ข่าวนี้เล่าถึงการพัฒนาเทคโนโลยีใหม่ในอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์ โดย Pat Gelsinger อดีต CEO ของ Intel ได้เข้าร่วมกับบริษัท xLight ในฐานะประธานกรรมการบริหาร เพื่อพัฒนาแหล่งกำเนิดแสงแบบ Free Electron Laser (FEL) สำหรับระบบลิโทกราฟี Extreme Ultraviolet (EUV) ซึ่งมีเป้าหมายเพื่อเพิ่มประสิทธิภาพการผลิตชิป xLight กำลังพัฒนาแหล่งกำเนิดแสง FEL ที่ใช้เทคโนโลยีเครื่องเร่งอนุภาค (Particle Accelerator) เพื่อสร้างแสงที่มีความยาวคลื่นสั้นมาก (13.5 นาโนเมตร) ซึ่งเหมาะสำหรับการผลิตชิปที่มีความละเอียดสูงถึง 8 นาโนเมตร เทคโนโลยีนี้มีศักยภาพในการลดต้นทุนการผลิตต่อแผ่นเวเฟอร์ลงถึง 50% และลดค่าใช้จ่ายทั้งด้านทุนและการดำเนินงานถึงสามเท่า นอกจากนี้ xLight ยังตั้งเป้าที่จะทำให้แหล่งกำเนิดแสง FEL นี้สามารถใช้งานร่วมกับเครื่องลิโทกราฟีของ ASML ได้ภายในปี 2028 โดยเทคโนโลยีนี้ยังมีศักยภาพในการนำไปใช้ในด้านอื่นๆ เช่น การตรวจวัดพลังงานสูง การควบคุมเศษซากในอวกาศ และการวิจัยทางการแพทย์ ✅ การพัฒนาแหล่งกำเนิดแสง FEL - ใช้เทคโนโลยีเครื่องเร่งอนุภาคเพื่อสร้างแสงที่มีความยาวคลื่น 13.5 นาโนเมตร - เพิ่มประสิทธิภาพการผลิตชิปที่มีความละเอียดสูงถึง 8 นาโนเมตร ✅ เป้าหมายของ xLight - ลดต้นทุนการผลิตต่อแผ่นเวเฟอร์ลงถึง 50% - ลดค่าใช้จ่ายทั้งด้านทุนและการดำเนินงานถึงสามเท่า ✅ การใช้งานในอนาคต - ใช้งานร่วมกับเครื่องลิโทกราฟีของ ASML ภายในปี 2028 - มีศักยภาพในการนำไปใช้ในด้านพลังงาน อวกาศ และการแพทย์ ℹ️ ข้อจำกัดของเทคโนโลยี FEL - ขนาดของเครื่องเร่งอนุภาคอาจไม่เหมาะสมกับโรงงานผลิตชิปในปัจจุบัน - การพัฒนาเทคโนโลยีนี้อาจต้องใช้เวลาและทรัพยากรเพิ่มเติม ℹ️ ผลกระทบต่ออุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์ - การแข่งขันในอุตสาหกรรมอาจเพิ่มขึ้นจากการพัฒนาเทคโนโลยีใหม่ - ความสำเร็จของ xLight อาจเปลี่ยนแปลงโครงสร้างต้นทุนในอุตสาหกรรม https://www.tomshardware.com/tech-industry/pat-gelsinger-turns-to-particle-accelerators-for-a-new-way-to-make-chips-joins-xlight