TSMC ได้ประกาศเริ่มการผลิตชิป N2 (2nm-class) ในปริมาณมากในช่วงครึ่งหลังของปี 2025 โดยเทคโนโลยีนี้ใช้ Gate-All-Around (GAA) nanosheet transistors ซึ่งช่วยเพิ่มประสิทธิภาพ ลดการใช้พลังงาน และเพิ่มความหนาแน่นของทรานซิสเตอร์ นอกจากนี้ TSMC ยังได้เปิดเผยแผนการพัฒนาเทคโนโลยีเพิ่มเติม เช่น N2P และ A16 ที่จะเข้าสู่การผลิตในปี 2026 และ N2X ที่มุ่งเน้นการเพิ่มความเร็วสูงสุดในปี 2027 ✅ การเริ่มต้นการผลิตชิป N2 - ใช้ Gate-All-Around (GAA) nanosheet transistors เพื่อเพิ่มประสิทธิภาพและลดการใช้พลังงาน - ช่วยลดการใช้พลังงานได้ถึง 25–30% และเพิ่มประสิทธิภาพ 10–15% เมื่อเทียบกับ N3E ✅ การพัฒนาเทคโนโลยีเพิ่มเติม - N2P: เพิ่มประสิทธิภาพ 5–10% และลดการใช้พลังงาน 5–10% เมื่อเทียบกับ N2 - A16: ใช้ Super Power Rail (SPR) เพื่อเพิ่มประสิทธิภาพการส่งพลังงาน - N2X: มุ่งเน้นการเพิ่มความเร็วสูงสุดสำหรับ CPU และศูนย์ข้อมูล ✅ การนำไปใช้งานในผลิตภัณฑ์ต่างๆ - AMD EPYC 'Venice' CPUs สำหรับศูนย์ข้อมูล - ชิปสำหรับสมาร์ทโฟน แท็บเล็ต และ PC ของ Apple ในปี 2025 ✅ การตอบสนองของตลาด - N2 มีการนำไปใช้งานในผลิตภัณฑ์ใหม่มากกว่า N5 ถึง 4 เท่าในปีที่สอง https://www.tomshardware.com/tech-industry/tsmcs-2nm-n2-process-node-enters-production-this-year-a16-and-n2p-arriving-next-year