็นโหนดที่ใช้ High-NA EUV อย่างเต็มรูปแบบเป็นครั้งแรก 14A ถูกวางเป็น “เดิมพันสุดท้าย” ของ Intel Foundry Services (IFS) โดยผู้บริหารระบุชัดว่า หากโหนดนี้ไม่สามารถดึงลูกค้าภายนอกได้มากพอ บริษัทอาจต้องถอนตัวจากการแข่งขันในตลาดชิประดับสูง ซึ่งหมายความว่า 14A ไม่ใช่แค่เทคโนโลยีใหม่ แต่เป็นจุดชี้ชะตาของธุรกิจทั้งแผนก เทคโนโลยี High-NA EUV มีความสามารถเหนือกว่าเครื่อง Low-NA เดิม โดยสามารถลดจำนวนขั้นตอนการผลิตจาก 40 ขั้นตอนเหลือเพียง “หลักหน่วย” และมีความแม่นยำสูงกว่าถึง 1.7 เท่า ซึ่งช่วยเพิ่ม yield และลดต้นทุนในระยะยาว แม้จะมีต้นทุนเริ่มต้นที่สูงมาก Intel ได้เริ่มทดสอบเครื่อง High-NA EUV ที่โรงงาน D1X ในรัฐโอเรกอน และสามารถพิมพ์เวเฟอร์ได้กว่า 30,000 แผ่นในไตรมาสเดียว ซึ่งถือเป็นการทดสอบที่ล้ำหน้ากว่าคู่แข่งอย่าง TSMC และ Samsung ที่ยังใช้ Low-NA EUV เป็นหลัก ✅ ข้อมูลสำคัญจากข่าว ➡️ Intel เพิ่มคำสั่งซื้อเครื่อง High-NA EUV จาก ASML เป็นสองเครื่อง ➡️ เครื่องแต่ละตัวมีราคาประมาณ 370 ล้านดอลลาร์ รวมลงทุนกว่า 1–2 พันล้านดอลลาร์ ➡️ ใช้สำหรับกระบวนการผลิตชิปรุ่นใหม่ “14A” ที่จะใช้ High-NA EUV อย่างเต็มรูปแบบ ➡️ 14A เป็นโหนดที่ Intel วางเป็นจุดชี้ชะตาของธุรกิจ Foundry ➡️ หากไม่สามารถดึงลูกค้าภายนอกได้ อาจต้องถอนตัวจากตลาดชิประดับสูง ➡️ เครื่อง High-NA EUV สามารถพิมพ์ลายละเอียดระดับ 8 นาโนเมตรในครั้งเดียว ➡️ ลดขั้นตอนการผลิตจาก 40 เหลือเพียงหลักหน่วย และเพิ่ม yield อย่างมีนัยสำคัญ ➡️ Intel ทดสอบเครื่องที่โรงงาน D1X และพิมพ์เวเฟอร์ได้กว่า 30,000 แผ่นในไตรมาสเดียว ➡️ คู่แข่งอย่าง TSMC และ Samsung ยังใช้ Low-NA EUV เป็นหลักในโหนดปัจจุบัน ✅ ข้อมูลเสริมจากภายนอก ➡️ 14A ใช้เทคโนโลยี RibbonFET 2 และ PowerDirect ซึ่งช่วยเพิ่มประสิทธิภาพต่อวัตต์ 15–20% ➡️ Turbo Cells ใน 14A เป็นเซลล์พิเศษที่ช่วยให้ CPU/GPU ทำงานเร็วขึ้นโดยไม่เพิ่มพื้นที่หรือพลังงาน ➡️ เครื่อง High-NA EUV รุ่น EXE:5000 จาก ASML เป็นเครื่องพาณิชย์ตัวแรกของโลก ➡️ ASML สามารถพิมพ์เส้นขนาด 10nm ได้สำเร็จในห้องทดลองที่เนเธอร์แลนด์ ➡️ การใช้ High-NA EUV ช่วยลดความซับซ้อนของการพิมพ์ลายแบบหลายชั้น (multi-patterning) https://wccftech.com/intel-reportedly-increases-asml-high-na-euv-equipment-orders/