จีนกำลังพัฒนาห่วงโซ่อุปทานของการผลิตชิปที่สำคัญของจีน โดยเฉพาะการพัฒนาโฟโตเรซิสต์ที่มีความบริสุทธิ์สูงสำหรับการผลิตชิปในระดับการผลิตขั้นสูง ในปี 2024 จีนได้ก้าวหน้าอย่างมากในการพัฒนาโฟโตเรซิสต์ โดยได้รับการสนับสนุนจากรัฐบาลและความต้องการที่เพิ่มขึ้นจากผู้ผลิตชิปในประเทศ โฟโตเรซิสต์สำหรับการผลิตเซมิคอนดักเตอร์ถูกจัดประเภทตามความยาวคลื่นของการเปิดรับแสง เช่น KrF (248nm), ArF (193nm), และ EUV (13.5nm) ซึ่งเป็นโฟโตเรซิสต์ที่บริสุทธิ์และทันสมัยที่สุด ตลาดโลกถูกครอบครองโดยผู้เล่นหลักจากญี่ปุ่นและสหรัฐฯ เช่น JSR, Tokyo Ohka Kogyo, Shin-Etsu Chemical, Sumitomo Chemical, Fujifilm, และ DuPont บริษัทจีน เช่น Shanghai Sinyang, Rachem, และ Bcpharma ได้ทำความก้าวหน้าในโฟโตเรซิสต์ระดับเริ่มต้น แต่ยังคงประสบปัญหาในการแข่งขันในตลาดระดับสูงเนื่องจากความท้าทายทางเทคนิคและการเริ่มต้นที่ล่าช้า อย่างไรก็ตาม บริษัทจีนบางแห่งกำลังทำความก้าวหน้าในโฟโตเรซิสต์ขั้นสูง เช่น Hubei Dinglong ที่เพิ่งประกาศว่าโฟโตเรซิสต์ ArF และ KrF ของพวกเขาผ่านการประเมินจากลูกค้าและได้รับคำสั่งซื้อจากผู้ผลิตเวเฟอร์ในประเทศสองราย รวมมูลค่ากว่า 1 ล้านหยวน หรือ 137,000 ดอลล่าร์สหรัฐฯ https://www.tomshardware.com/tech-industry/china-developing-critical-chipmaking-supply-chains-photoresist-ecosystem-emerges-for-arf-and-krf-lasers