รัสเซียเปิดเผยแผนพัฒนาเครื่องมือการผลิตชิป EUV (Extreme Ultraviolet) ของตนเอง มีเป้าหมายที่จะสร้างอุปกรณ์ที่มีต้นทุนต่ำและซับซ้อนน้อยกว่าเครื่องมือของ ASML เครื่องมือเหล่านี้จะใช้เลเซอร์ที่มีความยาวคลื่น 11.2 นาโนเมตร แทนที่จะเป็น 13.5 นาโนเมตรที่ใช้โดย ASML การพัฒนาเครื่องมือ EUV ของรัสเซียจะดำเนินการในสามขั้นตอน: 1) จะเน้นการวิจัยพื้นฐานและทดสอบส่วนประกอบเบื้องต้น. 2) จะสร้างต้นแบบที่สามารถประมวลผลเวเฟอร์ขนาด 200 มม. ได้ 60 แผ่นต่อชั่วโมง 3) จะพัฒนาระบบที่พร้อมใช้งานในโรงงานที่สามารถประมวลผลเวเฟอร์ขนาด 300 มม. ได้ 60 แผ่นต่อชั่วโมง https://www.tomshardware.com/tech-industry/russia-plans-euv-chipmaking-tools-that-it-says-will-be-cheaper-and-easier-to-build-than-asmls-country-outlines-new-roadmap-to-smaller-chips