Lawrence Livermore National Laboratory (LLNL) กำลังพัฒนาเลเซอร์ชนิดใหม่ที่เรียกว่า Big Aperture Thulium (BAT) ซึ่งมีประสิทธิภาพสูงกว่าเลเซอร์ CO2 ที่ใช้ในระบบลิโธกราฟี EUV (Extreme Ultraviolet) ถึง 10 เท่า เลเซอร์ BAT นี้สามารถเพิ่มประสิทธิภาพการแปลงพลังงานเป็นแสง EUV ได้มากขึ้น ซึ่งจะช่วยให้การผลิตชิปมีความรวดเร็วและใช้พลังงานน้อยลง ระบบลิโธกราฟี EUV ปัจจุบันใช้พลังงานสูงมาก เนื่องจากต้องใช้เลเซอร์พลังงานสูงในการระเหยหยดดีบุกเพื่อสร้างพลาสมาที่ปล่อยแสง EUV ทีมวิจัยของ LLNL กำลังทดสอบว่าเทคโนโลยี BAT สามารถเพิ่มประสิทธิภาพการใช้พลังงานของระบบ EUV ปัจจุบันได้หรือไม่ เลเซอร์ BAT ใช้เทคโนโลยี diode-pumped solid-state ซึ่งมีประสิทธิภาพทางไฟฟ้าและการจัดการความร้อนที่ดีกว่าเลเซอร์ CO2 https://www.tomshardware.com/tech-industry/american-lab-is-developing-a-bat-laser-that-could-enable-beyond-euv-lithography-provide-10x-power-efficiency-boost