Intel ประกาศความสำเร็จในการใช้งานเครื่องมือสร้างชิปด้วยเทคโนโลยี High-NA EUV ของ ASML โดยเครื่องมือ Twinscan EXE:5000 ได้ถูกติดตั้งและใช้งานในศูนย์พัฒนา D1 ของ Intel ใกล้ Hillsboro, Oregon ตั้งแต่ปีที่แล้ว และจนถึงขณะนี้ Intel ได้ทำการประมวลผลแผ่นเวเฟอร์มากถึง 30,000 แผ่นด้วยเครื่องมือเหล่านี้ Intel เป็นบริษัทแรกที่ได้รับเครื่องจักร High-NA EUV ซึ่งมีราคาประมาณ 350 ล้านยูโรต่อเครื่อง เครื่องมือเหล่านี้ถูกใช้ในการพัฒนาและทดสอบการผลิตชิปขนาด 1.4 นาโนเมตร ซึ่งถือเป็นก้าวสำคัญในการพัฒนาเทคโนโลยีใหม่ๆ ที่ทำให้ Intel มีข้อได้เปรียบเหนือคู่แข่งในตลาด เครื่องมือ Twinscan EXE:5000 ของ ASML สามารถทำความละเอียดได้สูงถึง 8 นาโนเมตรในการทำงานเพียงครั้งเดียว ซึ่งเป็นการปรับปรุงที่สำคัญเมื่อเทียบกับระบบ Low-NA EUV ที่มีความละเอียดที่ 13.5 นาโนเมตร เครื่องมือ High-NA EUV ยังลดเวลาการผลิตและปรับปรุงประสิทธิภาพให้สูงขึ้น แม้ว่าเครื่องมือ Twinscan EXE:5000 จะยังคงเป็นเครื่องมือก่อนการผลิตที่ไม่ได้ออกแบบมาสำหรับการผลิตในปริมาณมาก แต่ Intel ได้รายงานว่าเครื่องมือเหล่านี้มีความน่าเชื่อถือมากกว่าเครื่องมือรุ่นก่อนหน้า การที่ Intel นำเครื่องมือ High-NA EUV มาใช้งานก่อนคู่แข่งนั้นมีความสำคัญมาก เพราะช่วยให้บริษัทสามารถพัฒนาเทคโนโลยีใหม่ๆ ที่อาจกลายเป็นมาตรฐานอุตสาหกรรมในอนาคตได้ นอกจากนี้ Intel ยังให้ข้อมูลกลับไปยัง ASML เพื่อช่วยพัฒนาเครื่องมือรุ่นใหม่ต่อไป การพัฒนาเทคโนโลยี High-NA EUV เป็นก้าวสำคัญที่ทำให้ Intel ก้าวขึ้นเป็นผู้นำในการผลิตชิปในยุคใหม่นี้ และแสดงให้เห็นถึงความมุ่งมั่นของบริษัทในการพัฒนาเทคโนโลยีที่ทันสมัยและมีประสิทธิภาพสูง https://www.tomshardware.com/tech-industry/intel-has-processed-30-000-wafers-with-high-na-euv-chipmaking-tool