Rapidus บริษัทเซมิคอนดักเตอร์ของญี่ปุ่น ได้ประกาศแผนการขยายโรงงานผลิตชิป โดยจะติดตั้งเครื่องมือการผลิตที่ใช้เทคโนโลยี EUV (Extreme Ultraviolet) จำนวน 10 เครื่องในสองโรงงานที่ทันสมัยที่สุดของพวกเขา การขยายโรงงานนี้ได้รับการสนับสนุนจากรัฐบาลญี่ปุ่นเพื่อเสริมสร้างอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์ของประเทศ โรงงานแรกที่ชื่อว่า Innovative Integration for Manufacturing One (IIM-1) ได้รับเครื่อง EUV เครื่องแรกจาก ASML รุ่น NXE:3800E ในเดือนธันวาคมที่ผ่านมา ซึ่งเป็นการเปิดตัวเทคโนโลยีนี้ในญี่ปุ่น โรงงานที่สองชื่อว่า IIM-2 คาดว่าจะเริ่มดำเนินการไม่นานหลังจาก IIM-1 เสร็จสมบูรณ์ Rapidus มีแผนที่จะเริ่มการทดลองผลิตชิปที่ใช้เทคโนโลยี 2 นาโนเมตรในเดือนเมษายน 2025 และคาดว่าจะส่งตัวอย่างแรกให้กับ Broadcom ในสหรัฐอเมริกาภายในกลางปีนี้ การที่ Rapidus สามารถติดตั้งเครื่อง EUV จำนวนมากได้แสดงให้เห็นถึงความก้าวหน้าของอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์ของญี่ปุ่น และการสนับสนุนจากรัฐบาลในการพัฒนาเทคโนโลยีขั้นสูงนี้จะช่วยให้ญี่ปุ่นสามารถแข่งขันกับบริษัทชั้นนำอย่าง TSMC ได้ https://www.techpowerup.com/331843/rapidus-fab-expansion-plan-reportedly-includes-installation-of-ten-euv-machines